一种新型结构的双面光掩膜版及其制作方法技术

本发明专利技术公开了一种新型结构的双面光掩膜版及其制作方法，包括以下步骤：清洗玻璃基板；在玻璃基板的两侧均镀上铬金属层；在正面旋涂上光刻胶；进行正面曝光；在玻璃基板背面贴上保护膜；对玻璃基板正面进行显影；对玻璃基板正面进行冲洗并蚀刻；去除玻璃基板正面残余的光刻胶；去除玻璃基板背面的保护膜；对玻璃基板进行双面清洗；在玻璃基板背面旋涂光刻胶；然后进行曝光；重复步骤S5～S10，最终制作完成双面光掩膜版。采用本方案，通过制作出带双面图案的光掩膜版，使双面都有图案，并建立在同一基板上，在受温度波动影响时，双面图形在同一条件下变化，不影响两面图形叠加时的套刻精度；并且两种图形使用一张基板，可以降低光掩膜版基板成本。膜版基板成本。膜版基板成本。

【技术实现步骤摘要】
一种新型结构的双面光掩膜版及其制作方法


[0001]本专利技术涉及集成电路制造
，具体涉及一种新型结构的双面光掩膜版及其制作方法。

技术介绍

[0002]光掩膜版是由石英玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻。
[0003]传统光掩膜版制作工艺只能制作出单面带图案的光掩膜版，通过单面图案形成遮掩效果，其主要应用在平板显示行业和集成电路制造行业，但随着技术发展，单面图案的光掩膜版，其高成本制作已逐渐不能适应一些新型光学器件开发、装备制造、特殊曝光工艺加工等行业中。

技术实现思路

[0004]本专利技术为解决现有技术的不足，目的在于提供一种新型结构的双面光掩膜版及其制作方法，采用本方案，通过制作出带双面图案的光掩膜版，使双面都有图案，并建立在同一基板上，在受温度波动影响时，双面图形在同一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种新型结构的双面光掩膜版，包括玻璃基板，其特征在于，所述玻璃基板的两侧面均带有光掩膜面，所述光掩膜面由镀上的铬金属层以及涂布的光刻胶显影蚀刻而成。2.根据权利要求1所述的一种新型结构的双面光掩膜版，其特征在于，所述玻璃基板的两侧面的光掩膜面均为半透光铬层，所述半透光铬层中镀上的铬金属层的厚度可调。3.根据权利要求2所述的一种新型结构的双面光掩膜版，其特征在于，所述玻璃基板上两侧的光掩膜面呈高度渐变的多层次结构图案。4.根据权利要求3所述的一种新型结构的双面光掩膜版，其特征在于，所述光掩膜面呈高度渐变的多层阶梯结构图案。5.根据权利要求3所述的一种新型结构的双面光掩膜版，其特征在于，所述光掩膜面呈高度渐变的斜坡结构图案。6.根据权利要求1～5任意一项所述的一种新型结构的双面光掩膜版的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：清洗玻璃基板；S2：在玻璃基板的两侧均镀上铬金属层；S3：再次清洗后，在正面旋涂上光刻胶；S4：通过直写式光刻机进行正面曝光，曝光图形上要加十字对位标记；S5：在玻璃基板背面贴上保护膜；S6：对玻璃基板正面进行显影；S7：对玻璃...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘玉闯，司继伟，杜武兵，
申请(专利权)人：深圳市路维光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：