法拉第杯组件、离子注入装置及其使用方法制造方法及图纸

本公开提供一种法拉第杯组件、离子注入装置及其使用方法，涉及半导体技术领域。该法拉第杯组件包括基座、法拉第杯、保护环和多个连接件。基座具有一设有安装槽的安装面，安装槽的底面设有至少一个安装孔；法拉第杯呈圆环状且设于安装槽的底面，法拉第杯设有沿周向延伸的圆环形的杯腔，杯腔具有朝向安装槽顶部的开放端，杯腔底部设有多个沿周向均匀分布的固定孔；保护环设于安装面且遮蔽安装槽，保护环在开放端的投影覆盖杯腔，保护环设有多个周向分布的圆弧形的狭缝，狭缝和固定孔满足以下条件：

【技术实现步骤摘要】
法拉第杯组件、离子注入装置及其使用方法
本公开涉及半导体
，具体而言，涉及一种法拉第杯组件、离子注入装置及离子注入装置的使用方法。
技术介绍
在半导体领域，离子注入技术的应用十分广泛，其可将改变导电性的杂质引入晶圆，以改善产品性能。目前，通常利用离子注入设备生成离子束，并向晶圆轰击，其中，为了检测离子的入射强度，一般要将离子束引入法拉第杯，并通过法拉第杯检测电流变化，从而确定离子束的入射强度。但是，离子束长时间打到法拉第杯的同一区域，会将该区域打薄，甚至打穿，使得法拉第杯测量的电流不准确，导致晶圆电性的偏差，影响产品良率。若频繁检查并更换法拉第杯，则成本较高。需要说明的是，在上述
技术介绍
部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
本公开的目的在于克服上述现有技术的不足，提供一种法拉第杯组件、离子注入装置及离子注入装置的使用方法，可降低成本，提升产品良率。根据本公开的一个方面，提供一种法拉第杯组件，包括：基座，所述基座具有一安装面，所述安装面设有安装槽，所述安装槽的底面设有至少一个安装孔；法拉第杯，呈圆环状，且设于所述安装槽的底面，所述法拉第杯设有沿周向延伸的圆环形的杯腔，所述杯腔具有朝向所述安装槽顶部的开放端，所述杯腔底部设有多个沿周向均匀分布的固定孔，每个所述安装孔与一个所述固定孔正对；保护环，设于所述安装面且遮蔽所述安装槽，并与所述法拉第杯同轴设置，所述保护环在所述开放端的投影覆盖所述杯腔，所述保护环设有多个周向均匀分布的圆弧形的狭缝，所述狭缝与所述杯腔连通，所述狭缝和所述固定孔满足以下条件：其中，n为所述狭缝的数量，c为所述狭缝所处圆周的周长，L为所述狭缝的弧长，m为所述固定孔的数量；连接件，可拆卸地连接于所述安装孔，且穿过与所述安装孔正对的固定孔。在本公开的一种示例性实施例中，所述狭缝和所述固定孔还满足以下条件：m＝2n。在本公开的一种示例性实施例中，所述连接件具有外螺纹，且与对应的所述安装孔螺纹连接。在本公开的一种示例性实施例中，所述法拉第杯组件还包括：多个接头，设于所述杯腔的底部，且沿周向分布，相邻两个所述接头的圆心角与相邻两所述固定孔的圆心角相同。在本公开的一种示例性实施例中，所述狭缝的数量为四个，所述固定孔的数量为八个。在本公开的一种示例性实施例中，所述法拉第杯组件还包括：测距器件，设于所述保护环靠近所述法拉第杯的表面，且位于所述杯腔内，所述测距器件位于相邻两所述狭缝之间，用于检测所述测距器件与所述杯腔底部的距离；处理器件，与所述测距器件连接，用于在所述测距器件与所述杯腔底部的距离大于阈值时，输出提醒信号。在本公开的一种示例性实施例中，所述法拉第杯组件还包括：报警器件，与所述处理器件连接，用于在接收到所述提醒信号时，发出警报。在本公开的一种示例性实施例中，所述法拉第杯组件还包括：至少一个遮蔽件，可拆卸地设于所述保护环远离所述法拉第杯的表面，用于遮蔽至少一个所述狭缝。在本公开的一种示例性实施例中，所述遮蔽件的材料包括铝、硅、碳化硅中至少一种。根据本公开的一个方面，提供一种离子注入装置，包括上述任意一项所述的法拉第杯组件。根据本公开的一个方面，提供一种离子注入装置的使用方法，所述离子注入装置为上述任意一项所述离子注入装置，所述使用方法包括：检测所述保护环与所述杯腔的底部的距离；在所述保护环与所述杯腔的距离大于阈值时，将所述连接件从所述安装孔拆卸；旋转所述法拉第杯，旋转角度为相邻两所述固定孔的中心的夹角整数倍；将所述连接件重新连接于所述安装孔。本公开的离子注入装置及法拉第杯组件，在使用时，可使离子束通过狭缝进入杯腔，以便测量离子束的强度；同时，由于法拉第杯和基座通过连接件可拆卸地连接，因而可将法拉第杯与基座拆卸，并通过旋转法拉第杯，调节离子束在杯腔内的作用区域，旋转的角度可为相邻两固定孔中心的夹角的整数倍，以便在每次旋转后均可继续用连接件连接；狭缝和固定孔满足的条件可保证杯腔与狭缝正对的区域在旋转前和旋转后不重合，从而防止法拉第杯的局部区域过薄或打穿，延长使用寿命，避免频繁更换，有利于降低成本，并保证检测结果的准确性，从而提高产品良率。应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。附图说明此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本公开法拉第杯组件一实施方式的局部剖视图。图2为本公开法拉第杯组件一实施方式中法拉第杯的示意图。图3为图2的A-A剖视图。图4为本公开法拉第杯组件一实施方式中保护环、测距器件、处理器件和报警器件的示意图。图5为图4的B-B剖视图。图6为本公开法拉第杯组件另一实施方式的示意图。附图标记说明：100、基座；1、法拉第杯；101、杯腔；102、固定孔；2、保护环；201、狭缝；3、连接件；4、接头；41、第一触点；42、第二触点；5、测距器件；6、处理器件；7、报警器件；8、遮蔽件；9、磁性件。具体实施方式现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本公开将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。此外，附图仅为本公开的示意性图解，并非一定是按比例绘制。虽然本说明书中使用相对性的用语，例如“上”“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系，但是这些术语用于本说明书中仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是，如果将图标的装置翻转使其上下颠倒，则所叙述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。当某结构在其它结构“上”时，有可能是指某结构一体形成于其它结构上，或指某结构“直接”设置在其它结构上，或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。用语“一个”、“一”、“该”、“所述”和“至少一个”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等；用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等。用语“第一”、“第二”和“第三”等仅作为标记使用，不是对其对象的数量限制。本公开实施方式提供了一种法拉第杯组件，包含于离子注入装置，用于对晶圆或其它半导体器件进行离子注入。如图1所示，法拉第杯组件可包括基座100、法拉第杯1、保护本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种法拉第杯组件，其特征在于，包括：/n基座，所述基座具有一安装面，所述安装面设有安装槽，所述安装槽的底面设有至少一个安装孔；/n法拉第杯，呈圆环状，且设于所述安装槽的底面，所述法拉第杯设有沿周向延伸的圆环形的杯腔，所述杯腔具有朝向所述安装槽顶部的开放端，所述杯腔底部设有多个沿周向均匀分布的固定孔，每个所述安装孔与一个所述固定孔正对；/n保护环，设于所述安装面且遮蔽所述安装槽，并与所述法拉第杯同轴设置，所述保护环在所述开放端的投影覆盖所述杯腔，所述保护环设有多个周向均匀分布的圆弧形的狭缝，所述狭缝与所述杯腔连通，所述狭缝和所述固定孔满足以下条件：/n

