曝光系统的控制方法和曝光系统技术方案

本发明专利技术提出了一种曝光系统的控制方法和曝光系统，该方法包括：获取曝光系统的感光材料的曝光剂量输入值，其中，曝光剂量输入值小于曝光剂量阈值；根据曝光剂量输入值控制激光器的输出功率；根据曝光剂量输入值确定运动平台的扫描步长；根据扫描步长控制空间光调制器或激光器，以及，根据扫描步长获得空间光调制器的显示时长或激光器打开时长；在每个扫描步长内，检测到曝光时长达到显示时长或打开时长，控制空间光调制器或激光器关闭。本发明专利技术实施例的曝光系统的控制方法可以最大化利用激光器功率，提高曝光系统的产能，并解决扫描步长增大造成的曝光拖影问题，提高曝光质量。

【技术实现步骤摘要】
曝光系统的控制方法和曝光系统
本专利技术涉及无掩模光刻领域，尤其是涉及一种曝光系统的控制方法和曝光系统。
技术介绍
无掩模光刻，又称为激光直写成像技术(LaserDirectImaging，LDI)，是利用空间光调制器(SpacialLightModulator，SLM)将曝光图形转移到感光材料上成像的技术。扫描式曝光系统是采用运动平台匀速运动，并以一定的扫描步长刷新空间光调制器实现的曝光。扫描式曝光系统的产能由运动平台的扫描速度决定，而运动平台的扫描速度由空间光调制器刷新频率和运动平台的扫描步长乘积决定。空间光调制器的刷新频率受限器件本身性能限制，提高空间光调制器刷新频率提高运动平台扫描速度可行性较低。因此可通过提高运动平台扫描步长提高扫描速度，但由于一个扫描步长内空间光调制未刷新，而运动平台匀速运动造成拖影，影响图形曝光质量。扫描式系统曝光时，小剂量的感光材料激光器采用较小输出功率，大剂量的感光材料采用较大的输出功率，对于不同的感光材料激光器的输出功率不同。对于小剂量的感光材料，激光器功率可能会出现富余，造成激光器功率浪费。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光系统的控制方法，其特征在于，所述曝光系统包括控制器、激光器、空间光调制器、物镜、运动平台和涂有感光材料的基板，所述控制方法包括：/n获取所述曝光系统的感光材料的曝光剂量输入值，其中，所述曝光剂量输入值小于曝光剂量阈值；/n根据所述曝光剂量输入值控制所述激光器的输出功率；/n根据所述曝光剂量输入值确定所述运动平台的扫描步长；/n根据所述扫描步长控制所述空间光调制器或激光器，以及，根据所述扫描步长获得所述空间光调制器的显示时长或激光器打开时长；/n在每个所述扫描步长内，检测到曝光时长达到所述显示时长或打开时长，控制所述空间光调制器或所述激光器关闭。/n

【技术特征摘要】
1.一种曝光系统的控制方法，其特征在于，所述曝光系统包括控制器、激光器、空间光调制器、物镜、运动平台和涂有感光材料的基板，所述控制方法包括：
获取所述曝光系统的感光材料的曝光剂量输入值，其中，所述曝光剂量输入值小于曝光剂量阈值；
根据所述曝光剂量输入值控制所述激光器的输出功率；
根据所述曝光剂量输入值确定所述运动平台的扫描步长；
根据所述扫描步长控制所述空间光调制器或激光器，以及，根据所述扫描步长获得所述空间光调制器的显示时长或激光器打开时长；
在每个所述扫描步长内，检测到曝光时长达到所述显示时长或打开时长，控制所述空间光调制器或所述激光器关闭。


2.根据权利要求1所述的控制方法，其特征在于，根据所述曝光剂量输入值确定所述运动平台的扫描步长，包括：
根据所述曝光剂量输入值和所述曝光剂量阈值获得剂量比值；
根据所述剂量比值和所述空间光调制器的显示距离或激光器打开距离获得所述扫描步长。


3.根据权利要求2所述的控制方法，其特征在于，根据所述扫描步长获得所述空间光调制器的显示时长，包括：
根据所述扫描步长和所述空间光调制器刷新频率获得所述运动平台的扫描速度；
根据所述显示距离和所述扫描速度获得所述显示时长。


4.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：卞洪飞，董帅，高利军，
申请(专利权)人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34