一种用于进气管居中性校准工装制造技术

本实用新型专利技术涉及一种用于进气管居中性校准工装，包括相配合使用的校准螺杆和校准环；校准环为圆柱体，校准环的中心有一通孔，校准环的边缘均布有四个定位孔，四个校准螺杆分别与四个定位孔连接，四个校准螺杆的尾部位于通孔内。本实用新型专利技术提供的用于进气管居中性校准工装，校准环将进气内管控制在居中位置，校准螺杆拧入后将进气内管固定，使内进气管在外进气管居中位置，使反应气体的气流分布均匀，充分利用炉内反应气体，改善大坩埚的表面厚度均匀性，提高反应气体的利用率。

【技术实现步骤摘要】
一种用于进气管居中性校准工装
本技术涉及一种用于进气管居中性校准工装，尤其涉及一种用于化学气相沉积过程中进气管居中校准的工装，属于化学气相沉积

技术介绍
化学气相沉积(以下简称为CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。目前CVD
中定制化产品种类多，规格也是多种多样，其中进气管居中性校准属于本领域中的一个难点，这是因为进气管套管不在居中位置，会导致气流的分布均匀性差，反应气体比例不均匀，这样会导致CVD产品出现非常大的厚度差，严重影响产品的良品率。经检索未发现有相关技术报道，因此，设计一种专用于进气管居中性校准工装，使其反应气体的气流分布均匀的装置是非常有必要的。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本技术提供一种用进气管居中性校准工装，利用该进气管校准工装可以最大限度提高反应气体的气流分布均匀性，改善产品的厚度均匀性。本技术的技术方案如下：一种用于进气管居中性校本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于进气管居中性校准工装，其特征在于，包括相配合使用的校准螺杆和校准环；校准环为圆柱体，校准环的中心有一通孔，校准环的边缘均布有四个定位孔，四个校准螺杆分别与四个定位孔连接，四个校准螺杆的尾部位于通孔内。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于进气管居中性校准工装，其特征在于，包括相配合使用的校准螺杆和校准环；校准环为圆柱体，校准环的中心有一通孔，校准环的边缘均布有四个定位孔，四个校准螺杆分别与四个定位孔连接，四个校准螺杆的尾部位于通孔内。


2.如权利要求1所述的用于进气管居中性校准工装，其特征在于，所述校准螺杆的主体直径为20-100mm，高度为100-800mm。


3.如权利要求1所述的用...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘汝强，王殿春，刘斌，窦松德，周清波，
申请(专利权)人：山东国晶新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：山东;37