彩色滤光基板及薄膜的制作方法技术

一种彩色滤光基板的制作方法，其包括：（ａ）于一基板上形成一图案化的第一光致抗蚀剂层，其中第一光致抗蚀剂层具有多个开口，且这些开口暴露出基板的部分区域；（ｂ）于开口所暴露的基板的部分区域上形成一滤光材料层；（ｃ）于滤光材料层上形成一第二光致抗蚀剂层；（ｄ）移除第一光致抗蚀剂层与第二光致抗蚀剂层，其中滤光材料层形成多个第一滤光薄膜；以及（ｅ）重复步骤（ａ）至（ｃ）至少一次，并移除第一光致抗蚀剂层与第二光致抗蚀剂层，以于基板上的第一滤光薄膜以外的其它位置形成多个第二滤光薄膜。此彩色滤光基板的制作方法可于基板上形成具有垂直的侧壁的滤光薄膜。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种薄膜(thin film)的制作方法，特别是涉及一种彩色滤光基板(color filtering substrate)的滤光薄膜(filtering film)的制作方法。
技术介绍
随着计算机性能的大幅进步以及因特网、多媒体技术的高度发展，目前影像信息的传递大多已由模拟转为数字传输。为了配合现代生活模式，视讯或影像装置的体积日渐趋于轻薄。传统的阴极射线显示器(CRT)，虽然仍有其优点，但是由于内部电子腔的结构，使得显示器体积庞大而占空间，且显示时仍有辐射线伤眼等问题。因此，配合光电技术与半导体制造技术所发展的平面式显示器(Flat Panel Display)，例如液晶显示器(LCD)、有机发光显示器(OLED)或等离子体显示器(Plasma Display Panel，PDP)，已逐渐成为显示器产品的主流。就液晶显示器而言，依其显像方式大致可分为液晶屏幕、数字液晶电视等直视型显示器，以及液晶投影机、背投影电视等非直视型显示器。近年来，液晶显示器逐渐朝向全彩化、大尺寸、高分辨率以及低成本的趋势发展，其中，由于直视型显示器在大尺寸显示及成本上仍有诸多限制，因此藉由单晶硅反射液晶面板(Liquid Crystal on Silicon display panel，LCOS display panel)等具有高分辨率的微型反射式显示面板，并搭配光学引擎(optical engine)以达到大尺寸显示的液晶投影机与背投影电视已经逐渐受到重视。LCOS面板是一种架构于硅基材上的反射式液晶面板，其于硅基材上形成金氧半晶体管(MOS transistor)，以控制各个像素电极(pixel electrode)上方的液晶层。此外，LCOS面板的像素电极为金属材料，因此可反射外界入射的光线，并使光线穿过液晶层与其上方的彩色滤光基板出射，以达到显示的目的。由于LCOS面板架构于硅基材上，其具有体积小、高分辨率等优于传统的直视型显示面板优点，十分符合大尺寸的投影显示的需求。在现有技术中，LCOS面板的彩色滤光基板的制作仍沿用传统的彩色滤光基板制造工艺。然而，随着LCOS面板不断朝向高分辨率与微型化发展，以传统技术所制作的彩色滤光基板已无法符合如此高精度的需求。请参考图1A～1D，其依序绘示现有的一种彩色滤光基板的制作流程示意图。首先，如图1A所示，于一玻璃基板100上形成一滤光材料层102a。接着，如图1B所示，在滤光材料层102a上形成一图案化的光致抗蚀剂层110，其中光致抗蚀剂层110为暴露出部分的滤光材料层102a。然后，如图1C所示，移除光致抗蚀剂层110所暴露的滤光材料层102a。之后，如图1D所示，在移除光致抗蚀剂层110之后，所暴露出的滤光材料层102a形成多个滤光薄膜102。同理，再依照上述的步骤，于玻璃基板100的其它位置依序形成其它颜色的滤光薄膜。值得一提的是，在上述的彩色滤光基板的制造工艺中，移除滤光材料层的动作多以蚀刻方式进行。然而，在移除滤光材料层时，光致抗蚀剂层下方的滤光材料层往往会因过度蚀刻，而发生所谓过蚀刻(over-etching)的现象，再加上蚀刻液对滤光材料层的蚀刻并非为单一的蚀刻方向，因此往往无法提供具有垂直侧壁的滤光薄膜。如此一来，面板朝向高分辨率与微型化的发展下，将相对使得滤光薄膜边缘的光散射(scattering)所造成的漏光更为严重，因而影响微型显示器的显示品质。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的目的就是在提供一种彩色滤光基板的制作方法，其可在基板上形成具有垂直侧壁的滤光薄膜，以期提供优选的显示品质。本专利技术的另一目的是在提供一种薄膜的制作方法，其分别藉由两道光致抗蚀剂制造工艺来维持薄膜的侧壁的垂直，并对薄膜提供保护的作用。