半导体工业的供液系统技术方案

一种半导体工业的供液系统，包括：前端三通阀，输入端用于连接前段液体供应管路；主缓冲容器，输入端连接所述前端三通阀的第一输出端；辅缓冲容器，输入端连接所述前端三通阀的第二输出端；后端三通阀，第一输入端连接所述主缓冲容器的输出端，第二输入端连接所述辅缓冲容器的输出端；使用端控制阀；第一主液体传感器，设置于所述主缓冲容器的顶部液位线下边缘；第二主液体传感器，设置于所述主缓冲容器的底部液位线上边缘；第一辅液体传感器，设置于所述辅缓冲容器的顶部液位线下边缘；第二辅液体传感器，设置于所述辅缓冲容器的底部液位线上边缘。所述半导体工业的供液系统在保证供液不停机的情况下，提高系统安全保障作用。

【技术实现步骤摘要】
半导体工业的供液系统
本技术涉及半导体制造领域，尤其涉及一种半导体工业的供液系统。
技术介绍
目前，半导体行业的晶片湿法处理设备都涉及到化学液的供给，而随着设备的自动化程度和功能越来越完善，相应的化学液供给系统也变得越来越庞大和复杂。同时，在半导体制造装置的药液使用工序中，例如为了将光刻胶等药液按预定量涂布到半导体晶片上，均需要相应的供液系统能够将定量药液供给特定的使用位置和场合。在药液供给系统中，许多药液本身通常已经十分昂贵，而相应的供液装置不仅昂贵且结构复杂。因此，如何保证供液系统精确地提供液体而不浪费药液，同时避免液体对其它装置的损害，成为业界共同关心的问题。
技术实现思路
本技术解决的问题是，提供一种化学液供给系统，以实现更好的供液功能。为解决上述问题，本技术提供了一种半导体工业的供液系统，包括：前端三通阀，所述前端三通阀的输入端用于连接前段液体供应管路；主缓冲容器，所述主缓冲容器的输入端连接所述前端三通阀的第一输出端；辅缓冲容器，所述辅缓冲容器的输入端连接所述前端三通阀的第二输出端；后端三通阀，所述后端三通阀的第一输入端连接所述主缓冲容器的输出端，所述后端三通阀的第二输入端连接所述辅缓冲容器的输出端；使用端控制阀，所述使用端控制阀的输入端连接所述后端三通阀的输出端；第一主液体传感器，设置于所述主缓冲容器的顶部液位线下边缘；第二主液体传感器，设置于所述主缓冲容器的底部液位线上边缘；第一辅液体传感器，设置于所述辅缓冲容器的顶部液位线下边缘；第二辅液体传感器，设置于所述辅缓冲容器的底部液位线上边缘。为解决上述问题，本技术还提供了另一种半导体工业的供液系统，包括：前端三通阀，所述前端三通阀的输入端用于连接前段液体供应管路；主缓冲容器，所述主缓冲容器的输入端连接所述前端三通阀的第一输出端；辅缓冲容器，所述辅缓冲容器的输入端连接所述前端三通阀的第二输出端；主后端控制阀，所述主后端控制阀的输入端连接所述主缓冲容器的输出端；辅后端控制阀，所述辅后端控制阀的输入端连接所述辅缓冲容器的输出端；使用端控制阀，所述使用端控制阀的输入端连接所述主后端控制阀的输出端和所述辅后端控制阀的输出端；第一主液体传感器，设置于所述主缓冲容器的顶部液位线下边缘；第二主液体传感器，设置于所述主缓冲容器的底部液位线上边缘；第一辅液体传感器，设置于所述辅缓冲容器的顶部液位线下边缘；第二辅液体传感器，设置于所述辅缓冲容器的底部液位线上边缘。为解决上述问题，本技术还提供了另一种半导体工业的供液系统，包括：主前端控制阀，所述主前端控制阀的输入端用于连接第一前段液体供应管路；辅前端控制阀，所述辅前端控制阀的输入端用于连接第二前段液体供应管路；主缓冲容器，所述主缓冲容器的输入端连接所述主前端控制阀的输出端；辅缓冲容器，所述辅缓冲容器的输入端连接所述辅前端控制阀的输出端；后端三通阀，所述后端三通阀的第一输入端连接所述主缓冲容器的输出端，所述后端三通阀的第二输入端连接所述辅缓冲容器的输出端；使用端控制阀，所述使用端控制阀的输入端连接所述后端三通阀的输出端；第一主液体传感器，设置于所述主缓冲容器的顶部液位线下边缘；第二主液体传感器，设置于所述主缓冲容器的底部液位线上边缘；第一辅液体传感器，设置于所述辅缓冲容器的顶部液位线下边缘；第二辅液体传感器，设置于所述辅缓冲容器的底部液位线上边缘。