光刻系统及保持其中光学结构之间光学缝隙的设备和方法技术方案

描述一种用于保持光刻系统中光学结构之间光学缝隙的方法和设备。框架确定第一相对表面和第二相对表面。第一相对表面确定第一开孔和第二相对表面确定第二开孔。多个隔板构件是互相隔开地在第一开孔周围的第一相对表面上。隔板构件有配置成与第一光学结构表面匹配的基本共面表面。粘合剂密封第一相对表面与第一光学结构之间第一开孔周围的空间。因此，框架包围第一光学结构与第二光学结构之间的光学缝隙。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术一般涉及保持光刻系统中光学结构之间光学缝隙的设备和方法及光刻系统，具体涉及光刻系统中的胶片和标线片框架。
技术介绍
在制造集成电路时，利用光刻和投影晒印技术。在光刻术中，标线片上包含的图像投影到有光敏抗蚀剂的晶片上。标线片或掩模用于转移所需图像到硅晶片。半导体晶片表面涂敷光敏抗蚀剂，因此，图像可以蚀刻在其上面。胶片可以与标线片结合使用以保护标线片表面免遭损伤。胶片通常安装到标线片的坚实框架。光刻术中使用的一些光波长对于大气中氧的吸收很敏感。因此，当这种氧敏感的光波长用于光刻术时，这些光波长必须传输通过氧吹洗的大气。光刻系统通常放置在洁净室环境中。在某些情况下，洁净室的周围大气不可能是氧吹洗的，因为这可能引起与光刻过程有关的其他问题。例如，光刻系统中使用的激光干涉仪可能对空气的折射率变化很敏感，折射率可能因无氧大气的变化而发生。因此，无氧环境必须局限在小于整个光刻系统。我们需要的是，光波长在含氧环境中有高吸收的传输媒体。胶片一般安装在与对应标线片相对的框架上。因此，标线片与胶片之间可能存在空气隙。我们需要的是光波长通过标线片与胶片空气隙的一种传输媒体，这些波长在含氧环境中有高的吸收。此外，当胶片和/或标线片粘贴到框架上时可能发生失真，对光刻系统产生不利的影响。因此，在胶片和/或标线片粘贴到框架上时，我们需要一种降低或消除胶片和/或标线片失真的方法。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种方法和设备，用于具有吹洗的胶片-标线片缝隙的标线片。本专利技术保持胶片-标线片缝隙中基本无氧的吹洗气体环境。吹洗气体环境提供光波长的传输媒体，这些光波长在非吹洗环境中有高的吸收。在一个优选实施例中，本专利技术应用于光刻系统。标线片与胶片之间的多孔框架在标线片与胶片之间建立缝隙或空间。多孔框架可以被动地过滤通过多孔框架进入缝隙的周围空气以建立基本无颗粒的缝隙。要求微粒保护以保证颗粒没有沉积到重要的标线片表面，不破坏投影到半导体晶片表面上的标线片图像。这包括在标线片存储期间和在光刻过程中使用标线片的保护。被动或静态多孔框架的作用是利用外界周围大气压规范标线片-胶片缝隙内的压力。这种规范化作用有效地降低和消除由于大气压引起的标线片和/或胶片的失真。多孔框架包含有第一开孔的第一相对表面。第一相对表面配置成与胶片匹配。多孔框架包含有第二开孔的第二相对表面。第二相对表面配置成与标线片匹配以包围胶片与标线片之间的光学缝隙。利用不含氧的吹洗气体填充缝隙，就可以形成吹洗的标线片-胶片缝隙。通过连续地注入吹洗气体，可以动态地保持缝隙中的吹洗气体。动态多孔框架可以耦合到吹洗气源。吹洗气源通过多孔框架输入吹洗气体到标线片与胶片之间的缝隙，从而在多孔框架内的缝隙中建立吹洗气流。真空源可以耦合到动态多孔框架，以便通过多孔框架从标线片-胶片缝隙环境中去除气体，还在标线片中提供连续的气流。利用外界大气压力可以平衡动态多孔框架缝隙中的吹洗气流，从而减小或消除标线片或胶片的失真。本专利技术的多孔框架可应用于包括其他光学环境的其他环境。在另一个光学实施例中，多孔框架可以在任何光源表面与任何光学目标表面之间提供吹洗的光程。光源表面和光学目标表面可以是本领域专业人员熟知的任何合适光学表面。在本专利技术的另一方面，框架确定第一相对表面和第二相对表面。第一相对表面确定第一开孔，并配置成与胶片匹配。第二相对表面确定第二开孔，并配置成与标线片匹配以包围胶片与标线片之间的光学缝隙。框架的至少一个边缘有贯通的开孔。多孔过滤材料，例如，多孔烧结材料，填充框架边缘上的每个开孔。在本专利技术的另一方面，保持光刻系统中光学结构之间的光学缝隙。框架确定第一相对表面和第二相对表面。第一相对表面确定第一开孔和第二相对表面确定第二开孔。