层叠体、其制造方法和电子设备技术

本发明专利技术提供降低了金属特有的光泽所致的晃眼(反射率)的层叠体、其制造方法和电子设备。一种层叠体(1)，其由透明的基板、在基板上形成的金属层(20)、和在金属层(20)的至少一个面上以与面接触的方式形成的金属化合物层(30a、30b)构成。金属层(20)具备至少一层电阻率为1.0μΩ·cm～10μΩ·cm金属的层、或以金属作为主要成分的合金的层，且电阻率为10μΩ·cm以下，金属化合物层(30a、30b)由透明氧化物半导体物质、与至少一种以上的具有与锌(Zn)同等以上的氧化物生成自由能的金属的混合物构成。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及能够用于电子设备和光学设备用的金属电极等、且包含金属和导电性金属化合物的层叠体、其制造方法和电子设备。
技术介绍
对于用于使用了液晶、有机EL等的各种电子设备的电极(包括提高导电性的辅助电极)而言，近年来，特别是设置在显示元件等的前面的作为输入输出装置的触摸传感器等的大型化正在进行。触摸传感器(面板)中所含的检测电极、配线电极、连接电极之中，特别是对于检测电极而言，如果触摸传感器大型化，则电阻成分增大，因此越来越需要电阻更低的电极。以往，触控面板用的电极通过使用以In、Zn、Sn、Ti等作为主要成分的氧化物半导体等透明度高的导电性金属氧化物来确保显示的可视性。但是，透明度高的导电性金属氧化物在降低电阻值方面存在极限，难以达到近年来所要求的水平的低电阻。因此，作为替代材料，要求可通过微细图案化来确保可视性的低电阻金属的实用化。并且，对于触控面板等在显示元件的前面配置有带电极的基板的电子设备而言，不妨碍显示的可视性成为必要条件，因此，对于电极，要求遮蔽、散射、杂散光、反射等要尽可能地少。但是，现有的由导电性金属氧化物构成的电极仅通过置换为金属会因金属特有的高反射率而产生晃眼(ギラツキ)，因此需要使反射率降低。另外，由电阻尽可能低的且能够电连接的导电体构成这一点很重要。对于反射率低的金属，存在有钼(Mo)、铬(Cr)、钛(Ti)、钽(Ta)、钨(W)或其合金，但这些金属属于电阻值高的类别。与此相对，银(Ag)、铝(Al)、铜(Cu)等或其合金的电阻值低，但反射率高。虽然提出了利用这些金属的特性在电阻值低且反射率高的金属之上层叠电阻值高且反射率低的金属的方法，但对于通过层叠金属来降低反射率而言，存在极限。另外，即使通过层叠金属能够一定程度地降低反射率，但各金属的蚀刻速率各自不同，因此，特别是在湿式蚀刻工序中，难以将各层一并进行微细加工。另外，如果调整成湿式蚀刻工序能够良好地实施，则反而难以充分地降低反射率。因此，作为降低反射率的方法，提出了：在金属层之上形成介电体或金属氧化物、金属氮化物、金属氧氮化物、金属碳化物层，制成2层或3层构成的方法；将低反射率的金属半透过膜配置于金属层之上，然后，形成介电体或金属氧化物、金属氮化物、金属氧氮化物、金属碳化物层的方法(例如专利文献1～7)。即，在专利文献1中，公开了一种透明导电性膜，其为在基材上形成由氮化铜和氧构成的黑化层作为等离子显示器用防电磁波膜功能膜而成的层叠体，该透明导电性膜不会因配线部的金属光泽反射光而使得在触控面板下配置的显示器的可视性降低。在专利文献2中，公开了一种膜状触控面板传感器，其通过在设置于膜上的条纹或网格状的铜配线的可视侧形成黑色的氧化铜被膜，由此抑制来自配线的反射。在专利文献3中，公开了一种低电阻的触控面板传感器，其通过在绝缘基材上形成由金属材料构成的传感器电极、和在传感器电极上形成的由无机氧化物材料构成的兼具密合层的吸收层，由此能够进行高精细的蚀刻。在专利文献4中，公开了：在透明基板上层叠由选自介电性物质、金属、金属的合金、金属的氧化物、金属的氮化物、金属的氧氮化物和金属的碳化物组成的组中的一种以上构成的作为黑化层的吸收层、和包含选自Ni、Mo、Ti、Cr、Al、Cu、Fe、Co、V、Au和Ag中的一种以上的导电层，由此改善了导电层的可视性和对外部光的反射特性。另外，在专利文献5中，公开了在由铜镀层构成的导电体层的透明树脂基板侧设置由铜和镍和氧构成的黑化层；在专利文献6中公开了通过依次具备黑化层、金属层、基材、黑化层、金属层并且利用氮化铜构成黑化层，由此抑制了因金属光泽反射光导致的显示器的可视性降低；在专利文献7中公开了金属层使用Ni-Zn膜、导电层使用Cu膜。如此，在专利文献1～7中，作为形成吸收层的物质，公开了高折射率透明薄膜、透明导电膜、功能性透明层、金属氧化物、金属氮化物、金属氧氮化物、介电体物质等。依据专利文献1～7等的方法，可以通过黑化层或吸收层吸收由金属引起的反射，并且通过反复层叠多层，能够进一步降低反射率。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2013-169712号公报专利文献2：日本特开2013-206315号公报专利文献3：日本特开2013-149196号公报专利文献4：日本特表2013-540331号公报专利文献5：日本特开2008-311565号公报专利文献6：日本特开2013-129183号公报专利文献7：日本特开2007-308761号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题但是，专利文献1～7的吸收层或黑化层中所使用的物质在可视区域的折射率(n)为1.4～2.5左右、消光系数(k)为0.01～0.25，因此，吸收层或黑化层为吸收少的透明的薄膜或层。因此，出于降低可视区域的反射率的目的，即使将专利文献1～7的吸收层或黑化层层叠于金属层的表面，也会因光的干渉而产生可视区域的反射率的极大或极小而产生干涉色，并且不能得到所期待程度的反射率降低的效果。另外，在专利文献1～7中，为了将各层反复层叠，各层的蚀刻速率之差增大，对选择物质产生限制。专利文献1～7的吸收层或黑化层为金属化合物薄膜，因此产生如下现象：在图案化工序中，不能与金属层一并地进行蚀刻，需要与金属层不同的蚀刻剂，或者，即使能够进行蚀刻，金属层与金属化合物层的蚀刻速率也不一致，层叠构成中的某一方的膜变为过蚀刻或欠蚀刻，微细图案的形成不能如想象的那样。另外，作为吸收层或黑化层，在使用除了作为透明氧化物半导体物质的透明导电膜以外的金属化合物的情况下，根据吸收层或黑化层的导电性的有无或值，有时需要在与其它连接电极的连接中增加工序、或需要改变膜构成，在用作电极的情况下，产生限制。本专利技术是鉴于上述课题而完成的，本专利技术的目的在于提供一种层叠体、其制造方法和电子设备，所述层叠体降低了因金属特有的光泽导致的晃眼(反射率)。本专利技术的其它目的在于提供一种层叠体、其制造方法和电子设备，所述层叠体以较少的层构成、将可视区域内的金属的反射率尽可能降低为平缓(フラット)的反射率而形成目视黑化的色调，即使在层叠为层状的状态下也能够一并地利用湿式蚀刻形成微细图案、且具备具有与低电阻的金属层相对应的导电性的最佳吸收层。用于解决问题的手段上述课题通过本专利技术的层叠体得以解决，所述层叠体由透明的基板、在该基板上形成的金属层、和在该金属层的至少一个面上以与该面接触的方式形成的金属化合物层构成，上述金属层具备本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种层叠体，其特征在于，由透明的基板、在该基板上形成的金属层、和在该金属层的至少一个面上以与该面接触的方式形成的金属化合物层构成，所述金属层具备至少一层电阻率为1.0μΩ·cm～10μΩ·cm的金属的层、或以该金属作为主要成分的合金的层，所述金属层的电阻率为10μΩ·cm以下，所述金属化合物层由透明氧化物半导体物质、与至少一种以上的具有与锌(Zn)同等以上的氧化物生成自由能的金属的混合物构成。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.06.18 JP 2014-1254221.一种层叠体，其特征在于，由透明的基板、在该基板上形成的金属层、和在该金属层
的至少一个面上以与该面接触的方式形成的金属化合物层构成，
所述金属层具备至少一层电阻率为1.0μΩ·cm～10μΩ·cm的金属的层、或以该金属
作为主要成分的合金的层，所述金属层的电阻率为10μΩ·cm以下，
所述金属化合物层由透明氧化物半导体物质、与至少一种以上的具有与锌(Zn)同等以
上的氧化物生成自由能的金属的混合物构成。
2.如权利要求1所述的层叠体，其特征在于，所述金属层是所述至少一层的所述合金的
层与异种金属层层叠而成，该异种金属层由与作为所述合金的层的主要成分的所述金属种
类不同的金属构成。
3.如权利要求2所述的层叠体，其特征在于，所述金属层是通过将
由铜(Cu)、铝(Al)、银(Ag)或这些金属的合金构成的单一的层、
与选自由钼(Mo)层、钼合金层、铝(Al)层、铝合金层组成的组中的两层或三层
层叠而成。
4.如权利要求1～3中任一项所述的层叠体，其特征在于，所述金属化合物层在可视区
域(400～700nm)内的折射率(n)为2.0～2.8、消光系数(k)为0.6～1.6。
5.如权利要求1～4中任一项所述的层叠体，其特征在于，所述金属化合物层由一种或
两种透明氧化物半导体物质和具有与锌(Zn)同等以上的氧化物生成自由能的金属的混合
物所构成的层构成，所述透明氧化物半导体物质为氧化铟(In2O3)、氧化锌(ZnO)或氧化锡
(SnO2)、或者以氧化铟(In2O3)、氧化锌(ZnO)或氧化锡(SnO2)作为主要成分并含有添加物。
6.如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：伊东孝洋，大津良太，
申请(专利权)人：吉奥马科技有限公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP