本发明专利技术涉及一种在透射和反射模式下均能显示的透反射式液晶显示器，提供一种在透射和反射模式下均能实现高显示特性的透反射式液晶显示器。采用这样的结构，该结构包括：彼此相对设置的一对基板；密封于该对基板之间的液晶层；以及像素区域，包括反射区域和透射区域，该反射区域具有反射体，该反射体用于反射从该对基板的一个基板的侧面入射的光，该反射体设置于该对基板的另一基板上，该透射区域用于向着该对基板的所述一个基板透射从该对基板的另一基板的侧面入射的光，其中该反射体设置于该像素区域的外围；以及其中该透射区域具有透明像素电极，该透明像素电极设置于该反射体的开口处，并且形成于该反射体上方并与该反射体电性隔离。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种液晶显示器及其制造方法，特别地涉及一种在透射和反 射模式下均能显示的透反射式(transflective)液晶显示器及其制造方法。
技术介绍
近来，在每个像素处具有薄膜晶体管(TFT)的有源矩阵液晶显示器在 各个应用领域广泛地用作显示器。在这样的环境下，在反射和透射模式下均 能显示的透反射式显示器已经投入使用，作为用于移动终端或笔记本型个人 计算机的显示器。图47A和47B表示按照非专利文件1中所公开的相关现有技术的透反射 式液晶显示器的结构。图47A表示透反射式液晶显示器的像素结构，图47B 表示沿着图47A中X-X线所得的透反射式液晶显示器的截面结构。如图47A 和47B所示，像素区域划分为透射区域T和反射区域R。在TFT基板102 上的反射区域R中，绝缘体(树脂层)130这样形成，使得反射区域R具有 透射区域T的晶元(cell)厚度一半的晶元厚度。具有不规则表面的反射电 极116形成于绝缘体130上。在相对基板104上的透射区域T的中部形成有 凸起132，用于调整垂直对齐型液晶106的对齐。 一对1/4波板(wave plate) 120设置于构成面板(panel)外部的TFT基板102和相对基板104的各侧面 上。 一对偏光板122分别设置于1/4波板120外。该透反射式液晶显示器需 要用于形成和图案化绝缘体130的步骤，以使反射区域R的晶元厚度小于透 射区域T的晶元厚度。这造成液晶显示器的制造成本由于制造步骤复杂性增 大而增加的问题。作为解决该问题的一种方案，具有如图48所示结构的透反射式液晶显示器由申请人在日本专利申请(第2003-95329号)中提出。如图48所示， 在图中水平方向延伸的多条栅极总线150彼此基本平行地形成于液晶显示器 的TFT基板上。在图中垂直方向上延伸的多条漏极总线152彼此基本平行地 这样形成，使得它们与栅极总线150相交，其间插置有图中未示出的绝缘膜。 TFT154形成于栅极总线150与漏极总线152之间的每个交点附近。栅极总 线150和漏极总线152所包围的区域构成像素区域。基本平行于栅极总线150 的存储电容器总线156这样形成，使得它们基本在像素区域中部延伸穿过像 素区域。存储电容器电极158形成于每个像素区域的存储电容器总线156上。由透明导电膜所构成的像素电极形成于像素区域。像素电极具有矩形周 边，并且具有小于像素区域的多个电极单元162、形成于邻接电极单元162 之间的电极空白部分(切口) 164、以及用于将由切口 164所分隔的电极单 元162彼此电连接的连接电极166。多个空隙(space) 168形成于电极单元 162的外围，这些空隙在与栅极总线150或漏极总线152基本平行地延伸的 各侧缘上被挖切。用于为像素区域之外的区域遮光的黑色矩阵(BM) 170 形成于相对基板上。在该结构中，存储电容器电极158用作反射体，并且圆形反射体172单 独地形成于像素区域中。反射体172由与TFT154的栅极或源极和漏极的材 料相同的材料形成，并且设置为当在垂直于基板表面的方向上观察时，它们 基本重叠于电极单元162的中心。反射体172处于电漂移状态。在该结构中，反射区域的晶元厚度与透射区域的晶元厚度相同。因此， 反射区域的双折射是透射区域的折射的两倍，因为光两次穿过同一液晶层以 进出晶元。因此出现问题的是，当同一电压施加到透射区域和反射区域时， 在反射区域中显示黄色，而在透射区域中显示白色。抑制双折射所采取的措 施是通过降低所施加的电压，在反射模式下的显示期间，减少液晶分子的倾 角(tilt)。尽管如图48所示的结构允许制造步骤比如图47A和47B所示结构的制 造步骤更简单，但是它需要为透射模式下的显示和反射模式下的显示调节所 施加的电压。出现的另一问题是，当外部强光在透射模式下的显示期间进入时，反射区域所反射的光的色彩会大大不同于透射区域所透射的光的色彩。 