紧凑型对准传感器布置制造技术

一种用于确定衬底的对准的设备和系统，其中，利用空间相干辐射照射周期性对准标记，然后将所述空间相干辐射照射提供给紧凑集成光学器件以创建对准标记的自身图像，该图像可以被操纵(例如进行镜像、偏振)和合并以获取与标记位置和标记内变形有关的信息。还公开了一种用于确定衬底的对准的系统，其中，利用空间相干辐射照射周期性对准标记，然后将所述空间相干辐射照射提供给光纤布置以获得诸如标记的位置和标记内的变形之类的信息。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】紧凑型对准传感器布置相关申请的交叉引用本申请要求于2018年8月29日提交的美国临时专利申请号62/724,198的优先权，该美国临时专利申请的全部内容通过引用的方式并入本文中。
本公开涉及使用光刻技术来制造器件。具体地，本公开涉及用于感测和分析掩模版和晶片上的对准标记以表征和控制半导体光学光刻过程的装置。
技术介绍
光刻设备可以用于例如制造集成电路(IC)。对于该应用，可以将图案形成装置(可替代地称为“掩模”或“掩模版”)用于生成要形成在IC的单层上的电路图案。可以将这种图案转移到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括管芯的一部分、一个管芯或若干个管芯)上。通常通过成像到在衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来进行图案的转印。通常，单个衬底将包含被连续地图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括：所谓的步进器，其中，通过将整个图案一次曝光到目标部分上来辐照每个目标部分；以及所谓的扫描器，其中，通过在辐射束沿给定方向(“扫描”方向)来扫描图案的同时同步地平行于或反向平行于该方向扫描衬底，来辐照每个目标部分。通过将本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于感测包括在衬底上的光栅的对准图案的设备，所述设备包括：/n至少一个光源，用于生成第一相干辐射束和第二相干辐射束，所述第一相干辐射束从第一角度照射所述光栅的一部分，所述第二相干辐射束从第二角度照射所述光栅的所述部分，所述第一相干辐射束和第二相干辐射束被所述光栅的所述部分衍射；以及/n多模干涉装置，包括：/n第一输入端口，被布置为接收由所述光栅部分来衍射的所述第一相干辐射束的正衍射阶和所述第二相干辐射束的正衍射阶；/n第二输入端口，被布置为接收由所述光栅部分来衍射的所述第一相干辐射束的负衍射阶和所述第二相干辐射束的负衍射阶；/n第一输出端口，被布置为输出第一空间叠置图像，所述第一空间叠...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180829 US 62/724,1981.一种用于感测包括在衬底上的光栅的对准图案的设备，所述设备包括：
至少一个光源，用于生成第一相干辐射束和第二相干辐射束，所述第一相干辐射束从第一角度照射所述光栅的一部分，所述第二相干辐射束从第二角度照射所述光栅的所述部分，所述第一相干辐射束和第二相干辐射束被所述光栅的所述部分衍射；以及
多模干涉装置，包括：
第一输入端口，被布置为接收由所述光栅部分来衍射的所述第一相干辐射束的正衍射阶和所述第二相干辐射束的正衍射阶；
第二输入端口，被布置为接收由所述光栅部分来衍射的所述第一相干辐射束的负衍射阶和所述第二相干辐射束的负衍射阶；
第一输出端口，被布置为输出第一空间叠置图像，所述第一空间叠置图像包括被所述第一相干辐射束照射的所述光栅部分的图像和被所述第二相干辐射束照射的所述光栅部分的镜像；和
第二输出端口，被布置为输出第二空间叠置图像，所述第二空间叠置图像包括被所述第二相干辐射束照射的所述光栅部分的图像和被所述第一相干辐射束照射的所述光栅部分的镜像。


2.如权利要求1所述的设备，还包括：
第一检测器，被布置为接收所述第一空间叠置图像，并生成指示所述第一空间叠置图像的强度的第一信号；以及
第二检测器，被布置为接收所述第二空间叠置图像，并生成指示所述第二空间叠置图像的强度的第二信号。


3.如权利要求2所述的设备，还包括处理器，所述处理器被布置为接收所述第一信号和所述第二信号，并且被配置为至少部分地基于所述第一信号和所述第二信号确定所述光栅的所述部分的特性。


4.一种用于感测包括在衬底上的光栅的对准图案的设备，所述设备包括：
至少一个光源，用于生成第一相干辐射束和第二相干辐射束，所述第一相干辐射束从第一角度照射所述光栅的一部分，所述第二相干辐射束从第二角度照射所述光栅的所述部分，所述第一相干辐射束和第二相干辐射束被所述光栅的所述部分衍射；以及
多个多模干涉装置，所述多模干涉装置中的每一个与所述光栅部分的对应段相邻地布置并且包括
第一输入端口，被布置为接收由所述光栅部分的对应段衍射的所述第一相干辐射束的正衍射阶和所述第二相干辐射束的正衍射阶；
第二输入端口，被布置为接收由所述光栅部分的对应段衍射的所述第一相干辐射束的负衍射阶和所述第二相干辐射束的负衍射阶；
第一输出端口，被布置为输出第一空间叠置图像，所述第一空间叠置图像包括被所述第一相干辐射束照射的所述光栅部分的段的图像和被所述第二相干辐射束照射的所述光栅部分的段的镜像；和
第二输出端口，被布置为输出第二空间叠置图像，所述第二空间叠置图像包括被所述第二相干辐射束照射的所述光栅部分的段的图像和被所述第一相干辐射束照射的所述光栅部分的段的镜像。


5.如权利要求4所述的设备，其中，所述多个多模干涉装置被布置为与所述光栅的所述部分平行的线性阵列。


6.如权利要求4所述的设备，还包括：
多个第一检测器，所述多个第一检测器各自被布置为接收所述第一空间叠置图像，并生成指示所述第一空间叠置图像的强度的第一信号；以及
多个第二检测器，所述多个第二检测器各自被布置为接收所述第二空间叠置图像，并生成指示所述第二空间叠置图像的强度的第二信号。


7.如权利要求6所述的设备，还包括处理器，所述处理器被布置为接收所述第一信号和所述第二信号，并且被配置为至少部分地基于所述第一信号和所述第二信号确定所述光栅的所述部分的特性。


8.一种用于感测包括在衬底上的光栅的对准图案的设备，所述设备包括：
至少一个光源，用于生成第一相干辐射束和第二相干辐射束，所述第一相干辐射束从第一角度照射所述光栅的一部分，所述第二相干辐射束从第二角度照射所述光栅的所述部分，所述第一相干辐射束和第二相干辐射束被所述光栅的所述部分衍射；以及
基于光纤的装置，包括
第一输入端口，被布置为接收由所述光栅部分来衍射的所述第一相干辐射束的正衍射阶和所述第二相干辐射束的正衍射阶；
第二输入端口，被布置为接收由所述光栅部分来衍射的所述第一相干辐射束的负衍射阶和所述第二相干辐射束的负衍射阶；
第一输出端口，被布置为输出第一空间叠置图像，所述第一空间叠置图像包括来自所述负衍射阶的p偏振图像和来自所述正衍射阶的s偏振图像；和
第二输出端口，被布置为输出第二空间叠置图像，所述第二空间叠置图像包括来自所述负衍射阶的s偏振图像和来自所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：T·M·T·A·M·埃拉扎里，J·L·克勒泽，F·G·C·比基恩，K·肖梅，
申请(专利权)人：ASML控股股份有限公司，ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL