【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光刻胶组合物，这些组合物可具有提高的性能，这些性能包括优化的成像线路的等密度偏置(optimized iso-dense bias of imaged lines)。具体来说，本专利技术优选的抗蚀剂包含添加的酸反应组分，已发现该组分能够调节所需的成像线路的等密度偏置。本专利技术优选的抗蚀剂除了酸反应组分以外，还包含乳酸乙酯或丙二醇甲醚乙酸酯之类的酯基溶剂。
技术介绍
光刻胶是用来将图像转印到基材上的光敏膜。它们形成负像或正像。在基材上涂布了光刻胶之后，通过有图案的遮光模使涂层暴露于紫外光之类的活化能源之下，从而在光刻胶涂层上形成潜像。遮光模有些区域对活化辐射是不透明的，有些是透明的，从而形成需要被转印到下面基材上的图像。“化学增强(amplified)”的光刻胶组合物已经被用于更高性能的应用。这些光刻胶可具有负作用(negative acting)或正作用(positive acting)，依赖于每单位光生酸(photoacid)的多交联情况(对于负作用抗蚀剂)或去保护反应(对于正作用抗蚀剂)。换句话说，光生酸催化地起作用。例如见美国专利第668...
【技术保护点】
一种光刻胶组合物，它包含：ｉ）一种或多种树脂；ｉｉ）一种或多种光致酸形成剂化合物；和ｉｉｉ）一种或多种酸反应组分。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：JM明茨，MJ考夫曼，NS杰西曼，
申请(专利权)人：罗门哈斯电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
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