菁化合物、滤光器和光学记录材料制造技术

本发明专利技术提供了式（Ⅰ）的菁化合物、含有该菁化合物的滤光器和含有用于形成光学记录介质的光学记录层的菁化合物的光学记录材料：其中环Ａ表示苯环或萘环；Ｒ↑［１］和Ｒ↑［２］各自独立地表示氢原子、卤素原子、硝基、氰基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷氧基或Ｃ↓［６］－Ｃ↓［３０］芳基；Ｒ↑［３］表示氢、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷基或Ｃ↓［６］－Ｃ↓［３０］芳基；Ｘ表示氧、硫、硒、－ＣＲ↑［４］Ｒ↑［５］－、－ＮＨ－或－ＮＹ’－；Ｙ↑［１］和Ｙ↑［２］各自独立地表示氢或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３０］的有机基团；Ｒ↑［４］和Ｒ↑［５］各自独立地表示Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基或苄基，或者Ｒ↑［４］和Ｒ↑［５］彼此连接在一起形成Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］的环烷－１，１－二基；Ｙ’表示Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３０］的有机基团。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及新型的菁化合物、滤光器和光学记录材料。本专利技术的菁化合物可用作光学元件、尤其是可用作图像显示设备的滤光器中的吸收剂或用于激光光学记录材料的光学记录试剂。
技术介绍
将在波长为500至700nm的范围内具有高吸收的化合物、特别是其吸收峰波长(λmax)在550nm至620nm之间的化合物用作光学记录介质(包括DVD-Rs)的光学记录层中的光学元件以及图像显示设备(包括液晶显示器(LCDs)、等离子显示板(PDPs)、电致发光显示器(ELDs)、阴极射线管显示器(CRTs)、荧光显示管和场致发射显示器(FEDs))中的滤光器。作为可用于这些应用的有希望的光学元件，已经对具有方形结构的菁化合物进行了研究。例如，JP-A-2002-228829(化合物序列1至16)、JP-A-2002-294094(化学结构式1至26)和JP-A-5339233(表1)公开了具有吲哚环和方形结构的菁化合物。然而，这些己知化合物具有较差的耐热性和/或耐光性，在用作光学元件的耐用性方面不令人满意。专利技术概述本专利技术的目的是提供耐光性、耐热性优良并且适宜作为用于图像显示设备的滤光器或激光光本文档来自技高网...

【技术保护点】
式（Ⅰ）所示的菁化合物：＊＊＊（Ⅰ）其中环Ａ表示苯环或萘环；Ｒ↑［１］和Ｒ↑［２］各自独立地表示氢原子、卤素原子、硝基、氰基、含有１至８个碳原子的烷基、含有１至８个碳原子的烷氧基或含有６至３０个碳原子的含芳基的基团；Ｒ↑ ［３］表示氢原子、含有１至８个碳原子的烷基或含有６至３０个碳原子的含芳基的基团；Ｘ表示氧原子、硫原子、硒原子、－ＣＲ↑［４］Ｒ↑［５］－、－ＮＨ－或－ＮＹ’－；Ｙ↑［１］和Ｙ↑［２］各自独立地表示氢原子或含有１至３０个碳原子的有机基团；Ｒ↑［４］和Ｒ↑［５］各自独立地表示含有１至４个碳原子的烷基或苄基，或者Ｒ↑［４］和Ｒ↑［５］彼此连接在...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：清水正晶，滋野浩一，矢野亨，
申请(专利权)人：旭电化工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]