联合微机械和光学器件阵列制造技术

一个单元（６００）由电子集成电路（６０４）、ＭＥＭＳ装置（６０８）以及有源光学装置（６０２）组成，该有源光学装置与电子集成电路电耦合并位于电子集成电路和ＭＥＭＳ之间。将ＭＥＭＳ装置电耦合到电子集成电路并定位，根据在电子集成电路控制下的ＭＥＭＳ装置中的元件相对于有源光学器件的位置影响光的状态。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及微机械，且尤其涉及与如激光器或光电探测器等的光学器件联合使用的微机械。相关申请的交互引用本专利技术根据美国专利法119(e)(1)要求对2002年3月19日提交的美国临时专利申请序号为60/366,040的优先权。
技术介绍
微型电子机械设备(MEMS)由微小的用电驱动很小结构的″微机械″组成。在光学领域，MEMS被极其广泛地用于进行制造使用一系列微反射镜来控制从一个光纤到另一个光纤的光线的光学交叉连接器的尝试。图1和图2显示了一个现有技术的MEMS光学交叉连接器100。一组光纤102、104、106、108以成直线的方式排列，这样离开其中一个光纤108的光线将穿过气隙110并进入与第一个光纤108排成一直线的另一个光纤104。同样，从不同的光纤106离开的光线将进入与其排成一直线的不同的光纤102。还设置一个可移进和移出气隙110的MEMS微镜片112。微镜片112进出气隙110的移动将影响离开一个光纤进入气隙110的光线将射向何处，且这样就可以用于依靠微镜片112的位置来控制离开一个光纤的光线进入不同的光纤。例如，当微镜片112不在气隙110中时，即，在图1所示本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种单元，其特征在于，包括：电子集成电路；ＭＥＭＳ装置；以及有源光学器件，该有源光学器件电耦合到电子集成电路并位于电子集成电路和ＭＥＭＳ装置之间；将ＭＥＭＳ装置电耦合到电子集成电路并相对于有源光学器件定位，根 据在电子集成电路控制下的ＭＥＭＳ装置中的元件的位置影响光的状态。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：约翰特雷泽，
申请(专利权)人：美莎诺普有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]