光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法技术

本发明专利技术涉及光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法，该光刻胶组合物包括约０．５－约２０重量份的光致产酸剂、约１０－约７０重量份的含有羟基的酚醛清漆树脂、约１－约４０重量份的交联剂、以及约１０－约１５０重量份的溶剂，其中该交联剂包括烷氧基甲基三聚氰胺化合物。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术公开了 一种光刻胶组合物以及使用该光刻胶组合物形成光刻胶 图案的方法。具体而言，在实施方式中公开了一种能够防止光刻胶图案的倒 锥形形状的光刻胶组合物以及使用该光刻胶组合物形成光刻胶图案的方法。
技术介绍
液晶显示(LCD)装置利用液晶的光学和电学性质(例如各向异性的折射 率和各向异性的介电常数)显示图像。与其它类型的显示器例如阴极射线管(CRT)或等离子体显示面板(PDP)相比，LCD装置合意的特性包括更轻的重 量、更低的能耗和更低的驱动电压。通常，LCD装置包括LCD面板和为LCD面板提供光的光源。LCD面 板包括多个像素和多个薄膜晶体管(TFT)。像素和TFT利用使用光刻胶组合 物的光刻方法形成。光刻胶组合物可分为正性光刻胶组合物或负性光刻胶组合物。当将负性 光刻胶组合物用于形成精细图案时，优选降低曝光过程中的光能以减少来自 光衍射的邻近图案的干扰。然而，当曝光过程中的光能降低时，光刻胶膜的 下部未提供有足够的光能。因此，光刻胶图案可具有倒锥形形状，其中光刻 胶图案上部的宽度大于光刻胶图案下部的宽度。具有倒锥形形状的光刻胶图案可易于被外界压力损坏，例如，在制造过程中干燥时由于施加的压力增加而易于损坏。
技术实现思路
本专利技术公开了 一种能够防止光刻胶图案具有倒锥形形状的光刻胶组合 物。实施方式还提供了 一种利用上述光刻胶组合物形成光刻胶图案的方法。在一种实施方式中，光刻胶组合物包括约0.5-约20重量份的光致产酸 剂(photo-acid generator)、约10-约70重量4分的含有羟基的酚醛清漆树脂 (novolac resin)、约l-约40重量份的交联剂、以及约10-约150重量份的溶剂，其中该交联剂由烷氧基曱基三聚氰胺化合物构成。该光致产酸剂可包括由以下化学式1表示的第一化合物，并且任选地包括由以下化学式2表示的第二 化合物。<化学式1>其中R3表示具有1-4个碳原子的烷基。该交联剂的实例可包括六曱氧基曱基三聚氰胺或六羟曱基三聚氰胺六 曱基醚等、或前述化合物中的至少一种的组合。该光致产酸剂可进一步包括重氮盐、铵盐、碘错盐、锍盐、辚盐、鉀盐 (arsonium salt)、氧條盐、囟代有机化合物、醌二叠氮(quinone diazide)化合物、 二(磺酰基)重氮曱烷化合物、砜化合物、有机酸酯化合物、有机酸酰胺化合 物、有机酸酰亚胺化合物等、或包括前述化合物中的至少一种的组合。此外， 该交联剂可包括烷氧基曱基化氨基树脂、烷基醚化三聚氰胺树脂、苯并胍胺 树脂、烷基醚化苯并胍胺树脂、脲醛树脂、烷基醚化脲醛树脂、氨基曱酸酯 -曱醛树脂、曱阶段酚醛树脂型酚醛树脂、烷基醚化曱阶段酚醛树脂型酚醛 树脂、或环氧树脂等、或包括前述树脂中的至少一种的组合。该溶剂的实例可包括二醇醚、乙二醇烷基醚乙酸酯、或二甘醇等、或包 括前述溶剂中的至少一种的组合。该光刻胶组合物可进一步包括约0.1-约10重量份的添加剂，该添加剂 包括助粘剂、表面活性剂和任选的光敏剂。该光敏剂的实例可包括氢氧化四其中R4和R2独立地表示具有1-4个碳原子的烷基。 <化学式2>丁基铵、三乙醇胺、二乙醇胺、三辛胺、正辛胺、氢氧化三曱基锍、或氬氧 化三苯基锍等、或包括前述光敏剂中的至少一种的组合。如以上所解释的，该光刻胶组合物可减小光刻胶图案具有倒锥形形状的 可能性。因此，可防止和减少对光刻胶图案的损坏，并改善光刻胶图案的分 辨率。附图说明当结合附图考虑时，通过参照以下详细描述，本专利技术实施方式的以上和 其它优点将变得容易显现。图1为说明根据本专利技术的实施方式形成光刻胶图案的示例性方法的截面图。图2为说明根据本专利技术的实施方式形成光刻胶图案的示例性方法的截面图。图3为说明根据本专利技术的实施方式形成光刻胶图案的示例性方法的截面图。具体实施方式在下文中参照附图更全面地描述本专利技术的实施方式。