基于高精度电感测头的逐级递推式纳米级测量系统技术方案

技术编号:2641285 阅读:123 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种基于高精度电感测头的逐级递推式纳米级测量系统,包括控制部分,其特征在于还包括: 铁心(9)放置在线圈(10)和(8)之间; 测杆(7),其一端连接铁心(9),另一端连接测杆触头(5); 微进给装置(6)位于测杆(7)之间,根据被测物体(4)的微小位移量提供进给量。(*该技术在2012年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及纳米级测量系统,特别涉及基于高精度电感测头的逐级递推式纳米级测量系统。为实现上述目的,一种基于高精度电感测头的逐级递推式纳米级测量系统,包括控制部分,还包括铁心9放置在线圈10和8之间;测杆7,其一端连接铁心9,另一端连接测杆触头5;微进给装置6位于测杆7之间,根据被测物体4的微小位移量提供进给量。本技术针对微位移测量采用逐级递推方式进行分步推进,一方面使纳米级测量易于实现,另一方面使整个测量系统具有较大的测量范围。第一级为手动调节,调整铁芯的位置,使铁芯处在电感L1和L2的正中。因这一级要求达到的精度不高,操作并不困难。第二级和第三级都为自动调节,对不同测量段能够实现无缝对接,相当于量程能够自动切换。特别是最后一级,通过对微进给装置的纳米级补偿控制实现纳米级测量,因此,纳米级进给装置决定了该测量系统具有较高的测量精度。该测量系统采用接触方式测量,因此本系统适合准静态的微位移测量。逐级递推式纳米级测量系统分为三级,每前进一级测量精度都得到不同程度的提高。第一级为粗调整,也称手动调整。高精度电感测头固定在基座上,通过手动调整铁芯与电感L1、L2的相对位置,努力使铁芯处在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:台宪青胡旭晓杨克己
申请(专利权)人:中国科学院自动化研究所
类型:实用新型
国别省市:

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