周期栅阵的周期长度的测量方法技术

本发明专利技术公开了一种用于对周期阵列结构中的周期栅阵进行测量的测量方法，包括：获取所述周期阵列结构的图像并获取所述图像的像素间距值；在所述图像上绘制覆盖多个所述周期栅阵的测量线；确定所述测量线上至少一部分像素的坐标值和图像特征值、以及所述测量线的斜率；利用所述坐标值和所述图像特征值，利用拟合函数来计算得到所述测量线的空间圆频率；利用所述像素间距值和所述空间圆频率，来计算得到所述测量线的延伸方向上的测量线周期长度；以及基于所述测量线的斜率、以及所述测量线周期长度来计算所述周期栅阵的实际周期长度。

【技术实现步骤摘要】
周期栅阵的周期长度的测量方法
本专利技术涉及一种测量方法，更具体地，涉及一种具有周期阵列结构的器件中周期栅阵的周期长度的测量方法。
技术介绍
在诸如声表面波滤波器件之类的具有周期阵列结构的器件的前道加工中，诸如金属叉指换能器(IDT)之类的周期阵列结构的各种特征尺寸会严重影响最终的性能，必须在加工过程中对这些特征尺寸进行精确地测量。其中，周期阵列结构中周期栅阵的周期长度是影响器件工作频率的最主要因素。目前测量周期阵列结构的周期栅阵周期长度等微观结构尺寸的方法主要是通过各种带标尺或标定好的显微镜拍好显微图像，在通过机器判别或人工判别并选取某些特征位置，最后将这些特征位置与预定的标尺作比较最后得到所需的特征尺寸。例如，目前的较常见的测量方法之一是通过各种高精度带标定功能的显微镜来拍摄周期阵列结构的图像，并且在分析软件中绘制一条在“垂直”方向覆盖多个栅阵周期(例如，金属叉指换能器中的多个指条周期)的测量线，该软件可以直接获取该测量线的总长度，再用该长度除以周期数得到最终的指条周期长度。
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题...

【技术保护点】
1.一种测量方法，用于对周期阵列结构中的周期栅阵进行测量，其特征在于，包括：/n图像获取步骤，在该图像获取步骤中，获取所述周期阵列结构的图像并获取所述图像的像素间距值；/n测量线绘制步骤，在该测量线绘制步骤中，在所述图像上绘制覆盖多个所述周期栅阵的测量线；/n测量线参数确定步骤，在该测量线参数确定步骤中，确定所述测量线上至少一部分像素的坐标值和图像特征值、以及所述测量线的斜率；/n圆频率计算步骤，在该圆频率计算步骤中，利用所述坐标值和所述图像特征值，利用拟合函数来计算得到所述测量线的空间圆频率；/n测量线周期长度计算步骤，在该测量线周期长度计算步骤中，利用所述像素间距值和所述空间圆频率，来计算...

【技术特征摘要】
1.一种测量方法，用于对周期阵列结构中的周期栅阵进行测量，其特征在于，包括：
图像获取步骤，在该图像获取步骤中，获取所述周期阵列结构的图像并获取所述图像的像素间距值；
测量线绘制步骤，在该测量线绘制步骤中，在所述图像上绘制覆盖多个所述周期栅阵的测量线；
测量线参数确定步骤，在该测量线参数确定步骤中，确定所述测量线上至少一部分像素的坐标值和图像特征值、以及所述测量线的斜率；
圆频率计算步骤，在该圆频率计算步骤中，利用所述坐标值和所述图像特征值，利用拟合函数来计算得到所述测量线的空间圆频率；
测量线周期长度计算步骤，在该测量线周期长度计算步骤中，利用所述像素间距值和所述空间圆频率，来计算得到所述测量线的延伸方向上的测量线周期长度；以及
实际周期长度计算步骤，在该实际周期长度计算步骤中，基于所述测量线的斜率、以及所述测量线周期长度来计算所述周期栅阵的实际周期长度。


2.如权利要求1所述的测量方法，其特征在于，所述测量方法还包括周期栅阵数目计算步骤，在该周期栅阵数目计算步骤中，基于所述测量线上所有像素的坐标值和所述测量线周期长度，计算所述测量线所覆盖的所述周期栅阵的栅阵数目。


3.如权利要求1或2所述的测量方法，其特征在于，所述测量线通过在所述图像上随机获取两点而连接得到。


4.如权利要求1或2所述的测量方法，其特征在于，所述测量线通过在所述图像上随机获取三点而连接得到。


5.如权利要求4所述的测量方法，其特征在于，所述三点中，将第一点设为位于所述图像中靠近左边或右边的任意位置，将除第一点以外的第二点和第三点设为位于所述第一点的右侧或左侧，且尽可能覆盖较多的所述周期栅阵。


6.如权利要求5所述的测量方法，其特征在于，所述测量线包含第一测量线和第二测量线，所述第一测量线由所述第一点与所述第二点相连得到，所述第二测量线由所述第一点与所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：李阳，李红浪，其他发明人请求不公开姓名，
申请(专利权)人：广东广纳芯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44