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监测清理蚀刻气体解离率的系统及其使用方法技术方案
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文档序号:41595601
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本揭示内容提供一种监测清理蚀刻气体解离率的系统。系统包括腔体、压力模块、流量模块及分析模块。腔体用以通入清理蚀刻气体以蚀刻半导体膜。压力模块用以测量腔体内的压力随时间变化的压力变化曲线。流量模块用以测量通入腔体的清理蚀刻气体的清理蚀刻气体流...
该专利属于友达光电股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过友达光电股份有限公司授权不得商用。
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