薄膜的形成方法及其形成装置制造方法及图纸

本发明专利技术的薄膜形成方法具有光学特性调节工序，在控制用于保持基板的基板座（１３）的运送速度的同时，在进行中间薄膜形成工序的区域和进行薄膜成分变换工序的区域之间反复运送上述基板座（１３），调节最终形成的薄膜的膜成分，形成具有产生迟滞现象的区域内的光学特性值的薄膜。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及薄膜的制造方法和溅射装置，尤其涉及用于通过进行溅射而在基板上形成具有所希望的光学特性的薄膜的薄膜制造方法和溅射装置。
技术介绍
以往，为了设计某产品组所要求的光学分光特性，尝试了使用自然界中的有限的物质来设计光学薄膜。但是，当使用这样有限的物质来设计光学薄膜时，设计变得复杂，并且难以获得具有任意光学特性的薄膜。因此，需要得到具有任意折射率和衰减系数的物质，即，自然界中不存在的物质。例如，为了构成宽带防反射膜，需要自然界中几乎不存在的具有中间折射率(在1.46～2.20之间)的材料。当以玻璃为例时，为了把玻璃的反射率设定成在所有可见光区域中为低反射率，一般需要具有在1.46～2.20范围内的称作中间折射率的折射率的材料。为了获得上述中间折射率，公知有以下的技术。即，公知有使低折射材料{例如SiO2(折射率1.46)}和高折射材料{例如TiO2(折射率2.35)}分别从不同的蒸发源同时蒸发，根据其混合比获得中间折射率(1.46～2.40)的技术；将低折射材料和高折射材料进行混合，同时从一个蒸发源蒸发，根据其混合比获得中间折射率的技术；通过组合低折射材料和高折射材料，等价本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜形成方法，其特征在于，具有：中间薄膜形成工序，对由一种或多种金属构成的靶进行溅射而在基板上形成由金属或金属不完全反应物构成的中间薄膜；膜成分变换工序，使混入了具有化学惰性性质的惰性气体的反应性气体活性种与上述形成的中 间薄膜接触，使上述中间薄膜和上述反应性气体活性种发生反应，从而变换成金属化合物；以及光学特性调节工序，在控制用于保持上述基板的基板座的运送速度的同时，在进行上述中间薄膜形成工序的区域和进行上述薄膜成分变换工序的区域之间反复地运送上述 基板座，从而反复地实施中间薄膜形成和膜成分变换，由此调节最终形成的薄膜的膜成分，形成具有出现迟滞...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋亦周，樱井武，
申请(专利权)人：株式会社新柯隆，
类型：发明
国别省市：JP[日本]