一种亚光透明釉瓷片的制造方法技术

本发明专利技术提供一种亚光透明釉瓷片的制造方法，制造方法包括素坯经淋底釉→印花→淋亚光透明釉→烧成→磨边→成品，亚光透明釉原料按重量百分比计为：熔块80～93％、煅烧氧化锌3～11％、气刀土4～8％、甲基纤维素0.1～0.4％、三聚磷酸钠0.2～0.6％；所述熔块原料如下：方解石、碳酸钡、碳酸锶、钾长石、高岭土、纯碱、石英砂、白云石。本发明专利技术获得的亚光透明釉瓷片不添加二氧化锆，透明性较好，煅烧氧化锌用于调节釉的膨胀以达到调节砖型的目的，气刀土提升釉的悬浮性和粘性。本发明专利技术亚光透明釉烧成后光泽度为5～20°，釉面平滑，可以把印花层置于亚光透明釉下面，保护印花层免于刮花，也可以把亚光透明釉层用于抛光。

【技术实现步骤摘要】
一种亚光透明釉瓷片的制造方法
本专利技术属于陶瓷建筑装饰材料领域，具体涉及一种亚光透明釉瓷片的制造方法。
技术介绍
瓷片是瓷砖中的一种陶质砖，有内墙砖、釉面砖等多种叫法。瓷片属于陶质砖，吸水率在10％～20％间，目前市面上吸水率普遍在16％左右，主要使用场所是室内。传统的釉面砖因面釉配方种类的限制，按光泽来分类通常有亮光和亚光两种光泽效果的釉面砖，其中亮光釉面砖的光泽度在90-98°之间，亚光釉面砖的光泽度在10-30°之间。瓷片亮光产品目前市场上占主流，但亚光釉面砖产品因其平滑而不光亮慢慢受到广大消费者的喜爱。CN102531696A公开了一种钛锶哑光釉，它是以97％的熔块与3％的高岭土配合成釉，其熔块所用原料的化学组成按重量份数如下：锂瓷石粉3-15份、钾长石粉1-5份、滑石粉18-30份、石英粉20-30份、碳酸钙4-22份、锆英粉5-20份、氧化锌6-20份、硝酸钾10-20份、碳酸锶20-30份、钛白粉15-36份、氧化铝粉12-24份。所述钛锶亚光釉以97％的熔块与3％的高岭土配合成釉，烧制成的哑光釉釉面质感好，白度超过82，烧成范围宽、生产易控制。但相对的亚光透明釉市场上非常少见，主要受限于亚光与透明釉是一对矛盾体，亚光属慢反射，需要存在一定的乳浊相，乳浊相反过来又会影响透明效果，亚光瓷片要调透明性就要减少乳浊相如二氧化锆等，但是二氧化锆的降低会导致釉强度与热稳定性都会降低，而且容易透墨、砖型反翘。
技术实现思路
针对现有亚光透明釉瓷片存在的上述不足，本专利技术的目的在于提供一种亚光透明釉瓷片的制造方法，包括步骤素坯经淋底釉→印花→淋亚光透明釉→烧成→磨边→成品，获得的亚光透明釉瓷片不添加二氧化锆，透明性较好，且釉强度与热稳定性良好，可调节砖型。为实现上述目的，本专利技术提供的技术方案如下：一种亚光透明釉瓷片的制造方法，包括如下步骤：S1.素坯经淋底釉；S2.印花；S3.施亚光透明釉，将釉均匀施到底釉上，淋釉时釉比重1.7～2.0g/m3，釉量400～800g/m2；所述亚光透明釉原料按重量百分比计为：熔块80～93％、煅烧氧化锌3～11％、气刀土4～8％、甲基纤维素0.1～0.4％、三聚磷酸钠0.2～0.6％；所述熔块原料按重要百分比计如下：方解石13～17％、碳酸钡10～14％、碳酸锶1～3％、钾长石20～26％、高岭土23～27％、纯碱1.5～4％、石英砂15～19％、白云石2～5％；所述熔块的制备：称取原料，原料混合后加入熔块炉经1400～1600℃煅烧熔融，再流出熔块炉水淬制备而成；S4.烧成，烧成温度1050～1200℃、烧成周期40～60分钟，烧成后光泽度为5～20°；S5.磨边，制成成品。本专利技术亚光透明釉原料采用熔块占比80～93％，外加煅烧氧化锌与气刀土构成，重量百分比为熔块80～93％、煅烧氧化锌3～11％、气刀土4～8％。本亚光透明釉为了增加透明度不添加二氧化锆；外加煅烧氧化锌用于调节釉的膨胀以达到调节砖型的目的，煅烧氧化锌可以降低釉的膨胀系数，另有增白、提高釉的热稳定性的作用；外加气刀土用于调节釉的悬浮性和粘性。本专利技术亚光透明釉的烧成温度是基于亚光透明釉原料的选择进行长期的实验和各成分在烧制过程中的反应而研究出的，尤其是本专利技术中不含有二氧化锆，需针对原料的各成分的特性，调整烧制温度和时间，以获得良好的釉的性能。在本专利技术中，优选地，所述亚光透明釉化学组成为：SiO2为48～53％、Al2O3为13.5～15％、MgO为0.8～1.5％、CaO为7.3～11.7％、Na2O为1.0～2.4％、K2O为2.9～3.5％、SrO2为0.8～2.4％、BaO为7.7～11.6％、ZnO为3～11％，灼减为0.9～1.5％，Fe2O3+TiO2小于0.5％。在本专利技术中，所述S2与S3的顺序可以互换，即先施亚光透明釉再印花。本专利技术可以把印花层置于亚光透明釉下面，保护印花层免于刮花，也可以把亚光透明釉层用于抛光。在本专利技术中，优选地，S2所述的印花为喷墨印花、辊筒印花、丝网印花中的一种或两种以上混合。具体印花操作可采用本领域常规技术手段，优选喷墨印花。在本专利技术中，优选地，所述熔块的化学组成为：SiO2为51～58％、Al2O3为13～15.5％、MgO为0.9～1.7％、CaO为8.5～13％、Na2O为1.1～2.8％、K2O为3～4％、SrO2为1～2.6％、BaO为9～13％、灼减为0.～0.3％，Fe2O3+TiO2小于0.5％。在本专利技术中，优选地，所述亚光透明釉的制备方法为：将原料混合均匀，然后加入水球磨8～12小时，得到釉浆，釉浆过筛球磨得釉料，釉料过80～120目筛，然后陈腐12～48小时备用。具体地，所述水的加入量为原料干料重量的38～40％，釉浆过筛球磨的工艺为：釉浆先过80～120目筛，再用300～350目筛过筛，筛余控制在0.1～0.6％，视最终筛余情况进一步球磨。筛余大时加大球磨时间，筛余小时减少球磨时间。在制备亚光透明釉的过程中，需确保釉料的细度。釉料粉碎过细，则釉浆粘力过大，含水量过多，在干燥的坯体施釉后，釉面容易发生龟裂，釉层翘起与坯体脱离等现象。如果施釉较厚，这种缺陷更明显。但如釉料的粉碎不足，则釉浆粘附力过小，釉中的组分容易沉降。而且釉层与坯体的附着不牢固。在本专利技术中，优选地，S2所述淋釉时，釉比重1.7～2.0g/m3，流速35～40秒，釉量400～800g/m2。在上釉时要适当选择釉浆的浓度。釉浆的浓度过低，则在坯体上容易形成釉层的过薄，造成烧成制品釉面上的痕迹粗糙，而且烧后的釉面光泽不良。但如釉浆的浓度太大，不但施釉操作不易掌握，且坯体内部有棱角的地方往往上不到釉。施釉后釉面较易开裂，烧后在制品表面上可能产生堆釉等现象。上述亚光透明釉淋釉的规格，使釉料可以均匀延展开，均匀分布厚薄一致，烧制后釉面平整光滑。具体地，本专利技术所述的一种亚光透明釉瓷片的制造方法，步骤如下：a、按照熔块的原料重要百分比为：方解石13～17％、碳酸钡10～14％、碳酸锶1～3％、钾长石20～26％、高岭土23～27％、纯碱1.5～4％、石英砂15～19％、白云石2～5％；。原料经混合后，加入熔块炉经1400～1600℃煅烧熔融，再流出熔块炉水淬成熔块粒备用。b、按重量百分比称取熔块80～93％、煅烧氧化锌3～11％、气刀土4～8％、甲基纤维素0.1～0.4％、三聚磷酸钠0.2～0.6％，水份按干料重量的39％，球磨8～12小时，得到釉浆，釉浆先过80～120目筛，再用325目筛测筛余控制在0.1～0.6％，视最终325目筛余情况，球磨时间适当调整，筛余大时加大球磨时间，筛余小时减少球磨时间。筛余合格后，釉料出球过80～120目筛陈腐12～48小时备用。c、素坯经施底釉后印花。d、素坯印花后，淋或喷亚光透明面釉，淋釉时釉比重1.7～2.0g/m3，流速35～40秒，釉量400～800g/m2；烧成，烧成温度1050～1200℃、烧成周期40本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种亚光透明釉瓷片的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：/nS1.素坯经淋底釉；/nS2.印花；/nS3.施亚光透明釉，将釉均匀施到底釉上，淋釉时釉比重1.7～2.0g/m

