【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种显影液盛滚筒湿润及清理装置,位于一显影室的底部,并且通过一液盛滚筒驱动一基板进入该显影室,该显影液盛滚筒湿润及清理装置包含: 至少一个喷嘴,其用以将显影液喷洒至该液盛滚筒,以避免在该液盛滚筒上残留结晶物;以及 一压力控制器,其用以控制该喷嘴的流量及压力。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:陈维绮,颜骏翔,涂锦识,
申请(专利权)人:友达光电股份有限公司,
类型:发明
国别省市:71[中国|台湾]
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