一种用于单晶硅片的清洗沥干装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种用于单晶硅片的清洗沥干装置，包括清洗箱，所述清洗箱内部底端两侧分别开设有沥干槽和超声波清洗槽。本实用新型专利技术在进行清洗和沥干时先把硅片放置到清洗框内部，再通过控制面板启动移动机构带动电动伸缩杆、清洗框移动到超声波清洗槽上端，再通过控制面板启动电动伸缩杆并带动清洗框往下移动，且使清洗框与超声波清洗槽内部接触进行超声波清洗，当清洗完成后在通过电动伸缩杆带动清洗框上移动并与超声波清洗槽内部分离，再通过控制面板启动移动机构把清洗框移动到沥干槽上端，再启动电动伸缩杆使清洗框移动到沥干槽内部，再通过控制面板同时启动电动风机对放置在清洗框内部的硅片进行沥干即可。

【技术实现步骤摘要】
一种用于单晶硅片的清洗沥干装置
本技术涉及单晶硅片
，具体为一种用于单晶硅片的清洗沥干装置。
技术介绍
单晶硅片，硅的单晶体，是一种具有基本完整的点阵结构的晶体，不同的方向具有不同的性质，是一种良好的半导材料，用于制造半导体器件、太阳能电池等，用高纯度的多晶硅在单晶炉内拉制而成；传统的一种用于单晶硅片的清洗沥干装置存在以下不足；目前，单晶硅片在生产时需要使用到很多的步骤，而在对单晶硅片进行清洗沥干时都是分开操作的缺少防护性。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种用于单晶硅片的清洗沥干装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种用于单晶硅片的清洗沥干装置，包括清洗箱，所述清洗箱内部底端两侧分别开设有沥干槽和超声波清洗槽，所述清洗箱内部上端中部之间固定设置有导杆，所述导杆左侧固定设置有移动机构，所述移动机构底端固定设置有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆底端固定设置有清洗框，所述沥干槽内部两侧均开设有凹槽，所述凹槽内部上端与下端均固定设置有安装架，所述安装架在远离凹槽的一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于单晶硅片的清洗沥干装置，包括清洗箱（3），其特征在于：所述清洗箱（3）内部底端两侧分别开设有沥干槽（9）和超声波清洗槽（10），所述清洗箱（3）内部上端中部之间固定设置有导杆（1），所述导杆（1）左侧固定设置有移动机构（2），所述移动机构（2）底端固定设置有电动伸缩杆（4），所述电动伸缩杆（4）底端固定设置有清洗框（6），所述沥干槽（9）内部两侧均开设有凹槽（13），所述凹槽（13）内部上端与下端均固定设置有安装架（14），所述安装架（14）在远离凹槽（13）的一侧之间均固定设置有电动风机（7），所述清洗箱（3）外部右侧上端固定设置有控制面板（12），所述控制面板（12）通过导线分...

【技术特征摘要】
1.一种用于单晶硅片的清洗沥干装置，包括清洗箱（3），其特征在于：所述清洗箱（3）内部底端两侧分别开设有沥干槽（9）和超声波清洗槽（10），所述清洗箱（3）内部上端中部之间固定设置有导杆（1），所述导杆（1）左侧固定设置有移动机构（2），所述移动机构（2）底端固定设置有电动伸缩杆（4），所述电动伸缩杆（4）底端固定设置有清洗框（6），所述沥干槽（9）内部两侧均开设有凹槽（13），所述凹槽（13）内部上端与下端均固定设置有安装架（14），所述安装架（14）在远离凹槽（13）的一侧之间均固定设置有电动风机（7），所述清洗箱（3）外部右侧上端固定设置有控制面板（12），所述控制面板（12）通过导线分别与移动机构（2）、电动伸缩杆（4）和电动风机（7）电性连接。


2.根据权利要求1所述的一种用于单晶硅片的清洗沥干装置，其特征在于：所述清洗箱（3）外部左侧中上端开设有通槽且通槽内部固定...

【专利技术属性】
技术研发人员：王德喜，
申请(专利权)人：天津莱昌电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：天津;12