为解决上述问题，本技术还提供了另一种半导体工业的供液系统，包括：主前端控制阀，所述主前端控制阀的输入端用于连接第一前段液体供应管路；辅前端控制阀，所述辅前端控制阀的输入端用于连接第二前段液体供应管路；主缓冲容器，所述主缓冲容器的输入端连接所述主前端控制阀的输出端；辅缓冲容器，所述辅缓冲容器的输入端连接所述辅前端控制阀的输出端；主后端控制阀，所述主后端控制阀的输入端连接所述主缓冲容器的输出端；辅后端控制阀，所述辅后端控制阀的输入端连接所述辅缓冲容器的输出端；使用端控制阀，所述使用端控制阀的输入端连接所述主后端控制阀的输出端和所述辅后端控制阀的输出端；第一主液体传感器，设置于所述主缓冲容器的顶部液位线下边缘；第二主液体传感器，设置于所述主缓冲容器的底部液位线上边缘；第一辅液体传感器，设置于所述辅缓冲容器的顶部液位线下边缘；第二辅液体传感器，设置于所述辅缓冲容器的底部液位线上边缘。可选的，所述各系统还包括：主排气装置，所述主排气装置连接在所述主缓冲容器的顶部；辅排气装置，所述辅排气装置连接在所述辅缓冲容器的顶部。可选的，所述各系统还包括：第三主液体传感器，设置于所述主缓冲容器的顶部液位线上方；第三辅液体传感器，设置于所述辅缓冲容器的顶部液位线上方。可选的，所述各系统还包括：第四主液体传感器，设置于所述主缓冲容器的底部液位线下方；第四辅液体传感器，设置于所述辅缓冲容器的底部液位线下方。可选的，所述各系统还包括：保护容器，所述保护容器将所述主缓冲容器和所述辅缓冲容器容纳在其内部空间中。可选的，所述各系统还包括：保护传感器，设置在所述保护容器内部空间的底部。可选的，所述主排气装置具有两个排气出口；所述辅排气装置具有两个排气出口。本技术技术方案的其中一个方面中，半导体工业的供液系统设置主缓冲容器和辅缓冲容器，使得整个供液系统不停机地连续平衡供液，同时，设置相应的液位传感器，以保证系统的安全性和可靠性，防止药液逸出浪费，更防止药液逸出损害系统本身或者其它装置。进一步，通过进一步的其它液位传感器的特殊设置，本技术进一步提高系统的安全性和可靠性。附图说明图1是本技术实施例提供的一种半导体工业的供液系统示意图；图2是本技术另一实施例提供的另一种半导体工业的供液系统示意图；图3是本技术另一实施例提供的另一种半导体工业的供液系统示意图；图4是本技术另一实施例提供的另一种半导体工业的供液系统示意图。具体实施方式现有的供液系统中，对液体的不停机供应设计较为复杂，并且，相应的保护保障设计并不够理想。为此，本技术提供一种新的半导体工业的供液系统，以解决上述存在的不足。为更加清楚的表示，下面结合附图对本技术做详细的说明。本技术实施例提供一种半导体工业的供液系统，请参考图1，系统包括：前端三通阀150，前端三通阀150的输入端用于连接前段液体供应管路；主缓冲容器110，主缓冲容器110的输入端连接前端三通阀150的第一输出端；辅缓冲容器120，辅缓冲容器120的输入端连接前端三通阀150的第二输出端；后端三通阀160，后端三通阀160的第一输入端连接主缓冲容器110的输出端，后端三通阀160的第二输入端连接辅缓冲容器120的输出端；使用端控制阀170，使用端控制阀170的输入端连接后端三通阀160的输出端；第一主液体传感器111，设置于主缓冲容器110的顶部液位线(如图1中的虚线所示，未标注)下边缘；第二主液体传感器112本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种半导体工业的供液系统，其特征在于，包括：/n前端三通阀，所述前端三通阀的输入端用于连接前段液体供应管路；/n主缓冲容器，所述主缓冲容器的输入端连接所述前端三通阀的第一输出端；/n辅缓冲容器，所述辅缓冲容器的输入端连接所述前端三通阀的第二输出端；/n后端三通阀，所述后端三通阀的第一输入端连接所述主缓冲容器的输出端，所述后端三通阀的第二输入端连接所述辅缓冲容器的输出端；/n使用端控制阀，所述使用端控制阀的输入端连接所述后端三通阀的输出端；/n第一主液体传感器，设置于所述主缓冲容器的顶部液位线下边缘；/n第二主液体传感器，设置于所述主缓冲容器的底部液位线上边缘；/n第一辅液体传感器，设置于所述辅缓冲容器的顶部液位线下边缘；/n第二辅液体传感器，设置于所述辅缓冲容器的底部液位线上边缘。/n

