电子照相光电导体及其制造方法技术

技术编号:2759296 阅读:149 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
公开一种电子照相光电导体及其制造方法。通过用含有带不饱和键的偶合剂、金属氧化物、粘合剂和混合溶剂的底涂层涂料液,在基材和光敏层之间形成底涂层。偶合剂增加金属氧化物对粘合剂的亲和力,使涂料液不凝胶化或使金属氧化物不团聚,并使涂料液具有均匀性和优良的储存稳定性。具有这种均匀底涂层的光电导体可被均匀地带电至预定电位,在操作环境和长期重复使用后残留电位低,稳定性优良,因此能稳定地提供高的光敏度。(*该技术在2018年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在基材和光敏层之间具有底涂层的,更具体地说,涉及该底涂层及其制造方法。一般来说,采用具有光电导性的光电导体的电子照相成象方法是一种利用光电导体的光电导现象的影象记录方法。更具体地说,影象是由下列步骤形成的首先在暗处利用电晕放电使光电导体的表面均匀带电,接着用影象光照射该光电导体的带电表面,从而选择性地消耗光电导体曝光部分的电荷,在未曝光部分产生静电潜象,随后通过静电引力等手段使彩色的并带有电荷的上色剂颗粒粘附在静电潜象上来使静电潜象显影成可见的影象。在该成象方法中,要求光电导体具有某些基本性能,包括在暗处能使其均匀地带电至预定的电位、具有优良的电荷储存性以降低漏电,具有高的光敏度以便能响应光照射而快速开始放电。还要求光电导体能容易地消除在其表面上的静电电荷,表面具有低的残留电位和高的机械强度。另外,光电导体还必须具有良好的挠性,重复使用后电气性能(包括带电性、光敏度和残留电位)变化小,并具有良好的耐热、耐光照、耐高温、耐水汽和抗臭氧降解性能。现有的和考虑的具有上述性能的光电导体被构造成光敏层是形成于具有光电导性的基材上的。但是不幸的是这种光电导体容易受从基材载流子注入光敏层的影响,从而显微地消耗或衰减光电导体表面的电荷。导致形成不合格的影象。现已提出了一种光电导体,它在基材和光敏层之间放置底涂层以解决这种问题,覆盖基材表面瑕疵,改进光电导体的带电性并增强光敏层与基材的附着性和涂覆性能。现有的底涂层仅含有树脂材料,适用的树脂材料的例子包括聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、丙烯酸酯类树脂、氯乙烯树脂、乙酸乙烯酯树脂、聚氨酯、环氧树脂、聚酯、蜜胺树脂、有机硅树脂、聚乙烯醇缩丁醛、聚酰胺以及含有两种或多种这些树脂重复单元的共聚物。适用的树脂材料还包括酪蛋白、明胶、聚乙烯醇、乙基纤维素等。日本未审查的公开专利JP-A 48-47344(1973)公开了聚酰胺作为较好的树脂材料,而日本未审查的公开专利JP-A 52-25638(1977)公开了溶解在卤化烃或醇溶剂中的聚酰胺作为较好的树脂材料。上述具有仅含树脂材料的底涂层的光电导体具有相对较高的残留电位,因而光敏度较低。因此,上色剂颗粒会粘附在无静电潜象的非影象区,导致形成称为雾翳影象的不合格影象。在低温和低湿条件下这种现象特别常见。为了消除这种现象,在例如日本未审查的公开专利JP-A 55-25030(1980)、JP-A 56-52757(1981)、JP-A 59-93453(1984)、JP-A 63-234261(1988)、JP-A 63-298251(1988)、JP-A 2-181158(1990)、JP-A 4-172362(1992)和JP-A 4-229872(1992)中公开了采用一种底涂层,该底涂层含有导电颗粒或含有导电颗粒的树脂材料。上述日本未审查公开专利JP-A 55-25030(1980)公开了一种底涂层,它含有具体为金属(如Ag、Cu、Ni、Au、Bi或碳)的导电颗粒,以及一种含有分散有导电颗粒的粘合剂的底涂层。日本未审查公开专利JP-A 56-52757(1981)公开了一种含有氧化钛的底涂层。日本未审查公开专利JP-A 59-93453(1984)公开了一种底涂层,它含有颗粒状的氧化钛并经氧化锡或氧化铝表面处理。日本未审查公开专利JP-A 2-181158(1990)公开了一种含有聚酰胺树脂的底涂层,该聚酰胺树脂分散有涂覆氧化铝的氧化钛颗粒。日本未审查公开专利JP-A 4-172362(1992)公开了一种含有粘合剂和金属氧化物(如氧化钛和氧化锡)颗粒,并且所述颗粒经钛酸酯偶合剂表面处理的底涂层。