如下是相关现有技术的描述专利文件1:日本专利公开第JP-A-H11-183892号； 专利文件2:日本专利公开第JP-A-2002-341366号； 专利文件3:日本专利公开第JP-A-2001-166289号； 专利文件4:日本专利第3380482号； 专利文件5:日本专利公开第JP-A-S57-155582号； 专利文件6:日本专利公开第JP-A-2001-242452号； 专利文件7:日本专利公开第JP-A-2002-350853号； 专利文件8:日本专利公开第JP-A-2000-47215号； 专利文件9:日本专利公开第JP-A-2000-l 11902号； 专利文件10:日本专利公开第JP-A-H11-242226号； 专利文件11:日本专利公开第JP-A-H11-281972号； 非专利文件l: AsiaDisplay/IDW， 01， p.133 (2001); 非专利文件2: SID 96 Digest, pp.618-621。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种在反射和透射模式下均能实现高显示特性的 透反射式液晶显示器及其制造方法。上述目的通过一种液晶显示器实现，其特征在于具有彼此相对设置的 一对基板；密封于该对基板之间的液晶层；像素区域，包括反射区域和透射 区域，该反射区域具有反射体，用于反射从该对基板的一基板的侧面(side) 入射的光，该透射区域用于向着该对基板的该基板透射从该对基板的另一基 板入射的光；用于反射光的反射部分，该光已从该对基板的该基板的侧面进 入该透射区域，并且己被该透射区域透射，并且该反射部分用于使得该光从 该对基板的另一基板的侧面再次进入该透射区域;以及仅形成于该像素区域 的透射区域中的滤色层。本专利技术使得可以提供一种在反射和透射模式下均能实现高显示特性的 透反射式液晶显示器。附图说明图1A和1B表示用于实现本专利技术的第一模式下液晶显示器的结构；图2A和2B是表示用于实现本专利技术的第一模式下液晶显示器结构的截面图；图3表示按照用于实现本专利技术的第一模式下实施例1-1的液晶显示器结构；图4A和4B表示按照用于实现本专利技术的第一模式下实施例1-1的液晶显示器的截面结构；图5是表示计算透明树脂层最适宜厚度的处理的曲线图；图6表示按照用于实现本专利技术的第一模式下实施例1-2的液晶显示器的截面结构；图7表示按照用于实现本专利技术的第一模式下实施例1-2的液晶显示器改 型的截面结构；图8表示按照用于实现本专利技术的第一模式下实施例1-3的液晶显示器的 结构；图9A和9B表示按照用于实现本专利技术的第一模式下实施例1-3的液晶显 示器的截面结构；图IOA和IOB表示按照用于实现本专利技术的第一模式下实施例1-3的液晶 显示器的改型；图11表示按照用于实现本专利技术的第一模式下实施例1-4的液晶显示器的 截面结构；图12A和12B表示按照用于实现本专利技术的第一模式下实施例1-4的液晶 显示器的改型；图13表示按照用于实现本专利技术的第一模式下实施例1-5的液晶显示器的 截面结构；图14表示按照用于实现本专利技术的第一模式下实施例l-6的液晶显示器的 结构；图15A和15B表示用于实现本专利技术的第二模式下液晶显示器的结构；图16是表示用于实现本专利技术的第二模式下液晶显示器的结构的截面图; 图17本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种液晶显示器，包括：彼此相对设置的一对基板；密封于该对基板之间的液晶层；以及像素区域，包括反射区域和透射区域，该反射区域具有反射体，该反射体用于反射从该对基板的一个基板的侧面入射的光，该反射体设置于该对基板的另一基板上，该透射区域用于向着该对基板的所述一个基板透射从该对基板的另一基板的侧面入射的光，其中该反射体设置于该像素区域的外围；以及其中该透射区域具有透明像素电极，该透明像素电极设置于该反射体的开口处，并且形成于该反射体上方并与该反射体电性隔离。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：吉田秀史，田坂泰俊，田代国广，大室克文，镰田豪，上田一也，柴崎正和，
申请(专利权)人：富士通株式会社，友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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