【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及陶瓷，具体涉及一种立雕釉、仿真石瓷砖及其制备方法。
技术介绍
1、目前在瓷砖行业中，柔抛型仿真石瓷砖产品因其表面质感温润，釉面柔和而备受欢迎，这类产品一般是采用光泽度在30°左右的表釉面设置并辅助纤维模块处理，又或者是采用后期抛光打蜡处理制备得到。然而这类仿真石瓷砖无法达到传统仿真石瓷砖的细腻纹路，并且具有不耐刮，不防污的缺陷，无法使用在一些厨卫等容易受到刮擦或者藏污纳垢的环境内。
技术实现思路
1、基于现有技术存在的缺陷，本专利技术的目的在于提供了一种立雕釉，该产品基于其特殊的化学组成，应用在制备仿真石瓷砖时具有理想的立体雕纹效果，纹路细腻，石材仿真度高；同时所述产品耐磨性高，表面污渍可轻松去除，防污效果好。
2、为了达到上述目的，本专利技术采取的技术方案为：
3、一种立雕釉，包括以下质量百分含量的化学成分；
4、al2o3 18.12～20.15％、sio2 50.14～53.51％、k2o 0.81～1.55％、na2o3.59～5.85％、cao 6.32～8.28％、mgo 3.82～5.65％、sro 3.16～5.45％、bao1.12～2.36、zno3.86～5.45％，余量为灼减及部分微量成分。
5、优选地，所述立雕釉，包括以下重量份的制备原料：
6、钠长石20～35份、煅烧高岭土5～10份、煅烧氧化锌4～8份、碳酸锶5～10份、含镁熔块3～10份、煅烧氧化铝3～6份、含钙熔块5～15份、
7、优选地，所述立雕熔块，包括以下质量百分含量的化学成分：al2o317.56～22.12％、sio2 48.14～53.51％、k2o 0.51～1.55％、na2o 2.89～4.35％、cao7.12～9.68％、mgo 2.82～4.15％、zno 2.86～4.45％、bao 8.19～10.54％。
8、本专利技术所述立雕釉中，引入氧化锌和氧化锶作为特定的透光度及晶体质感的改善成分，同时控制二氧化硅的相对含量，可有效提升产品表面纹路的清晰度和发色效果，同时由于含有高含量的氧化镁、氧化钙和氧化钡，在应用于瓷砖烧制制备时，整体配方的溶剂效果好，所得釉面通透度更高，耐磨性好，并且釉面在经过抛光后可兼顾防污效果。
9、而在选择制备原料制备立雕釉时，一方面以碳酸锶作为烧结助熔剂降低整体物料的烧成温度，优化配方的高温流动性，配合锌源可提升整体釉面的平整度和细腻度；另一方面，制备原料中的钙和镁含量设置在较高水平，可使得这两种元素在烧结过程中形成钙镁长石晶相，进一步提高物料高温环境下的流动性与反应活性；此外，三种熔块在烧结过程可形成微小晶体，保障釉面在烧制时具有抗热塑性，并且降低釉面的毛孔和排气等问题，最终实现立体雕纹效果，并且可显著提升防污效果。
10、优选地，所述含钙熔块，包括以下质量百分含量的化学成分：al2o316.58～19.94％、sio2 54.34～58.65％、k2o 1.65～2.56％、na2o 2.35～3.58％、cao16.62～18.50％，余量为灼减及部分微量成分。
11、优选地，所述含镁熔块，包括以下质量百分含量的化学成分：al2o313.45～15.64％、sio2 50.24～56.67％、k2o 2.14～3.15％、na2o 3.85～5.35％、mgo15.87～19.54％，余量为灼减及部分微量成分。
12、优选地，所述立雕釉的化学成分还包括2～10％的灼减及部分微量成分。
13、本专利技术的另一目的在于提供一种仿真石瓷砖，包括本专利技术所述立雕釉。
14、优选地，所述仿真石瓷砖包括坯体层、面釉层、立雕釉层，所述立雕釉层包括本专利技术所述立雕釉。
15、优选地，所述面釉层，包括以下质量百分含量的化学成分：al2o322.56～26.12％、sio2 56.14～62.51％、k2o 1.11～1.85％、na2o 3.89～4.85％、cao0.32～1.88％、mgo0.82～2.15％、zro2 4.86～7.5％，余量为灼减及部分微量成分。
16、优选地，所述面釉层，包括以下重量份的制备原料：钾长石6～12份、煅烧高岭土8～15份、钠长石30～40份、石英5～15份、煅烧氧化铝8～15份、硅酸锆7～15份、烧滑石3～5份、白云石1～5份、霞石8～12份。
17、为了配合本专利技术所述立雕釉，在设置仿真石瓷砖的面釉层时，引入氧化锌可提升釉料的烧制温度范围兼容性，煅烧氧化铝和煅烧高岭土的复配提升整体物料的起始熔融温度，避免面釉层在烧制过程中过早熔融封闭进而造成气体排出不及时，提升整体瓷砖的致密度和细腻度，产品纹路效果更好，且耐磨性更高；此外氧化锌还可以提升釉料熔融后的粘度，使得熔料在物料表面排气后及时填充至空隙当中，最终提升产品的耐污效果，不会出现表面藏污纳垢的情况。
18、优选地，所述面釉层的成分还包括2～10％的灼减及部分微量成分。
19、更优选地，所述微量成分包括氧化锌和氧化钡。
20、优选地，所述仿真石瓷砖还包括设置在面釉层和立雕釉层间的喷墨印花层。
21、本专利技术所述仿真石瓷砖上通过在面釉层和立雕釉层间设置喷墨印花层，可以使得仿真石瓷砖在烧制过程中利用油性排墨的原理使得形成的仿真石材图案更加清晰细腻，甚至在特定图案下可呈现出天然石材上独有的蜘蛛网裂纹效果，观赏性显著提升。