【技术特征摘要】
1.一种法拉第杯组件，其特征在于，包括：
基座，所述基座具有一安装面，所述安装面设有安装槽，所述安装槽的底面设有至少一个安装孔；
法拉第杯，呈圆环状，且设于所述安装槽的底面，所述法拉第杯设有沿周向延伸的圆环形的杯腔，所述杯腔具有朝向所述安装槽顶部的开放端，所述杯腔底部设有多个沿周向均匀分布的固定孔，每个所述安装孔与一个所述固定孔正对；
保护环，设于所述安装面且遮蔽所述安装槽，并与所述法拉第杯同轴设置，所述保护环在所述开放端的投影覆盖所述杯腔，所述保护环设有多个周向均匀分布的圆弧形的狭缝，所述狭缝与所述杯腔连通，所述狭缝和所述固定孔满足以下条件：






其中，n为所述狭缝的数量，c为所述狭缝所处圆周的周长，L为所述狭缝的弧长，m为所述固定孔的数量；
连接件，可拆卸地连接于所述安装孔，且穿过与所述安装孔正对的固定孔。


2.根据权利要求1所述的法拉第杯组件，其特征在于，所述狭缝和所述固定孔还满足以下条件：
m＝2n。


3.根据权利要求1所述的法拉第杯组件，其特征在于，所述连接件具有外螺纹，且与对应的所述安装孔螺纹连接。


4.根据权利要求1所述的法拉第杯组件，其特征在于，所述法拉第杯组件还包括：
多个接头，设于所述杯腔的底部，且沿周向分布，相邻两个所述接头的圆心角与相邻两所述固定孔的圆心角相同。


5.根据权利要求1所述的法拉第杯组件，其特征在于，所述狭缝的数量为四个，所述固...

【专利技术属性】
技术研发人员：王东，
申请(专利权)人：长鑫存储技术有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34