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基于N型金属氧化物半导体管结构的微电场传感器制造技术

技术编号:2634313 阅读:181 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种用于采集电场信号的基于N型金属氧化物半导体管结构的微电场传感器,包括p型衬底,在衬底上设有共平面的两个重掺杂的n型接触区,在重掺杂的n型接触区上为金属引线,在这两个重掺杂的n型接触区之间设有n型沟道且分别与之相连,在n型接触区及n型沟道的表面设有SiO↓[2]层;本发明专利技术具有如下优点:利用掺杂半导体中电荷的漂移原理,静态地感应电场,当有外电场入射电场微传感器的n型沟道时,沟道电流会随入射电场的增大而增大,因此可以实现高可靠性、高分辨率的电场微传感器。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于采集电场信号的传感器,尤其涉及一种基于N型金属氧化物半导体管结构的微电场传感器
技术介绍
现有的电场微传感器的感应原理主要是动态感应的原理,即使用谐振结构交替地阻挡感应电场的导体,从而产生感应电流。这种动态感应的电场微传感器的主要缺陷是(1)由于微谐振结构对工艺线要求较高,并且活动结构的封装较困难,因此使用这种结构的电场微传感器其可靠性较差。(2)采用动态感应电场的原理使得其分辨率不高(目前报道的最高分辨率为630V/m)。
技术实现思路
本专利技术提供一种灵敏度高、可靠性高的基于N型金属氧化物半导体管结构的微电场传感器。本专利技术采用如下技术方案一种用于采集电场信号的基于N型金属氧化物半导体管结构的微电场传感器,包括p型衬底,在衬底上设有共平面的两个重掺杂的n型接触区,在重掺杂的n型接触区上为金属引线,在这两个重掺杂的n型接触区之间设有n型沟道且分别与之相连,在n型接触区及n型沟道的表面设有SiO2层。与现有技术相比,本专利技术具有如下优点(1)本专利技术利用掺杂半导体中电荷的漂移原理(正电荷沿电场方向运动,负电荷逆电场方向运动),静态地感应电场,从而提高了本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于采集电场信号的基于N型金属氧化物半导体管结构的微电场传感器,包括p型衬底(1),其特征在于在衬底(1)上设有共平面的两个重掺杂的n型接触区(3),在重掺杂的n型接触区(3)上为金属引线(5),在这两个重掺杂的n型接触区之间设有n型沟道(2)且分别与之相连,在n型接触区(3)及n型沟道(2)的表面设有SiO↓[2]层(4)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:黄庆安王立峰秦明
申请(专利权)人:东南大学
类型:发明
国别省市:84[中国|南京]

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