多个隔板构件是在第一开孔周围的第一相对表面上互相隔开。隔板构件有配置成与第一光学结构表面匹配的基本共面表面。粘合剂密封第一相对表面与第一光学结构之间第一开孔周围的空间。因此，框架包围第一光学结构与第二光学结构之间的光学缝隙。在本专利技术的一方面，多个隔板构件是与框架整体制成。在本专利技术的另一方面，多个隔板构件是与框架分开制成。在本专利技术的另一方面，第二多个隔板构件是在第二开孔周围的第二相对表面上互相隔开。第二多个隔板构件有配置成与第二光学结构表面匹配的基本共面表面。粘合剂密封第二相对表面与第二光学结构之间第二开孔周围的空间。在本专利技术的另一方面，第一光学结构和第二光学结构中的一个是标线片，而另一个是胶片。标线片与胶片是光学对准。在本专利技术的另一方面，光学缝隙保持在光刻系统中的光学结构之间。框架确定第一相对表面和第二相对表面。第一相对表面确定第一开孔和第二相对表面确定第二开孔。粘合剂密封第一相对表面与第一光学结构之间第一开孔周围的空间。粘合剂包含保持第一光学结构与第一相对表面之间基本一致距离的隔板材料。因此，框架包围第一光学结构与第二光学结构之间的光学缝隙。在本专利技术的另一方面，提供一种光刻系统，包括发射辐射的照明光源，其中所述辐射至少包含一种波长；标线片；源光学元件，从所述照明光源引导所述辐射到所述标线片；确定第一相对表面和第二相对表面的框架，所述第一相对表面确定第一开孔和所述第二相对表面确定第二开孔；多个隔板构件，在所述第一开孔周围的所述第一相对表面上互相隔开，并有配置成与所述标线片表面匹配的基本共面表面；和粘合剂，用于密封所述第一相对表面与所述标线片之间所述第一开孔周围的空间；与所述框架所述第二相对表面耦合的胶片；和投影光学元件；其中所述框架包围所述标线片与所述胶片之间的光学缝隙；其中至少部分所述辐射传输通过所述标线片，所述光学缝隙，和所述胶片；和其中所述投影光学元件从所述胶片引导所述至少部分所述辐射到晶片表面。在本专利技术的另一方面，提供一种光刻系统，包括发射辐射的照明光源，其中所述辐射至少包含一种波长；标线片；源光学元件，用于从所述照明光源引导所述辐射到所述标线片；确定第一相对表面和第二相对表面的框架，所述第一相对表面确定第一开孔和所述第二相对表面确定第二开孔；粘合剂，用于密封所述第一相对表面与所述标线片之间所述第一开孔周围的空间，所述粘合剂包含隔板材料，用于保持标线片与所述第一相对表面之间基本一致的距离；与所述框架所述第二相对表面耦合的胶片；和投影光学元件；其中所述框架包围所述标线片与所述胶片之间的光学缝隙；其中至少部分所述辐射传输通过所述标线片，所述光学缝隙，和所述胶片；和其中所述投影光学元件从所述胶片引导所述至少部分所述辐射到晶片表面。在本专利技术的另一方面，提供一种用于形成光刻系统中光学结构之间光学缝隙的方法，包括(a)提供确定第一相对表面和第二相对表面的框架，第一相对表面确定第一开孔和第二相对表面确定第二开孔；和(b)粘贴第一光学结构到框架第一相对表面上的隔板结构；其中框架包围第一光学结构与第二光学结构之间的光学缝隙。以下参照附图详细地描述本专利技术的其他实施例，特征，和优点，以及本专利技术各个实施例的结构和运行。附图说明在附图中，相同的参考数字一般表示相同，功能类似，和/或结构类似的单元。图1表示常规光刻系统中相关部分光程的方框图。图2表示本专利技术光刻系统中相关部分光程的方框图。图3表示按照本专利技术一个实施例具有多孔框架的标线片和胶片组合的分解图。图4表示本专利技术一个典型实施本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于保持光刻系统中光学结构之间光学缝隙的设备，包括：确定第一相对表面和第二相对表面的框架，所述第一相对表面确定第一开孔和所述第二相对表面确定第二开孔；多个隔板构件，在所述第一开孔周围的所述第一相对表面上互相隔开，并有配置 成与第一光学结构表面匹配的基本共面表面；和粘合剂，用于密封所述第一相对表面与第一光学结构之间所述第一开孔周围的空间；其中所述框架包围第一光学结构与第二光学结构之间的光学缝隙。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：卓塞弗拉甘泽，乔治伊瓦尔迪，弗罗伦斯卢奥，
申请(专利权)人：ASML控股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]