22、本专利技术的另一目的在于提供所述仿真石瓷砖的制备方法，包括以下步骤：
23、设置坯体层；
24、设置面釉层；
25、在面釉层上打印纹理效果图案，设置喷墨印花层；
26、在喷墨印花层上设置立雕釉层，得粗坯；
27、将粗坯烧制，随后抛光处理，即得所述仿真石瓷砖。
28、本专利技术所述仿真石瓷砖在制备过程中，预先在面釉层上打印效果纹理图案设置喷墨印花层，并在该层上设置立雕釉层，这样就可以在产品烧制过程中利用物理排墨的效果使得图案呈现出理想的剥开效果，使得上下层尤其是立雕釉层与图案充分融合，在实现耐磨、易清洁性能的前提下保障产品的石材纹路和立体效果达到预期。
29、优选地，所述坯体层，包括以下重量份的制备原料：
30、钾钠砂20～35份、球土15～25份、高岭土10～15份、膨润土5～10份、滑石4～10份、钾钠水磨料15～25份、叶蜡石3～5份、透辉石2～5份。
31、所述坯体层的制备方法为：将各制备原料球磨、过筛后，粉颗粒输送到压机压制成坯体，所述坯体进入140～160℃的干燥窑干燥40～60min，坯体出干燥窑，在表面喷洒20～30g/2的水，即得所述坯体层。
32、优选地，所述面釉层设置通过布施面釉料浆实现；
33、更优选地，所述面釉料浆的制备方法为：本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种立雕釉，其特征在于，包括以下质量百分含量的化学成分；
2.如权利要求1所述立雕釉，其特征在于，包括以下重量份的制备原料：
3.如权利要求2所述立雕釉，其特征在于，所述立雕熔块，包括以下质量百分含量的化学成分：Al2O3 17.56～22.12％、SiO2 48.14～53.51％、K2O0.51～1.55％、Na2O 2.89～4.35％、CaO 7.12～9.68％、MgO 2.82～4.15％、ZnO2.86～4.45％、BaO 8.19～10.54％，余量为灼减及部分微量成分。
4.如权利要求2所述立雕釉，其特征在于，所述含钙熔块，包括以下质量百分含量的化学成分：Al2O3 16.58～19.94％、SiO2 54.34～58.65％、K2O1.65～2.56％、Na2O 2.35～3.58％、CaO 16.62～18.50％，余量为灼减及部分微量成分。
5.如权利要求2所述立雕釉，其特征在于，所述含镁熔块，包括以下质量百分含量的化学成分：Al2O3 13.45～15.64％、SiO2 50.24～56.67％、K2O
6.一种仿真石瓷砖，其特征在于，包括权利要求1～5任一项所述立雕釉。
7.如权利要求6所述仿真石瓷砖，其特征在于，所述仿真石瓷砖包括坯体层、面釉层、立雕釉层，所述立雕釉层包括所述立雕釉；所述面釉层，包括以下质量百分含量的化学成分：Al2O3 22.56～26.12％、SiO2 56.14～62.51％、K2O1.11～1.85％、Na2O 3.89～4.85％、CaO0.32～1.88％、MgO 0.82～2.15％、ZrO24.86～7.5％，余量为灼减及部分微量成分。
8.如权利要求7所述仿真石瓷砖，其特征在于，所述面釉层，包括以下重量份的制备原料：钾长石6～12份、煅烧高岭土8～15份、钠长石30～40份、石英5～15份、煅烧氧化铝8～15份、硅酸锆7～15份、烧滑石3～5份、白云石1～5份、霞石8～12份。
9.如权利要求6所述仿真石瓷砖，其特征在于，所述仿真石瓷砖还包括设置在面釉层和立雕釉层间的喷墨印花层。
10.如权利要求6～9任一项所述仿真石瓷砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
...【技术特征摘要】
1.一种立雕釉，其特征在于，包括以下质量百分含量的化学成分；
2.如权利要求1所述立雕釉，其特征在于，包括以下重量份的制备原料：
3.如权利要求2所述立雕釉，其特征在于，所述立雕熔块，包括以下质量百分含量的化学成分：al2o3 17.56～22.12％、sio2 48.14～53.51％、k2o0.51～1.55％、na2o 2.89～4.35％、cao 7.12～9.68％、mgo 2.82～4.15％、zno2.86～4.45％、bao 8.19～10.54％，余量为灼减及部分微量成分。
4.如权利要求2所述立雕釉，其特征在于，所述含钙熔块，包括以下质量百分含量的化学成分：al2o3 16.58～19.94％、sio2 54.34～58.65％、k2o1.65～2.56％、na2o 2.35～3.58％、cao 16.62～18.50％，余量为灼减及部分微量成分。
5.如权利要求2所述立雕釉，其特征在于，所述含镁熔块，包括以下质量百分含量的化学成分：al2o3 13.45～15.64％、sio2 50.24～56.67％、k2o2.14～3.15％、na2o 3.85～5....
【专利技术属性】
技术研发人员：黄春林，田冲，谢石长，李辉，黄诗程，徐童，朱少强，王秀芬，
申请(专利权)人：佛山市三水新明珠建陶工业有限公司，
类型：发明
国别省市：
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