一种控温装置及曝光设备制造方法及图纸

本技术公开了一种控温装置及曝光设备，包括机体，该机体内形成有由空气气流组成的首尾相连的风道；设置在风道首端的控温组件，该控温组件能够改变自身的温度且与风道发生热量传递；以及设置在风道流动路径上的曝光组件，该曝光组件能够与风道发生热量交换。本技术设置控制系统检测腔体内的温度，进而反馈给控温组件用于调节自身温度，利用热传递将控温组件与散热组件的热量进行交换使得散热组件的温度趋于曝光组件需要的温度，曝光组件通过风道与散热组件进行热传递，实现控温组件间接控制曝光组件温度，使得安装有该控温装置的曝光设备内部温度始终在曝光组件需要的温度上下小范围波动，提高了该曝光设备定位精度以及曝光质量问题。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及曝光设备，具体涉及一种控温装置及曝光设备。

技术介绍

1、微纳制造设备是指用于在微米和纳米尺度，甚至是皮米尺度上加工和构建三维结构与器件的精密仪器和技术平台。受限于热胀冷缩的影响，在微纳制造领域，精度等级越高，对设备内部环境温度的控制也愈加严格，因此对内部温度的控制精度决定了微纳制造设备的精度。在激光直写曝光领域，曝光基底是通过精密运动平台的扫描及步进运动以及图形发生器发生相应变化，实现图形的曝光。

2、为使平台的运动及光路的准确性达到相应的精度水平，控制住设备内部的温度稳定也显得尤为重要，精密运动平台的定位精度，直接影响着曝光质量的好坏，而平台的位置反馈容易受环境温度影响。在温度发生波动时，平台会产生涨缩，从而产生定位误差。光路结构的稳定性也受环境温度的影响，环境温度的波动会使相关结构产生热胀冷缩，对对准及曝光的稳定性产生直接影响。

技术实现思路

1、本技术为提高激光直写曝光机精密运动平台的定位精度以及曝光质量问题，提供一种控温装置及曝光设备，具体技术方案如下：p>

2、一种控本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种控温装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的控温装置，其特征在于：还包括设置在所述风道(14)流动路径上的循环过滤组件(4)，该循环过滤组件(4)在所述控温组件(2)和曝光组件(5)之间的流动路径上，所述循环过滤组件(4)包括循环风机(41)，该循环风机(41)位于所述风道(14)流动路径交叉处。

3.根据权利要求1所述的控温装置，其特征在于：所述散热组件(3)包括：

4.根据权利要求1所述的控温装置，其特征在于：所述曝光组件(5)包括：

5.根据权利要求4所述的控温装置，其特征在于：所述机体(1)内部形成有第一腔体(12...

【技术特征摘要】

1.一种控温装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的控温装置，其特征在于：还包括设置在所述风道(14)流动路径上的循环过滤组件(4)，该循环过滤组件(4)在所述控温组件(2)和曝光组件(5)之间的流动路径上，所述循环过滤组件(4)包括循环风机(41)，该循环风机(41)位于所述风道(14)流动路径交叉处。

3.根据权利要求1所述的控温装置，其特征在于：所述散热组件(3)包括：

4.根据权利要求1所述的控温装置，其特征在于：所述曝光组件(5)包括：

5.根据权利要求4所述的控温装置，其特征在于：所述机体(1)内部形成有第一腔体(12)和第二腔体(13)，该第一腔体(12)与第二腔体(13)通过腔体通风孔(15)贯通，所述风道(14)在所述第一腔体(12)和第二腔体(13)内形成首尾相连的空气气流。

6.根据权利要求5所述的控温装置，其特征在于：所述风道(14)包括流经所述控温组件(2)的第一风道(141)，流经所述精密运动平台(55)的第二风道(142)，流经...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶飞，
申请(专利权)人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司，
类型：新型
国别省市：