聚酰亚胺树脂、清漆及聚酰亚胺薄膜制造技术

聚酰亚胺树脂，其具有源自四羧酸二酐的结构单元A及源自二胺的结构单元B，结构单元A包含选自由源自下述式(a‑1)所示的化合物的结构单元(A‑1)、及源自下述通式(a‑2)所示的化合物的结构单元(A‑2)组成的组中的至少1种结构单元，结构单元B包含源自下述式(b‑1)所示的化合物的结构单元(B‑1)、及源自下述通式(b‑2)所示的化合物的结构单元(B‑2)。式中，X表示单键或氧原子，Ar表示取代或非取代的亚芳基。式中，Z

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】聚酰亚胺树脂、清漆及聚酰亚胺薄膜
本专利技术涉及聚酰亚胺树脂、清漆及聚酰亚胺薄膜。
技术介绍
对聚酰亚胺树脂在电气/电子部件等领域中的各种利用进行了研究。例如，以装置的轻量化、挠性化为目的，期望将液晶显示器、OLED显示器等图像显示装置中使用的玻璃基板替换为塑料基板，正在进行适于作为该塑料基板的聚酰亚胺薄膜的研究。对这样的用途的聚酰亚胺薄膜要求高透明性。另外，对在玻璃支撑体、硅晶圆上涂布的清漆进行加热固化而形成聚酰亚胺薄膜时，聚酰亚胺薄膜中会产生残留应力。聚酰亚胺薄膜的残留应力大时，玻璃支撑体、硅晶圆会发生翘曲的问题，因此对聚酰亚胺薄膜还要求残留应力的减少。进而，作为聚酰亚胺薄膜的需求特性，要求基于双折射的相位差小、延迟量低。专利文献1中，作为提供低残留应力的薄膜的聚酰亚胺树脂，公开了使用α,ω-氨基丙基聚二甲基硅氧烷及4,4’-二氨基二苯基醚作为二胺成分而合成的聚酰亚胺树脂。专利文献2中，作为低残留应力的聚酰亚胺薄膜，公开了对使用双三氟甲基联苯胺、及含硅二胺类作为二胺成分而合成的聚酰亚胺树脂前体进行酰亚胺化而形本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种聚酰亚胺树脂，其具有：源自四羧酸二酐的结构单元A及源自二胺的结构单元B，其中，/n结构单元A包含选自由源自下述式(a-1)所示的化合物的结构单元(A-1)、及源自下述通式(a-2)所示的化合物的结构单元(A-2)组成的组中的至少一种结构单元，/n结构单元B包含源自下述式(b-1)所示的化合物的结构单元(B-1)、及源自下述通式(b-2)所示的化合物的结构单元(B-2)，/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181116 JP 2018-2158261.一种聚酰亚胺树脂，其具有：源自四羧酸二酐的结构单元A及源自二胺的结构单元B，其中，
结构单元A包含选自由源自下述式(a-1)所示的化合物的结构单元(A-1)、及源自下述通式(a-2)所示的化合物的结构单元(A-2)组成的组中的至少一种结构单元，
结构单元B包含源自下述式(b-1)所示的化合物的结构单元(B-1)、及源自下述通式(b-2)所示的化合物的结构单元(B-2)，



式(a-1)中，X表示单键或氧原子，式(a-2)中，Ar表示取代或非取代的亚芳基，



式(b-2)中，Z1及Z2分别独立地表示2价脂肪族基团、或2价芳香族基团，R1及R2分别独立地表示1价芳香族基团、或1价脂肪族基团，R3及R4分别独立地表示1价脂肪族基团，R5及R6分别独立地表示1价脂肪族基团或1价芳香族基团，m及n分别独立地表示1以上的整数，m与n的和表示2～1000的整数，其中，R1及R2中的至少一者表示1价芳香族基团。


2.根据权利要求1所述的聚酰亚胺树脂，其中，结构单元(A-1)包含选自由源自下述式(a-1-1)所示的化合物的结构单元、及源自下述式(a-1-2)所示的化合物的结构单元组成的组中的至少一种结构单元，




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【专利技术属性】
技术研发人员：安孙子洋平，大东葵，关口慎司，
申请(专利权)人：三菱瓦斯化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP