一种数据处理系统及方法技术方案

本发明专利技术提供一种数据处理系统及方法，用于处理第一光学邻近效应校正任务，第一光学邻近效应校正任务包括：第一子任务和第二子任务，系统包括：第一处理单元和第二处理单元。第一处理单元用于处理第一子任务，第二处理单元用于处理第二子任务。在接收到第二光学邻近效应校正任务且第二光学邻近效应校正任务的优先级大于第一光学邻近效应校正任务的优先级时，第一处理单元停止处理第一子任务，而处理第二光学邻近效应校正任务。在第一处理单元停止处理第一子任务时，第二处理单元处理第二子任务和第一子任务未经处理的部分。在接收到优先级较高的任务时，优先级较高的校正任务和优先级较低的校正任务能够被同时处理，节省光学邻近效应校正时间。效应校正时间。效应校正时间。

【技术实现步骤摘要】
一种数据处理系统及方法


[0001]本专利技术涉及半导体制造
，特别涉及一种数据处理系统及方法。

技术介绍

[0002]光刻技术是半导体制作技术中至关重要的一项技术，能够实现将图形从掩膜板中转移到硅片表面，形成符合设计要求的半导体产品。随着设计尺寸的不断缩小，设计尺寸已经接近或者小于光刻过程中使用的光波波长，光的衍射效应和干涉效应变得越来越明显，导致实际形成的光刻图案相对于掩膜板上的图案产生严重畸变，最终在硅片上经过光刻形成的实际图形变得和设计图形不同，这种现象称为光学邻近效应(Optical Proximity Effect，OPE)。
[0003]为了减小光学邻近效应引起的光刻图形的畸变，常用方法是光学邻近效应校正(optical proximity correction，OPC)。光学邻近效应校正是一种光刻增强技术，主要在半导体器件的生产过程中使用，目的是为了保证生产过程中设计的图形的边缘得到完整的刻蚀，尽可能的使硅片上生产出的电路与原始的电路一致。
[0004]目前光学邻近效应校正需要在校正之前限定处理单元的数量，但是由于处理单元的资源有限，使得在校正优先级较低的任务时如果遇到优先级较高的任务，通常会停止处理优先级较低的任务，而去处理优先级较高的任务。当优先级较高的任务处理完成后，重新处理优先级较低的任务，导致耗费较多的时间。

技术实现思路

[0005]有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种数据处理系统及方法，节省光学邻近效应校正时间。
[0006]为实现上述目的，本专利技术有如下技术方案：
[0007]一种数据处理系统，用于处理第一光学邻近效应校正任务，所述第一光学邻近效应校正任务包括：第一子任务和第二子任务，所述系统包括：第一处理单元和第二处理单元；
[0008]所述第一处理单元用于处理所述第一子任务，所述第二处理单元用于处理所述第二子任务；
[0009]所述第一处理单元还用于：在接收到第二光学邻近效应校正任务且所述第二光学邻近效应校正任务的优先级大于所述第一光学邻近效应校正任务的优先级时，停止处理所述第一子任务，而处理所述第二光学邻近效应校正任务；
[0010]所述第二处理单元还用于：在所述第一处理单元停止处理所述第一子任务时，处理所述第二子任务和所述第一子任务未经处理的部分。
[0011]可选的，所述第一处理单元，还用于：在完成所述第二光学邻近效应校正任务时，若所述第二处理单元未完成所述第一光学邻近效应校正任务，则协同所述第二处理单元处理所述第一光学邻近效应校正任务未经处理的部分。
[0012]可选的，还包括：控制器，
[0013]所述控制器用于，在所述第一处理单元完成所述第二光学邻近效应校正任务时，将所述第一光学邻近效应校正任务未经处理的部分分为第三子任务和第四子任务，以使所述第一处理单元处理所述第三子任务，所述第二处理单元处理所述第四子任务。
[0014]可选的，所述第一处理单元的数量是预先设定的或者是由所述控制器根据所述第二光学邻近效应校正任务确定的。
[0015]可选的，所述第一处理单元和所述第二处理单元的总数量根据所述第一光学邻近效应校正任务中光刻图形的特征尺寸和图案密度确定。
[0016]可选的，所述第一处理单元和所述第二处理单元还用于：在所述第一光学邻近校正任务的处理结果的检验结果为失败时，协同进行所述第一光学邻近效应校正任务的再处理。
[0017]一种数据处理方法，应用于第一处理单元，包括：
[0018]所述第一处理单元用于在处理第一光学邻近效应校正任务中的第一子任务时，若接收到第二光学邻近效应校正任务且所述第二光学邻近效应校正任务的优先级大于所述第一光学邻近效应校正任务的优先级，停止处理所述第一子任务，而处理所述第二光学邻近效应校正任务，以便所述第二处理单元在所述第一处理单元停止处理所述第一子任务时，处理所述第一光学邻近效应校正任务的第二子任务和所述第一子任务未经处理的部分。
[0019]可选的，还包括：
[0020]所述第一处理单元在完成所述第二光学邻近效应校正任务时，若所述第二处理单元未完成所述第一光学邻近效应校正任务，则所述第一处理单元协同所述第二处理单元处理所述第一光学邻近效应校正任务未经处理的部分。
[0021]一种数据处理方法，应用于第二处理单元，包括：
[0022]所述第二处理单元用于，在第一处理单元接收到第二光学邻近效应校正任务且所述第二光学邻近效应校正任务的优先级大于所述第一光学邻近效应校正任务的优先级，停止处理第一子任务，而处理所述第二光学邻近效应校正任务时，处理所述第一子任务未经处理的部分和所述第一光学邻近效应校正任务中的第二子任务。
[0023]可选的，还包括：
[0024]在所述第一处理单元完成所述第二光学邻近效应校正任务时，若所述第二处理单元未完成所述第一光学邻近效应校正任务，所述第二处理单元协同所述第一处理单元处理所述第一光学邻近效应校正任务未经处理的部分。
[0025]本专利技术实施例提供的一种数据处理系统，用于处理第一光学邻近效应校正任务，第一光学邻近效应校正任务包括：第一子任务和第二子任务，系统包括：第一处理单元和第二处理单元。第一处理单元用于处理第一子任务，第二处理单元用于处理第二子任务。第一处理单元还用于，在接收到第二光学邻近效应校正任务且第二光学邻近效应校正任务的优先级大于第一光学邻近效应校正任务的优先级时，停止处理第一子任务，而处理第二光学邻近效应校正任务。第二处理单元还用于，在第一处理单元停止处理第一子任务时，处理第二子任务和第一子任务未经处理的部分。这样，在接收到优先级较高的第二光学邻近效应校正任务时，第一处理单元处理优先级较高的第二光学邻近效应校正任务，第二处理单元
能够处理优先级较低的第一光学邻近效应校正任务。由于优先级较高的校正任务和优先级较低的校正任务能够被同时处理，避免在处理优先级较高的校正任务时需要停止处理优先级较低的校正任务而导致的优先级较低的校正任务需要被重新处理的情况的发生，从而节省光学邻近效应校正时间。
附图说明
[0026]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
[0027]图1示出了一种数据处理方法的流程示意图；
[0028]图2示出了根据本专利技术实施例一种数据处理系统的结构示意图。
具体实施方式
[0029]为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。
[0030]在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术，但是本专利技术还可以采用其它不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似推广，因此本专利技术不本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种数据处理系统，其特征在于，用于处理第一光学邻近效应校正任务，所述第一光学邻近效应校正任务包括：第一子任务和第二子任务，所述系统包括：第一处理单元和第二处理单元；所述第一处理单元用于处理所述第一子任务，所述第二处理单元用于处理所述第二子任务；所述第一处理单元还用于：在接收到第二光学邻近效应校正任务且所述第二光学邻近效应校正任务的优先级大于所述第一光学邻近效应校正任务的优先级时，停止处理所述第一子任务，而处理所述第二光学邻近效应校正任务；所述第二处理单元还用于：在所述第一处理单元停止处理所述第一子任务时，处理所述第二子任务和所述第一子任务未经处理的部分。2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第一处理单元，还用于：在完成所述第二光学邻近效应校正任务时，若所述第二处理单元未完成所述第一光学邻近效应校正任务，则协同所述第二处理单元处理所述第一光学邻近效应校正任务未经处理的部分。3.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，还包括：控制器，所述控制器用于，在所述第一处理单元完成所述第二光学邻近效应校正任务时，将所述第一光学邻近效应校正任务未经处理的部分分为第三子任务和第四子任务，以使所述第一处理单元处理所述第三子任务，所述第二处理单元处理所述第四子任务。4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述第一处理单元的数量是预先设定的或者是由所述控制器根据所述第二光学邻近效应校正任务确定的。5.根据权利要求1-4任意一项所述的系统，其特征在于，所述第一处理单元和所述第二处理单元的总数量根据所述第一光学邻近效应校正任务中光刻图形的特征尺寸和图案密度确定。6.根据权利要求1-4任意一项所述的系统，其特征在于，所述第一处...

【专利技术属性】
技术研发人员：张雷，
申请(专利权)人：长江存储科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：