基于上述目的，本专利技术提出一种彩色滤光基板的制作方法，其例如包括(a)于一基板上形成一图案化的第一光致抗蚀剂层，其中第一光致抗蚀剂层具有多个开口，且这些开口暴露出基板的部分区域；(b)于开口所暴露的基板的部分区域上形成一滤光材料层；(c)于滤光材料层上形成一第二光致抗蚀剂层；(d)移除第一光致抗蚀剂层与第二光致抗蚀剂层，其中滤光材料层形成多个第一滤光薄膜；以及(e)重复步骤(a)至(c)至少一次，并移除第一光致抗蚀剂层与第二光致抗蚀剂层，以于基板上的第一滤光薄膜以外的其它位置形成多个第二滤光薄膜。在本专利技术的优选实施例中，上述的滤光材料层还包括形成于第一光致抗蚀剂层上，而在步骤(c)之后，例如还包括(c1)移除第一光致抗蚀剂层上的滤光材料层。此外，滤光材料层的厚度例如可小于或等于第一光致抗蚀剂层的厚度。基于上述目的，本专利技术更提出一种薄膜的制作方法，其例如包括(a)于一基板上形成一图案化的第一光致抗蚀剂层，其中第一光致抗蚀剂层具有多个开口，且这些开口暴露出基板的部分区域；(b)于开口所暴露的基板的部分区域上形成一材料层；(c)于材料层上形成一第二光致抗蚀剂层；以及(d)移除第一光致抗蚀剂层与第二光致抗蚀剂层，其中材料层形成多个薄膜。在本专利技术的优选实施例中，上述的材料层还包括形成于第一光致抗蚀剂层上，而在步骤(c)之后，例如还包括(c1)移除第一光致抗蚀剂层上的材料层。此外，材料层的厚度例如可小于或等于第一光致抗蚀剂层的厚度。基于上述，本专利技术的彩色滤光基板与薄膜的制作方法先于基板上形成图案化的第一光致抗蚀剂层后，再于第一光致抗蚀剂层的开口内形成薄膜，以藉由第一光致抗蚀剂层维持薄膜的侧壁的垂直。此外，第二光致抗蚀剂层覆盖于开口内的薄膜上，以避免在移除第一光致抗蚀剂层上的材料层时，位于开口内的薄膜受到蚀刻。藉由本专利技术的薄膜的制作方法可提供具有垂直侧壁的薄膜，而本专利技术的彩色滤光基板的制作方法可于基板上形成理想的滤光薄膜，以使得显示面板具有优选的显示品质。为让本专利技术的上述和其它目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合附图作详细说明。附图说明图1A～1D依序绘示为现有的一种彩色滤光基板的制作流程示意图。图2A～2I依序绘示为本专利技术的优选实施例的一种彩色滤光基板的制作流程示意图。简单符号说明100玻璃基板102滤光薄膜102a滤光材料层 110光致抗蚀剂层200基板202第一滤光薄膜202a第一滤光材料层204第二滤光薄膜204a第二滤光材料层206第三滤光薄膜206a第三滤光材料层210第一光致抗蚀剂层210a开口220第二光致抗蚀剂层230第三光致抗蚀剂层230a开口240第四光致抗蚀剂层250第五光致抗蚀剂层250a开口260第六光致抗蚀剂层具体实施方式本专利技术的薄膜的制作方法可整合于一彩色滤光基板的制造工艺中，因此下文针对彩色滤光基板的制作流程加以说明。请参考图2A～2I，其依序绘示本专利技术的优选实施例的一种彩色滤光基板的制作流程示意图。首先，如图2A所示，于一基板200上形成一图案化的第一光致抗蚀剂层210，且第一光致抗蚀剂层210例如具有多个开口210a，其暴露出基板200的部分区域。其中，基板200例如是一玻璃基板，而形成第一光致抗蚀剂层210的方法例如可先于基板200上涂布一正光致抗蚀剂层(positive typephoto-resist layer，未绘示)或一负光致抗蚀剂层(negative type photo本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩色滤光基板的制作方法，包括：（ａ）于一基板上形成一图案化的第一光致抗蚀剂层，其中该第一光致抗蚀剂层具有多个开口，且该些开口暴露出该基板的部分区域；（ｂ）于该些开口所暴露的该基板的部分区域上形成一滤光材料层；（ｃ ）于该滤光材料层上形成一第二光致抗蚀剂层；（ｄ）移除该第一光致抗蚀剂层与该第二光致抗蚀剂层，以形成多个第一滤光薄膜；以及（ｅ）重复步骤（ａ）至（ｃ）至少一次，并移除该第一光致抗蚀剂层与该第二光致抗蚀剂层，以于该基板上的该些第 一滤光薄膜以外的其它位置形成多个第二滤光薄膜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：林佳德，官大双，
申请(专利权)人：联华电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]