掩膜板的制备方法、显示基板的制备方法技术

本发明专利技术提供一种掩膜板的制备方法、显示基板的制备方法，属于掩膜板制备技术领域。本发明专利技术的掩膜板的制备方法，包括：形成图案化的过渡掩膜板；通过预设工艺对所述过渡掩膜板的部分位置施加预应力；对所述过渡掩膜板执行张网操作，以形成最终掩膜板。

Preparation method of mask plate and display substrate

【技术实现步骤摘要】
掩膜板的制备方法、显示基板的制备方法
本专利技术属于掩膜板制备
，具体涉及一种掩膜板的制备方法、显示基板的制备方法。
技术介绍
现有的显示面板的制备过程中，多个步骤都需要用到掩膜板(Mask)。例如，在AMOLED(Active-matrixorganiclight-emittingdiode；有源矩阵有机发光二极体面板)薄膜封装技术中，会采用金属Mask对无机封装层进行图案化。由于金属Mask在重力作用下会有下垂现象，需要张网时被拉平，金属Mask中各处均存在下垂和拉平两种变形作用。其中，凸出的开口(Notch)处的变形量至关重要，但是目前的金属Mask在张网后，不同位置的Notch处仍会出现下垂或者上翘等情况。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种能够提高掩膜板平整度的掩膜板的制备方法。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是一种掩膜板的制备方法，包括：形成图案化的过渡掩膜板；通过预设工艺对所述过渡掩膜板的部分位置施加预应力；对所述过渡掩膜板执行本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜板的制备方法，其特征在于，包括：/n形成图案化的过渡掩膜板；/n通过预设工艺对所述过渡掩膜板的部分位置施加预应力；/n对所述过渡掩膜板执行张网操作，以形成最终掩膜板。/n

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板的制备方法，其特征在于，包括：
形成图案化的过渡掩膜板；
通过预设工艺对所述过渡掩膜板的部分位置施加预应力；
对所述过渡掩膜板执行张网操作，以形成最终掩膜板。


2.根据权利要求1所述的掩膜板的制备方法，其特征在于，所述预设工艺包括感应淬火、激光淬火、喷丸工艺中的至少一者。


3.根据权利要求1所述的掩膜板的制备方法，其特征在于，所述预设工艺包括感应淬火；所述通过预设工艺对所述过渡掩膜板的部分位置施加预应力，形成最终掩膜板的步骤包括：
利用涡流，将所述过渡掩膜板加热至预设温度；
通过氮气冷去工艺对所述过渡掩膜板的部分位置施加预应力，使冷却后的所述过渡掩膜板形成最终掩膜板。


4.根据权利要求1所述的掩膜板的制备方法，其特征在于，所述预设工艺包括喷丸工艺；在形成所述最终掩膜板之后，还包括：对所述最终掩膜板进行张网操作。


5.根据权利要求1所述的掩膜板的制备方法，其特征在于，所述预设工艺包括喷...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋志亮，王威，王世龙，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11