晶质化SiO2-Al2O3混合氧化物蒸镀材料的制备方法技术

一种晶质化ＳｉＯ↓［２］－Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］混合氧化物蒸镀材料的制备方法，先置二氧化硅－氧化铝混合氧化物粉体，按重量百分比由ＳｉＯ↓［２］（５０％－９０％）和Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］（１０％－５０％）组成，将该混合粉体置于真空中频感应炉石墨坩锅中，在真空度≤１×１０↑［－２］Ｐａ下用中频源感应石墨坩锅加热到１６５０℃－１７５０℃，形成ＳｉＯ↓［２］－Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］混合氧化物熔融体，对该熔融体通过缓慢沉降冷却，形成预熔融晶质化ＳｉＯ↓［２］－Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］混合氧化物蒸镀材料。制备过程中出现的水汽和残留气体采用冷阱捕集器捕集，深冷温度≤－１２０℃。本发明专利技术用高真空中频感应炉感应加热石墨坩埚并缓慢沉降长晶法制备预熔融晶质化ＳｉＯ↓［２］－Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］混合氧化物，作为蒸镀高级光学薄膜用的高纯高致密度起始材料。本例可缩短生产周期，节约生产成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种蒸发镀膜材料的制备方法，特别涉及一种 晶质化Si02-AL03混合氧化物蒸镀材料的制备方法。
技术介绍
光学镀层应用领域的日益快速发展以及随之对光学薄膜 提出更高性能的需求，除了严格控制镀膜工艺外，蒸镀起始材 料及其制备技术成为一个十分关键的问题。例如要求蒸镀材料 在蒸镀过程中不会有颗粒飞溅，不会逸出气体，并能稳定使用 重复性好。为此，高纯度、高致密度、特定折射率的均质蒸镀 材料被不断开发应用，特别那些混合氧化物蒸镀材料受到极大 重视，如La-Ti、 La-Al、 Al-Zr系等等。因为，根据折射率大小的预定要求，以及对薄膜的应力状态和良好的环境稳定性 要求，可以通过选择混合氧化物的种类和设计混合物的配比来 达到，采用一定的工艺技术，制成高堆积密度、高稳定性的蒸 镀材料，实现稳定成膜和应用要求的目的。那些混合氧化物大 多属于耐熔材料，采用常规的陶瓷烧结工艺难以达到均质致密 要求，往往采用热压或热等静压烧结、中频感应烧结、微波烧 结或高温高真空烧结等技术，制备成合适的蒸镀起始材料。用 这些技术制备的蒸镀材料，在使用中，必须在开始蒸镀之前， 在真空镀膜室内让其充分熔融本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种晶质化ＳｉＯ↓［２］－Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］混合氧化物蒸镀材料的制备方法，其特征是：依次按以下步骤：步骤（１），配置ＳｉＯ↓［２］－Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］混合氧化物粉体，按重量百分比由ＳｉＯ↓［２］：５０％－９０％和Ａｌ↓［２］ Ｏ↓［３］：１０％－５０％组成；步骤（２），将所述ＳｉＯ↓［２］－Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］混合氧化物粉体置于石墨坩锅中，石墨坩锅置于真空中频感应炉中，真空压力≤１×１０↑［－２］Ｐａ，用中频感应炉感应加热石墨坩锅，使石墨坩埚感应发热到 １６５０℃－１７５０℃，热辐射和热传导至ＳｉＯ↓［２］－Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］混合氧化物粉体，形成ＳｉＯ...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：许士荣，
申请(专利权)人：昆山光铭光电子元件有限公司，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]