铝钕合金旋转溅射靶材及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种铝钕合金旋转溅射靶材及其制备方法。铝钕合金旋转溅射靶材包括本体，本体的最外层为氧化层，本体包括溅射端和分别位于溅射端两边的安装端，溅射端与安装端为一体成型。上述铝钕合金旋转溅射靶材中，一方面，溅射端与安装端为一体成型，这样能够避免焊接质量不良影响溅射效果；另一方面，本体的最外层为氧化层，保证了本体具有足够的硬度，从而不易损坏。上述整体使得本发明专利技术的铝钕合金旋转溅射靶材有利于应用。

【技术实现步骤摘要】
铝钕合金旋转溅射靶材及其制备方法
本专利技术涉及旋转溅射靶材
，特别是涉及一种铝钕合金旋转溅射靶材及其制备方法。
技术介绍
真空镀膜是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。现在常用的真空镀膜技术是磁控溅射镀膜，磁控溅射镀膜是指将涂层材料做为靶阴极，利用氩离子轰击靶材，产生阴极溅射，把靶材原子溅射到工件上形成沉积层的一种镀膜技术。与旋转管靶相比，平面靶的材料利用率较低，寿命较短，因此，靶材产品也从平面靶逐渐升级为旋转管靶。而旋转管靶的加工精度和生产工艺要求更高，对材料的密度、纯度、晶粒大小和均一性、尺寸精度等均有要求。铝钕旋转管靶材主要用于平板显示器行业。传统的铝钕旋转管靶的两端安装位置都是焊接而成，而焊接质量不良容易造成漏气漏水，对溅射设备效果产生很大的影响，不利于应用。
技术实现思路
基于此，有必要针对如何避免铝钕合金旋转溅射靶材焊接质量不良影响溅射效果同时不易损坏的问题，提供一种能够避免焊接质量不良影响溅射效果同时不易损坏的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种铝钕合金旋转溅射靶材，其特征在于，所述铝钕合金旋转溅射靶材包括本体，所述本体的最外层为氧化层，所述本体包括溅射端和分别位于所述溅射端两边的安装端，所述溅射端与所述安装端为一体成型。/n

【技术特征摘要】
1.一种铝钕合金旋转溅射靶材，其特征在于，所述铝钕合金旋转溅射靶材包括本体，所述本体的最外层为氧化层，所述本体包括溅射端和分别位于所述溅射端两边的安装端，所述溅射端与所述安装端为一体成型。


2.根据权利要求1所述的铝钕合金旋转溅射靶材，其特征在于，所述氧化层的厚度为20μm～35μm。


3.一种铝钕合金旋转溅射靶材的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
按照原子百分比，将95％～99.9％的铝和0.1％～5％的钕混匀并熔炼，之后依次浇铸成型、挤压处理与退火处理，得到前体；
对所述前体进行表面硬质氧化处理，以在所述前体的表面形成氧化层，之后进行机加处理，得到铝钕合金旋转溅射靶材；所述铝钕合金旋转溅射靶材包括本体，所述本体的最外层为氧化层，所述本体包括溅射端和分别位于所述溅射端两边的安装端，所述溅射端与所述安装端为一体成型。


4.根据权利要求3所述的铝钕合金旋转溅射靶材的制备方法，其特征在于，将铝和钕混匀的步骤为：先加入铝锭，再加入钕块。


5.根据权利要求3所述的铝钕合金旋转溅射靶材的制备方法，其特征在于，熔炼的条件为：于1100℃～1200℃温度范围内熔炼20min～60min，扒渣后加入细化剂混匀后静置，得到混合金属液。


6.根据权利要求5所述的铝钕合金旋转溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述浇铸成型的步骤为：对熔炼后的混合金属液进行半连续铸造，得到预设尺寸的铸棒；铸造的过程中，浇铸温度为685℃～715℃，浇铸速度为80mm/min～100mm/min。


7.根据权利要求6所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：张玉玲，
申请(专利权)人：基迈克材料科技苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32