【技术特征摘要】
1.一种半导体工业的供液系统，其特征在于，包括：
前端三通阀，所述前端三通阀的输入端用于连接前段液体供应管路；
主缓冲容器，所述主缓冲容器的输入端连接所述前端三通阀的第一输出端；
辅缓冲容器，所述辅缓冲容器的输入端连接所述前端三通阀的第二输出端；
后端三通阀，所述后端三通阀的第一输入端连接所述主缓冲容器的输出端，所述后端三通阀的第二输入端连接所述辅缓冲容器的输出端；
使用端控制阀，所述使用端控制阀的输入端连接所述后端三通阀的输出端；
第一主液体传感器，设置于所述主缓冲容器的顶部液位线下边缘；
第二主液体传感器，设置于所述主缓冲容器的底部液位线上边缘；
第一辅液体传感器，设置于所述辅缓冲容器的顶部液位线下边缘；
第二辅液体传感器，设置于所述辅缓冲容器的底部液位线上边缘。


2.一种半导体工业的供液系统，其特征在于，包括：
前端三通阀，所述前端三通阀的输入端用于连接前段液体供应管路；
主缓冲容器，所述主缓冲容器的输入端连接所述前端三通阀的第一输出端；
辅缓冲容器，所述辅缓冲容器的输入端连接所述前端三通阀的第二输出端；
主后端控制阀，所述主后端控制阀的输入端连接所述主缓冲容器的输出端；
辅后端控制阀，所述辅后端控制阀的输入端连接所述辅缓冲容器的输出端；
使用端控制阀，所述使用端控制阀的输入端连接所述主后端控制阀的输出端和所述辅后端控制阀的输出端；
第一主液体传感器，设置于所述主缓冲容器的顶部液位线下边缘；
第二主液体传感器，设置于所述主缓冲容器的底部液位线上边缘；
第一辅液体传感器，设置于所述辅缓冲容器的顶部液位线下边缘；
第二辅液体传感器，设置于所述辅缓冲容器的底部液位线上边缘。


3.一种半导体工业的供液系统，其特征在于，包括：
主前端控制阀，所述主前端控制阀的输入端用于连接第一前段液体供应管路；
辅前端控制阀，所述辅前端控制阀的输入端用于连接第二前段液体供应管路；
主缓冲容器，所述主缓冲容器的输入端连接所述主前端控制阀的输出端；
辅缓冲容器，所述辅缓冲容器的输入端连接所述辅前端控制阀的输出端；
后端三通阀，所述后端三通阀的第一输入端连接所述主缓冲容器的输出端，所述后端三通阀的第二输入端连接所述辅缓冲容器的输出端；
使用端控制阀，所述使用端控制阀的输入端连接所述后端三通阀的输出端；
第一主液体传感器，设置于所述主缓冲容器的顶部液位线下边缘；

【专利技术属性】
技术研发人员：尹安和，
申请(专利权)人：芯米厦门半导体设备有限公司，
类型：新型
国别省市：福建;35