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本发明的光刻胶包含添加的酸反应组分、以及一种或多种树脂和光活性组分。本发明优选的光刻胶可在微电子晶片之类的基材上提供所需的等密度偏置值。本发明特别优选的光刻胶是化学增强的正作用抗蚀剂，它除了酸反应组分以外，还包含酯基溶剂，例如乳酸乙酯或丙二...
该专利属于罗门哈斯电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过罗门哈斯电子材料有限公司授权不得商用。

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