本专利技术可以许多不 同的形式体现，并且不应理解为限于本文中所阐述的实施方式。相反，提供 这些实施方式，使得该公开内容彻底且完整，并将本专利技术的范围全面地传达 给本领域技术人员。在附图中，为了清楚起见，放大了各层及区域的厚度、 尺寸和相对尺寸。应理解，当元件或层称为"在"另一元件或层"上"、与另一元件或层 "连接"或"结合"时，该元件或层可直接在所述另一元件或层上、与所述 另一元件或层连接或结合，或者在其间可存在中间元件或层。当元件称为 "设置于"或"形成于"另一元件"上，，时，这些元件应理解为至少部分 地互相接触，除非另外指明。相反，当元件称为"直接在"另一元件或层 "上"、与另一元件或层"直接连接"或"直接结合"时，则不存在中间元 件或层。相同的标记始终指相同的元件。如本文中所使用的，术语"和/或" 包括一个或多个关联的列举项的任意和全部组合。应理解，尽管术语"第一"、"第二"、"第三，，等不暗含任何特定的顺序，但它们可在本文中用来描述不同的元件、成分、区域、层和/或部分。 这些元件、成分、区域、层和/或部分不应被这些术语所限制。这些术语仅 用来使一个元件、成分、区域、层或部分区别于另一区域、层或部分。因 此，在不背离本专利技术的教导的情况下，可将以下讨论的第一元件、成分、 区域、层或部分称为第二元件、成分、区域、层或部分。为了便于说明，在本文中可使用空间关系术语，例如"在......之下"、"在......下面"、"下部"、"在......之上"或"在......上方"等，来说明如图所示的一个元件或特征与另外的一个或多个元件或特征之间的关系。应 理解，除图中所示的方位以外，空间关系术语还意图涵盖设备在使用中或 工作中的不同方位。例如，如果翻转图中的设备，则描述为"在"其它元 件或特征"下面"或"之下"的元件将位于其它元件或特征"之上"。因此， 示例性术语"在......下面"可涵盖在...之上和在...下面两种方位。设备可以其他方式定向(旋转90度或在其它方位上)，并相应地解释本文中所使用 的空间关系描述词。本文中所用的术语仅出于描述具体实施方式的目的，而非意图限制本 专利技术。如本文中所使用的，除非上下文另作清楚地说明，单数形式的"一 个"和"所述"也意图包括复数形式。还应理解，当用在本说明书中时，术 语"包含"和/或"包括"表示存在所述特征、整体、步骤、操作、元件和/ 或成分，但不排除存在或添加一个或多个其它的特征、整体、步骤、操作、 元件、成分和/或其集合。在此参考截面图描述各实施方式，所述截面图为本专利技术的理想化实施 方式(以及中间结构)的示意图。如jt匕，可预期这些图的形状由于例如制造才支 术和/或公差而引起的变化。因此，本专利技术的实施方式不应解释为限于在此 所图示的区域的具体形状，而是包括由例如制造所造成的形状上的偏差。 例如，图示为长方形的区域通常会具有圆形或曲面特征。同样，由植入形成植入。因此，图中所示的区域在本质上是示意性的，并且它们的形状不意 示设备的区域的实际形状，并且不意图限制本专利技术的范围。除非另外定义，在本文中所使用的所有术语(包括技术和科学术语)的 含义与本专利技术所属领域的普通技术人员通常理解的含义相同。还应理解， 术语，例如在常用字典中定义的那些，应解释为其含义与它们在相关领域背景中的含义一致，并且将不对所述术语本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻胶组合物，包括：　　　　０．５－２０重量份的光致产酸剂，该光致产酸剂包括由以下化学式１表示的第一化合物和／或由以下化学式２表示的第二化合物；　　　　１０－７０重量份的含有羟基的酚醛清漆树脂；　　　　１－４０重量份的交联剂，该交联剂包括烷氧基甲基三聚氰胺化合物；以及　　　　１０－１５０重量份的溶剂，　　　　＜化学式１＞　　　　＊＊＊　　　　＜化学式２＞　　　　＊＊＊　　　　其中Ｒ↓［１］、Ｒ↓［２］和Ｒ↓［３］独立地表示具有１－４个碳原子的烷基。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：朴廷敏，郑斗喜，李羲国，尹赫敏，丘冀赫，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，东进瑟弥侃株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]