日本未审查公开专利JP-A 4-229872(1992)公开了一种底涂层,它含有粘合剂和经硅烷化合物或含氟硅烷化合物表面处理的金属氧化物颗粒。日本未审查公开专利JP-A 63-234261(1988)和JP-A 63-298251(1988)公开了主要含有白色颜料(如氧化钛)和粘合剂的底涂层的白色颜料和粘合剂的最佳混合比。上述底涂层和光敏层是用浸涂方法制得的,这是一种相对容易的涂覆方法,生产率高和制造成本低。由于底涂层形成后再形成光敏层,因此用于底涂层的树脂材料最好不溶于用作光敏层涂料液的溶剂。如上所述,用作底涂层的涂料液中一般使用能溶于醇或水的树脂材料。该涂料液是将树脂材料溶解或分散在醇或水中制得的。在底涂层含有金属颗粒作为导电颗粒的情况下,存在光电导体带电性下降,从而经重复使用后导致影象密度下降的问题。在底涂层含有金属氧化物(如氧化钛)颗粒的情况下,含有少量氧化钛和相对大量粘合剂的底涂层具有很大的体积电阻,从而抑制了在光照射过程中所产生的载流子的转移。这样使光电导体的残留电位上升,导致形成不合格的影象如雾翳的影象。另外,由于在低温和低湿条件下耐用性严重下降,使得光电导体不能提供满意的影象特性。在低温和低湿条件下增加氧化钛的量会促使稍许增加残留电位并可使耐用性稍许降低。但是,当长期重复使用后,特别在低温、低湿条件下光电导体的残留电位会增加。结果,光电导体的性能不能长期保持稳定。另一方面,含有很少量粘合剂的底涂层会使膜强度和与基材的附着性下降。这会导致光敏层脱离,从而形成不合格的影象。另外,由于体积电阻的严重下降,所以光电导体的带电性下降。此外,氧化钛对粘合剂具有微弱的亲和力,从而使底涂层涂料液的分散性和储存稳定性下降。结果形成不均匀的涂层厚度,导致光电导体达不到优良的影象特性。因此,本专利技术的目的是提供一种,该光电导体能被均匀地带电至预定量的电荷,在操作环境中并经重复使用后它具有低的残留电位和优良的稳定性。本专利技术提供一种电子照相光电导体,它包括导电基材;形成于该导电基材上的底涂层;以及形成于所述底涂层上的光敏层,其中,所述底涂层包括具有不饱和键的偶合剂、金属氧化物和粘合剂。根据本专利技术,位于基材和光敏层之间的底涂层包括具有不饱和键的偶合剂、金属氧化物和粘合剂。金属氧化物通过底涂层中含有的带不饱和键的偶合剂而增加对粘合剂的亲和力,结果尽管金属氧化物的含量很大,但是这种金属氧化物能均匀地分散在底涂层涂料液中,不产生团聚或造成涂料液的凝胶化。这还能增加涂料液的储存稳定性。所以,形成厚度均匀的底涂层。因此,可使制得的光电导体均匀带电至预定量的电荷。由于金属氧化物含量增加,使得底涂层具有较小的体积电阻,从而确保所形成的载流子的转移。因此,残留电位的上升受到抑制。另外,还能防止由于操作环境(特别是在低温、低湿条件下)或由于光电导体长期重复使用而造成的残留电位上升。结果,光电导体能稳定地提供高的光敏度。本专利技术光电导体的特征在于偶合剂是具有不饱和键的含硅(sililation)试剂。根据本专利技术,将具有不饱和键的含硅试剂用作偶合剂使得底涂层具有上述效果的特征。本专利技术光电导体的特征还在于偶合剂是具有不饱和键的硅烷偶合剂。根据本专利技术,将具有不饱和键的硅烷偶合剂作为偶合剂使得底涂层具有上述效果的特征。本专利技术光电导体的特征还在于金属氧化物预先经偶合剂表面处理。根据本专利技术,用偶合剂预先对金属氧化物进行表面处理,使用少量的偶合剂就可制得抗金属氧化物团聚和涂料液凝胶化的底涂层涂料液。另外,这种表面处理能使底涂层涂料液具有改进的分散性和储存稳定本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电子照相光电导体(1a.1b),它包括: 导电基材(2); 形成于所述导电基材上的底涂层(3);以及 形成于所述底涂层上的光敏层(4),其特征在于所述底涂层(3)包括具有不饱和键的偶合剂、金属氧化物和粘合剂。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:片山聪寺本高広森本清文町野贤森田龙广金泽朋子
申请(专利权)人:夏普株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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