镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种镀膜设备。上述镀膜设备用于给基板镀膜，镀膜设备包括第一中频镀膜室和伸缩件，第一中频镀膜室包括第一中频靶底板和第一靶材，第一中频靶底板设有两个，两个第一中频靶底板错开设置且存在间隔，每一第一中频靶底板设有第一靶材，基板能够从间隔穿过，伸缩件连接于第一中频靶底板，且能够带动第一靶材靠近或者远离基板，进而给基板镀膜。上述镀膜设备，错开的两个第一靶材可以同时对基板进行镀膜，有效的提高了镀膜的镀膜效率，同时第一中频靶底板上的伸缩件可以带动第一靶材靠近或者远离基板，使基板的镀膜操作过程更加灵活。

【技术实现步骤摘要】
镀膜设备
本技术涉及一种玻璃镀膜结构的
，特别是涉及一种镀膜设备。
技术介绍
目前的镀膜机大多以单面镀膜为主，但单面镀膜的效率低，且操作过程较为单一，不灵活。
技术实现思路
基于此，有必要针对目前的镀膜机单面镀膜效率低下，且操作过程不灵活的问题，提供一种镀膜设备。一种镀膜设备，用于给基板镀膜，所述镀膜设备包括：第一中频镀膜室，包括第一中频靶底板和第一靶材，所述第一中频靶底板设有两个，两个所述第一中频靶底板错开设置且存在第一间隔，每一所述第一中频靶底板设有第一靶材，基板能够从所述第一间隔穿过；及伸缩件，连接于所述第一中频靶底板，且能够带动所述第一靶材靠近或者远离基板，以使所述第一靶材给基板镀膜。上述镀膜设备，每一第一中频靶底板设有一个第一靶材，两个第一中频靶底板错开设置，因此两个第一靶材也错开设置且存在第一间隔，基板从第一间隔穿过，第一靶材可以对基板的两侧进行镀膜，有效的提高了镀膜的镀膜效率，同时第一中频靶底板上的伸缩件可以带动第一靶材靠近或者远离基板，使基板的镀膜操作过程更加灵活。在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种镀膜设备，用于给基板镀膜，其特征在于，所述镀膜设备包括：/n第一中频镀膜室，包括第一中频靶底板和第一靶材，所述第一中频靶底板设有两个，两个所述第一中频靶底板错开设置且存在第一间隔，每一所述第一中频靶底板设有第一靶材，基板能够从所述第一间隔穿过；及/n伸缩件，连接于所述第一中频靶底板，且能够带动所述第一靶材靠近或者远离基板，以使所述第一靶材给基板镀膜。/n

【技术特征摘要】
1.一种镀膜设备，用于给基板镀膜，其特征在于，所述镀膜设备包括：
第一中频镀膜室，包括第一中频靶底板和第一靶材，所述第一中频靶底板设有两个，两个所述第一中频靶底板错开设置且存在第一间隔，每一所述第一中频靶底板设有第一靶材，基板能够从所述第一间隔穿过；及
伸缩件，连接于所述第一中频靶底板，且能够带动所述第一靶材靠近或者远离基板，以使所述第一靶材给基板镀膜。


2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述伸缩件被液压缸驱动，或者被凸轮机构驱动，或者被滚珠丝杠机构驱动，或者被螺纹传动机构驱动。


3.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，还包括第二中频镀膜室，第二中频镀膜室连接于所述第一中频镀膜室，所述第二中频镀膜室设有两个第二中频靶底板，两个所述第二中频靶底板错开设置且存在第二间隔，每一所述第二中频靶底板设有第二靶材；基板能够从所述第一间隔进入所述第二间隔，以使所述第二靶材能够对基板镀膜。


4.根据权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，还包括第一直流镀膜室和连接于所述第一直流镀膜室的第二直流镀膜室，所述第一直流镀膜室和所述第二直流镀膜室用于给基板镀膜，所述第一直流镀膜室与所述第二中频镀膜室连接；基板能够从所述第二中频镀膜室依次进入所述第一直流镀膜室和所述第二直流镀膜室。


5.根据权利要求4所述的镀膜设备，其特征在于，还包括隔离室...

【专利技术属性】
技术研发人员：易伟华，张迅，郑芳平，徐彬彬，洪华俊，
申请(专利权)人：江西沃格光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江西;36