【技术实现步骤摘要】
本揭示内容是关于一种监测清理蚀刻气体解离率的系统及其使用方法。
技术介绍
1、沉积制程可能伴随清理制程以除去腔体内的沉积残留物等。然而，随着与制程相关的工具的老化等因素，清理制程可能无法有效地实施，并使得过多沉积残留物残留于腔体内而影响沉积制程的良率。当清理制程的效率降低时，为确保沉积残留物得以移除，往往增加清理制程的时间而造成制程浪费。而且，为了确认沉积残留物是否移除也可能需要停止机台的运作，因此造成制程效率降低。因此，需要一种新的系统及使用系统的方法，以有效地监测清理制程的实施效率。
技术实现思路
1、本揭示内容提供一种监测清理蚀刻气体解离率的系统。系统包括腔体、压力模块、流量模块以及分析模块。腔体用以通入清理蚀刻气体以蚀刻半导体膜。压力模块用以测量腔体内的压力随时间变化的压力变化曲线。流量模块用以测量通入腔体的清理蚀刻气体的清理蚀刻气体流量。分析模块用以根据压力变化曲线、清理蚀刻气体流量、系统校正值、清理蚀刻气体流量基准值及清理蚀刻气体压力基准值计算清理蚀刻气体的解离率，其中清理蚀刻...
【技术保护点】
1.一种监测清理蚀刻气体解离率的系统，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的系统，其特征在于，该分析模块用以根据该压力变化曲线中在一第一时间的一第一压力、该清理蚀刻气体流量、该系统校正值、该清理蚀刻气体流量基准值及该清理蚀刻气体压力基准值计算该解离率，以及该第一时间系在该压力变化曲线从一第一平台上升至一第二平台的一上升区段中的一最高点处的一时间。
3.如权利要求1所述的系统，其特征在于，该腔体更用以通入一惰性气体；该流量模块更用以测量通入该腔体的该惰性气体的一惰性气体流量；该分析模块更用以根据该压力变化曲线、该惰性气体流量、一惰性气体流量基...
【技术特征摘要】
1.一种监测清理蚀刻气体解离率的系统，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的系统，其特征在于，该分析模块用以根据该压力变化曲线中在一第一时间的一第一压力、该清理蚀刻气体流量、该系统校正值、该清理蚀刻气体流量基准值及该清理蚀刻气体压力基准值计算该解离率，以及该第一时间系在该压力变化曲线从一第一平台上升至一第二平台的一上升区段中的一最高点处的一时间。
3.如权利要求1所述的系统，其特征在于，该腔体更用以通入一惰性气体；该流量模块更用以测量通入该腔体的该惰性气体的一惰性气体流量；该分析模块更用以根据该压力变化曲线、该惰性气体流量、一惰性气体流量基准值及一惰性气体压力基准值计算该系统校正值；以及该惰性气体压力基准值为具有该惰性气体流量基准值的该惰性气体的一压力值。
4.如权利要求3所述的系统，其特征在于，该分析模块用以根据该压力变化曲线中在一第二时间的一第二压力、该惰性气体流量、该惰性气体流量基准值及该惰性气体压力基准值计算该系统校正值，以及该第二时间系在该腔体通入该惰性气体之后及大约在该腔体通入该清理蚀刻气体时。
5.如权利要求1所述的系统，其特征在于，更包括：
6.一种使用监测清理蚀刻气体解离率的系统的方法，其特征在于，包括：<...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈世育，江雨龙，黄品霖，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。