利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法技术

本发明专利技术实施例涉及一种利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法，包括以下步骤：使用涂布有光刻胶且已过期的空白原材，按照常规的黄光制程进行曝光、显影、蚀刻和脱膜作业；根据光刻胶确定烘烤参数，并根据所述烘烤参数在曝光和显示两工序之间或者在显影和蚀刻两工序之间对原材进行烘烤作业。本发明专利技术实施例通过在使用已过期的空白原材制作光罩的过程中增加一道烘烤工序，而可以有效改善因空白原材上的光刻胶保护性能降低所带来的光罩针孔和线边缺口问题，无论在针孔和线边缺口的数量还是尺寸大小上，都有显著的改善，可有效减小原材报废量，降低光罩制造成本。

【技术实现步骤摘要】
利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法
本专利技术实施例涉及光罩制造
，尤其是指一种利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法。
技术介绍
掩膜版制造行业所用的空白(blank)原材，需先涂布光刻胶(也叫光阻、感光剂)，然后才能进行曝光制作光罩(mask)。各种光刻胶本身，都具有一定的有效期，所以，经过涂布后的blank原材也具有一定的保存期限，如苏打玻璃基板涂布AZ1500胶型，blank原材有效期为3个月左右，一旦超过有效期，光刻胶的保护性能就会下降，且随着时间的延长而加剧，这就给后续光罩制造带来了很大的隐患，尤其是针孔和线边缺口问题，会非常突出。在实际生产中，针对上述缺陷，通常采用LCVD工艺对这些缺陷进行修补处理。但是，如果针孔和线边缺口的数量过多或尺寸过大，会大幅增加LCVD修补的工作量，牢固性也无法得到保障，且还会影响交期。而且，一旦针孔和线边缺口的数量过多或尺寸多大，采用LCVD工艺难以有效修补，只能做报废处理，直接增加光罩制造成本。
技术实现思路
本专利技术实施例要解决的技术问题在于，提本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法，其特征在于，包括以下步骤：使用涂布有光刻胶且已过期的空白原材，按照常规的黄光制程进行曝光、显影、蚀刻和脱膜作业；/n根据光刻胶确定烘烤参数，并根据所述烘烤参数在曝光和显示两工序之间或者在显影和蚀刻两工序之间对原材进行烘烤作业。/n

【技术特征摘要】
1.一种利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法，其特征在于，包括以下步骤：使用涂布有光刻胶且已过期的空白原材，按照常规的黄光制程进行曝光、显影、蚀刻和脱膜作业；
根据光刻胶确定烘烤参数，并根据所述烘烤参数在曝光和显示两工序之间或者在显影和蚀刻两工序之间对原材进行烘烤作业。


2.如权利要求1所述的利用涂布有光刻胶的过期空白原材制造光罩的方法，其特征在于，所述烘烤作业的烘烤温度为110℃～130℃，烘烤时间为20min～45min。...

【专利技术属性】
技术研发人员：杜武兵，林伟，司继伟，
申请(专利权)人：深圳市路维光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44