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本实用新型公开了一种镀膜装置，所述镀膜装置具有真空腔室，在真空腔室中，在基板支架的两侧分别安装第一靶材组件和第二靶材组件，第一靶材组件和第二靶材组件相对设置，可以保证待镀膜基板的第一表面和第二表面同时镀膜，提高镀膜效率，并且，在第一靶材组件...
该专利属于江西沃格光电股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江西沃格光电股份有限公司授权不得商用。

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