【技术特征摘要】
1.一种亚光透明釉瓷片的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：
S1.素坯经淋底釉；
S2.印花；
S3.施亚光透明釉，将釉均匀施到底釉上，淋釉时釉比重1.7～2.0g/m3，釉量400～800g/m2；
所述亚光透明釉原料按重量百分比计为：熔块80～93％、煅烧氧化锌3～11％、气刀土4～8％、甲基纤维素0.1～0.4％、三聚磷酸钠0.2～0.6％；所述熔块原料按重要百分比计如下：方解石13～17％、碳酸钡10～14％、碳酸锶1～3％、钾长石20～26％、高岭土23～27％、纯碱1.5～4％、石英砂15～19％、白云石2～5％；所述熔块的制备：称取原料，原料混合后加入熔块炉经1400～1600℃煅烧熔融，再流出熔块炉水淬制备而成；
S4.烧成，烧成温度1050～1200℃、烧成周期40～60分钟，烧成后光泽度为5～20°；
S5.磨边，制成成品。


2.根据权利要求1所述亚光透明釉瓷片的制造方法，其特征在于，所述亚光透明釉化学组成为：SiO2为48～53％、Al2O3为13.5～15％、MgO为0.8～1.5％、CaO为7.3～11.7％、Na2O为1.0～2.4％、K2O为2.9～3.5％、SrO2为0.8～2.4％、BaO为7.7～11.6％、ZnO为3～11％，灼减为0.9～1.5％，Fe2O3+TiO2小于0.5％。


3.根据权利要求1所述亚光透明釉瓷片的制造方法，其特征在于，所述S2与S3的顺序互换，即先施亚光透明釉再印花。
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【专利技术属性】
技术研发人员：叶德林，韦前，李辉，黄诗程，谢石长，
申请(专利权)人：佛山市三水新明珠建陶工业有限公司，广东新明珠陶瓷集团有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44