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本实用新型公开了一种用于单晶硅片的清洗沥干装置，包括清洗箱，所述清洗箱内部底端两侧分别开设有沥干槽和超声波清洗槽。本实用新型在进行清洗和沥干时先把硅片放置到清洗框内部，再通过控制面板启动移动机构带动电动伸缩杆、清洗框移动到超声波清洗槽上端，...
该专利属于天津莱昌电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过天津莱昌电子科技有限公司授权不得商用。

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