晶硅炉的成型炉底以及晶硅炉制造技术

本实用新型专利技术涉及晶硅炉的成型炉底以及晶硅炉，其中，所述成型炉底包括：桶状本体，所述本体的环形侧壁上沿所述侧壁的圆周方向设置有两对以上排废口，其中每对排废口相对设置，并且所述排废口贯通所述环形侧壁；多个封堵，多个所述封堵分别用于堵塞所述排废口并保留其中的一对排废口开放。本实用新型专利技术实施例的晶硅炉的成型炉底，延长了使用寿命，进而降低了成本。

【技术实现步骤摘要】
晶硅炉的成型炉底以及晶硅炉
本技术涉及太阳能电池
，具体涉及一种晶硅炉的成型炉底以及晶硅炉。
技术介绍
如图1所示，目前晶硅炉的成型炉底的侧壁上具有2个排废口，炉内包含硅蒸汽的高温气流对排废口腐蚀性较为严重，排废口处的老化速率相较成型炉底的其它部位较快，一旦排废口老化严重，成型炉底的保温作用会大幅降低，因此排废口老化严重后，虽然成型炉底其它部位仍为良好状态，但成型炉底需整体报废，造成了浪费，增加了成本。
技术实现思路
为解决上述技术问题，本技术的一个目的在于提供一种晶硅炉的成型炉底，该晶硅炉的成型炉底延长了使用寿命，进而降低了成本。本技术的另一个目的在于提供一种包括上述晶硅炉的成型炉底的晶硅炉。为达到上述目的，本技术采用如下技术方案：根据本技术第一方面实施例的晶硅炉的成型炉底，所述成型炉底包括：桶状本体，所述本体的环形侧壁上沿所述侧壁的圆周方向设置有两对以上排废口，其中每对排废口相对设置，并且所述排废口贯通所述环形侧壁；多个封堵，多个所述封堵分别用于堵塞所述排废口并保留其中的一对排废口开放。优选地，所述排废口在所述本体的侧壁的圆周方向上均匀分布。优选地，包括两对排废口，所述两对排废口中的一对排废口之间的连线与另一对排废口之间的连线相互垂直。优选地，所述封堵为固化碳毡制件。优选地，所述成型炉底还包括密封件，所述密封件设在所述封堵与所述排废口之间以密封所述封堵与所述排废口之间的间隙。优选地，所述密封件为石墨纸制件。>优选地，所述成型炉底还包括一套保护件，所述一套保护件形成为环形且分别嵌入在开放的一对所述排废口内。优选地，所述保护件为毡环。根据本技术第二方面实施例的晶硅炉，包括上述任一实施例所述的晶硅炉的成型炉底。本技术的有益效果在于：通过晶硅炉的成型炉底的本体的侧壁上沿侧壁的圆周方向设置有两对以上排废口，多个封堵分别堵塞排废口并保留其中的一对排废口开放，当开放的一对排废口老化较为严重时，将成型炉底的其它一对排废口作为开放的排废口，从而本技术实施例的晶硅炉的成型炉底延长了使用寿命，进而降低了成本。上述说明仅是本技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本技术的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本技术的较佳实施例并配合附图详细说明如后。附图说明图1为现有的晶硅炉的成型炉底的侧壁的结构示意图；图2为本技术实施例的晶硅炉的成型炉底的部分结构示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例，对本技术的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例仅用于说明本技术，但不用来限制本技术的范围。如图2所示，根据本技术实施例的晶硅炉的成型炉底，包括桶状本体和多个封堵10，其中，本体的环形侧壁20上沿侧壁20的圆周方向设置有两对以上排废口21，每对排废口21相对设置，并且排废口21贯通环形侧壁20，多个封堵10分别用于堵塞排废口21并保留其中的一对排废口21开放。具体地，晶硅炉的成型炉底位于晶硅炉的炉体的内侧的底端，晶硅炉的炉体的底端形成有两个相对设置的废气口，工作时，多个封堵10将成型炉底的本体的侧壁20上的多个排废口21堵塞并保留其中的一对排废口21开放，开放的一对排废口21分别与炉体上的两个废气口相对应，晶硅炉中的包含硅蒸汽的高温气流从晶硅炉的成型炉底的开放的一对排废口21再经由炉体上的两个废气口排出，当开放的一对排废口21受高温气流的腐蚀老化较严重时，将成型炉底进行旋转，将其它一对排废口21与炉体上的两个废气口相对应作为开放的排废口21。