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一种用于确定衬底的对准的设备和系统，其中，利用空间相干辐射照射周期性对准标记，然后将所述空间相干辐射照射提供给紧凑集成光学器件以创建对准标记的自身图像，该图像可以被操纵(例如进行镜像、偏振)和合并以获取与标记位置和标记内变形有关的信息。还公...该专利属于ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司授权不得商用。