【技术实现步骤摘要】
投影光学系统、扫描曝光装置以及物品制造方法
本专利技术涉及投影光学系统、扫描曝光装置以及物品制造方法。
技术介绍
曝光装置在用于制造对半导体元件等进行集成而成的物品的光刻工序中，能够为了对涂敷于基板的光致抗蚀剂膜转印原版的图案而被使用。曝光装置具有将原版的图案投影到光致抗蚀剂膜的投影光学系统。在日本特公平5-33369号公报中记载有一种光学系统，该光学系统使来自物面的光按照凹面镜、凸面镜、该凹面镜的顺序反射，使该物体的像等倍地成像于像面。该光学系统还具有配置于该物面与该凹面镜之间的第1透镜、以及配置于该凹面镜与该像面之间的第2透镜。该第1透镜的1个面或者两个面具有非球面，该第2透镜的1个面或者两个面具有非球面。如日本特公平5-33369号公报所记载的光学系统那样，配置于物面与凹面镜之间的透镜的两个面具有非球面，配置于该凹面镜与像面之间的透镜的两个面具有非球面的光学系统对于像差的校正是有利的。然而，就某个观点而言，关于在1个透镜的两个面形成非球面的结构，针对两个非球面之间的偏心精度的要求严苛，因此存在难以进行透镜的加工...
【技术保护点】
1.一种投影光学系统，是使来自物面的光轴外的圆弧状良像范围的光束依次经由第1折射光学系统、凹反射面、凸反射面、所述凹反射面、第2折射光学系统而成像于像面的圆弧状良像范围的等倍的投影光学系统，所述投影光学系统的特征在于，/n所述第1折射光学系统以及所述第2折射光学系统分别包括两个透镜，所述两个透镜具有非球面。/n
【技术特征摘要】
20191001 JP 2019-1816541.一种投影光学系统，是使来自物面的光轴外的圆弧状良像范围的光束依次经由第1折射光学系统、凹反射面、凸反射面、所述凹反射面、第2折射光学系统而成像于像面的圆弧状良像范围的等倍的投影光学系统，所述投影光学系统的特征在于，
所述第1折射光学系统以及所述第2折射光学系统分别包括两个透镜，所述两个透镜具有非球面。
2.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，
当在所述像面的所述圆弧状良像范围中使像高在一个方向上变化时，表示所述投影光学系统的像差的泽尼克多项式的C17项的符号发生反转。
3.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，
所述第1折射光学系统以及所述第2折射光学系统分别具有包括所述两个透镜所具有的所述非球面的多个非球面，
所述多个非球面中的第1非球面对所述投影光学系统造成的像差中的泽尼克多项式的C17项的分量与所述多个非球面中的所述第1非球面以外的非球面对所述投影光学系统造成的像差中的泽尼克多项式的C17项的分量的差分为0的像高处于所述像面的所述圆弧状良像范围之中。
4.一种投影光学系统，是使来自物面的光轴外的圆弧状良像范围的光束依次经由第1折射光学系统、凹反射面、凸反射面、所述凹反射面、第2折射光学系统而成像于像面的圆弧状良像范围的等倍的投影光学系统，所述投影光学系统的特征在于，
所述第1折射光学系统以及所述第2折射光学系统分别具有多个非球面，
当在所述像面的所述圆弧状良像范围中使像高在一个方向上变化时，表示所述投影光学系统的像差的泽尼克多项式的C17项的符号发生反转。
5.一种投影光学系统，是使来自物面的光轴外的圆弧状良像范围的光束依次经由第1折射光学系统、凹反射面、凸反射面、所述凹反射面、第2折射光学系统而成像于像面的圆弧状良像范围的等倍的投影光学系统，所述投影光学系统的特征在于，
所述第1折射光学系统以及所述第2折射光学系统分别具有多个非球面，
所述多个非球面中的第1非球面对所述投影光学系统造成的像差中的泽尼克多项式的C17项的分量与所述多个非球面中的所述第1非球面以外的非球面对所述投影光学系统造成的像差中的泽尼克多项式的C17项的分量的差分为0的像高处于所述像面的所述圆弧状良像范围之中。
6.根据权利要求1至5中的任意一项所述的投影光学系统，其特征在于，
所述非球面为旋转对称非球面。
7.根据权利要求1至5中的任意一项所述的投影光学系统，其特征在于，还具备：
第1反射面，被配置于所述第1折射光学系统与所述凹反射面之间，使光路弯曲；以及
第2反射面，被配置于所述凹反射面与所述第2折射光学系统之间，使光路弯曲。
8.根据权利要求7所述的投影光学系统，其特征在于，
所述投影光学系统在所述物面以及所述像面是远心的，
所述第1折射光学...
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