通过晶硅炉的成型炉底的本体的侧壁20上沿侧壁20的圆周方向设置有两对以上排废口21，多个封堵10分别堵塞排废口21并保留其中的一对排废口21开放，当开放的一对排废口21老化较为严重时，将成型炉底的其它一对排废口21作为开放的排废口21，从而本技术实施例的晶硅炉的成型炉底延长了使用寿命，进而降低了成本。根据本技术的一些实施例，排废口21在本体的侧壁20的圆周方向上均匀分布。优选地，成型炉底包括两对排废口21，两对排废口21中的一对排废口21之间的连线与另一对排废口21之间的连线相互垂直。晶硅炉的成型炉底既延长了使用寿命，又确保了成型炉底的保温效果。根据本技术的一些实施例，封堵10为固化碳毡制件，从而确保了成型炉底的保温效果。根据本技术的一些实施例，成型炉底还包括密封件，密封件设在封堵10与排废口21之间以密封封堵10与排废口21之间的间隙。具体的，密封件可以包覆于封堵10的侧面以密封封堵10与排废口21之间的间隙，当然，密封件也可以位于封堵10的部分侧面以密封封堵10与排废口21之间的间隙，以使未开放的排废口21严密的堵塞，从而防止包含硅蒸汽的高温气流对其腐蚀，且进一步确保了成型炉底的保温效果。优选地，密封件为石墨纸制件，以确保未开放的排废口21严密的堵塞。根据本技术的一些实施例，成型炉底还包括一套保护件30，一套保护件30形成为环形且分别嵌入在开放的一对排废口21内。可以将现有的排废口21的直径扩大，环形的保护件30的外径略小于排废口21的直径，一套保护件30包括有两个，两个保护件30分别嵌入在开放的一对排废口21内，工作时包含硅蒸汽的高温气流对保护件30进行腐蚀，且当保护件30老化较为严重时仅更换保护件30即可，较大的降低了开放的排废口21的老化的速度，进一步的延长了晶硅炉的成型炉底的使用寿命，进而进一步降低了成本。优选地，保护件30为毡环。在一些实施例中，还包括上述本技术实施例的晶硅炉的成型炉底的晶硅炉，降低了生产成本，具体地，晶硅炉的成型炉底位于晶硅炉的炉体的内侧的底端，且成型炉底的环形侧壁20的外壁与晶硅炉的炉体的内侧相配合，晶硅炉的炉体的底端形成有两个相对设置的废气口，工作时，成型炉底的开放的一对排废口21分别与炉体上的两个废气口相对应。以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。以上所述实施例仅表达了本技术的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对技术专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本技术构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本技术的保护范围。因此，本技术专利的保护范围应以所附权利要求为准。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种晶硅炉的成型炉底，其特征在于，所述成型炉底包括：/n桶状本体，所述本体的环形侧壁上沿所述侧壁的圆周方向设置有两对以上排废口，其中每对排废口相对设置，并且所述排废口贯通所述环形侧壁；/n多个封堵，多个所述封堵分别用于堵塞所述排废口并保留其中的一对排废口开放。/n

【技术特征摘要】
1.一种晶硅炉的成型炉底，其特征在于，所述成型炉底包括：
桶状本体，所述本体的环形侧壁上沿所述侧壁的圆周方向设置有两对以上排废口，其中每对排废口相对设置，并且所述排废口贯通所述环形侧壁；
多个封堵，多个所述封堵分别用于堵塞所述排废口并保留其中的一对排废口开放。


2.根据权利要求1所述的晶硅炉的成型炉底，其特征在于，所述排废口在所述本体的侧壁的圆周方向上均匀分布。


3.根据权利要求2所述的晶硅炉的成型炉底，其特征在于，包括两对排废口，所述两对排废口中的一对排废口之间的连线与另一对排废口之间的连线相互垂直。


4.根据权利要求1所述的晶硅炉的成型炉底，其特征在于，所述封堵为固化...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵贝，王宗均，李伟，
申请(专利权)人：邢台晶龙电子材料有限公司，
类型：新型
国别省市：河北;13