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本发明的薄膜形成方法具有光学特性调节工序，在控制用于保持基板的基板座（１３）的运送速度的同时，在进行中间薄膜形成工序的区域和进行薄膜成分变换工序的区域之间反复运送上述基板座（１３），调节最终形成的薄膜的膜成分，形成具有产生迟滞现象的区域内的...
该专利属于株式会社新柯隆所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社新柯隆授权不得商用。

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