一种半导体石墨反应釜制造技术

本发明专利技术公开了一种半导体石墨反应釜，包括石墨反应釜体，所述石墨反应釜体外侧的底部位置处设置有出料管，所述出料管顶部的中间位置处设置有出料阀门，且出料阀门的输出端延伸至出料管的内部，所述出料管的内侧均匀设置有弧形挡板，所述石墨反应釜体顶部的一侧设置有进料口，所述进料口的顶部位置处设置有仓盖，所述进料口的内侧设置有滑槽，且滑槽延伸至进料口的内壁；本发明专利技术装置通过增加活塞和滑动杆，在反应釜产生气体时，气压推动活塞，从而使得气体能够从出气口排出，维持内部压强平衡；通过设置螺旋搅拌叶，且在搅拌叶外侧增加挡板，使得搅拌叶在搅拌时，能够减缓反应物的离心作用，减少对反应釜内壁的撞击。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体石墨反应釜
本专利技术涉及反应釜设备
，具体为一种半导体石墨反应釜。
技术介绍
化工生产中，很多行业都使用防腐反应釜，现市场中使用最多的防腐反应釜有搪瓷反应釜、塑料反应釜及不锈钢反应釜等，石墨的导热系数比其他几种材料都大很多，导热效果较好，在现有的反应釜中经常被用于各种化工反应。现有现有石墨反应釜多种多样，但是仍存在较为明显的问题：1、常规的反应釜内的化学物质在反应过程中，经常产生二氧化碳、二氧化硫等气体，产生的气体无法排出，使得反应釜内的压强增大，对反应釜产生较大的压力；2、反应物质在反应过程中，需要进行搅拌使其搅拌均匀，搅拌过程产生的离心力，容易使得反应物甩向反应釜内壁，产生撞击，存在破坏反应釜内壁的可能性；3、在放料过程中，反应物因受重力作用在放料时产生较大的冲击力，容易出现喷溅的现象。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种半导体石墨反应釜，以解决上述
技术介绍
中提出现有现有石墨反应釜多种多样，但是仍存在较为明显的问题：常规的反应釜内的化学物质在反应过程中，经常产生二氧化碳、二氧化硫等气体，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种半导体石墨反应釜，包括石墨反应釜体（1），其特征在于：所述石墨反应釜体（1）外侧的底部位置处设置有出料管（4），所述出料管（4）顶部的中间位置处设置有出料阀门（3），且出料阀门（3）的输出端延伸至出料管（4）的内部，所述出料管（4）的内侧均匀设置有弧形挡板（13），所述石墨反应釜体（1）顶部的一侧设置有进料口（5），所述进料口（5）的顶部位置处设置有仓盖（6），所述进料口（5）的内侧设置有滑槽（14），且滑槽（14）延伸至进料口（5）的内壁，所述滑槽（14）的外侧设置有出气口（16），所述滑槽（14）的底部位置处设置有弹簧（18），所述弹簧（18）远离滑槽（14）的一端设置有T型滑杆（...

【技术特征摘要】
1.一种半导体石墨反应釜，包括石墨反应釜体（1），其特征在于：所述石墨反应釜体（1）外侧的底部位置处设置有出料管（4），所述出料管（4）顶部的中间位置处设置有出料阀门（3），且出料阀门（3）的输出端延伸至出料管（4）的内部，所述出料管（4）的内侧均匀设置有弧形挡板（13），所述石墨反应釜体（1）顶部的一侧设置有进料口（5），所述进料口（5）的顶部位置处设置有仓盖（6），所述进料口（5）的内侧设置有滑槽（14），且滑槽（14）延伸至进料口（5）的内壁，所述滑槽（14）的外侧设置有出气口（16），所述滑槽（14）的底部位置处设置有弹簧（18），所述弹簧（18）远离滑槽（14）的一端设置有T型滑杆（17），所述T型滑杆（17）远离弹簧（18）的一端设置有活塞（15），所述石墨反应釜体（1）顶部的中间位置处设置有电机底座（8），所述电机底座（8）的顶部设置有驱动电机（7），所述驱动电机（7）的输出端设置有传动杆（11），所述传动杆（11）的外侧设置...

【专利技术属性】
技术研发人员：戴雪飞，
申请(专利权)人：大同新成新材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：山西;14