焊料微凸点阵列制备方法技术

技术编号:26225015 阅读:79 留言:0更新日期:2020-11-04 11:00
本发明专利技术涉及芯片封装领域,具体涉及一种焊料微凸点阵列制备方法,包括如下步骤:贴焊片,将焊片贴合在载板上;切割,在焊片上切割出焊料柱阵列;剥离,将多余的焊片撕掉或剥离,只留下焊料柱阵列;倒装焊接,焊料柱阵列转移到需制作凸点面阵的焊盘上;回流,对带有焊料柱阵列的焊盘进行回流,使焊料柱阵列熔化成球,形成规则的焊料凸点阵列。本发明专利技术的优点在于:该方法工艺简单,效率高,灵活方便,可适用各种型号焊料,无需特制微球,成本低,不仅适用于晶圆整体制作,对划切好的芯片,转接板同样适用,而且无需特制植球模板,可大规模应用。

【技术实现步骤摘要】
焊料微凸点阵列制备方法
本专利技术涉及芯片封装领域,具体涉及一种焊料微凸点阵列制备方法。
技术介绍
为了满足未来电子元器件,分系统和整机小型化,高集成化的要求,亟需发展倒装芯片、堆叠芯片或器件、嵌入器件或多层封装的组合技术来实现高的组装密度和功能密度。而倒装芯片、芯片堆叠等先进组装技术多采用面阵凸点互联工艺,其具有节省面积、减少引线长度、有利于散热、提高性能和减小体积等优点,是一项具有高度技术竞争力和发展潜力的封装技术。因此,要发展微系统先进组装技术,首先要实现互联面阵凸点制作技术。而焊料微凸点是最常用的凸点形式,性能可靠,成本低。倒装芯片、芯片堆叠等互联采用的面阵凸点,尺寸通常在200μm以下,有些甚至在100μm以下。对这个尺寸量级的焊料微凸点,目前凸点制作方式主要有激光植球和机械印刷两类,激光植球是用激光将单颗锡球加热融化,然后喷射到芯片或陶瓷转接板对应的PAD上,喷射过程中自然冷却,然后固化在芯片或陶瓷转接板PAD上。激光植球速度慢(0.1-0.2秒/个),不同球径需要不同尺寸的漏斗,漏斗经常被激光照射,导致漏斗口烧蚀严重,经常本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种焊料微凸点阵列制备方法,其特征在于:包括如下步骤:/ns1、贴焊片:/n将焊片(2)贴合在载板(1)上;/ns2、切割:/n在焊片(2)上切割出焊料柱阵列(21);/ns3、剥离:/n加工后的焊料柱阵列(21)形成孤岛,将多余的焊片(2)撕掉或剥离,只留下焊料柱阵列(21);/ns4、倒装焊接:/n将载板(1)与需制作凸点面阵的焊盘(3)进行对准并进行倒装焊接,将焊料柱阵列(21)转移到需制作凸点面阵的焊盘(3)上;/ns5、回流:/n对带有焊料柱阵列(21)的焊盘(3)进行回流,使焊料柱阵列(21)熔化成球,形成规则的焊料凸点阵列(22)。/n

【技术特征摘要】
1.一种焊料微凸点阵列制备方法,其特征在于:包括如下步骤:
s1、贴焊片:
将焊片(2)贴合在载板(1)上;
s2、切割:
在焊片(2)上切割出焊料柱阵列(21);
s3、剥离:
加工后的焊料柱阵列(21)形成孤岛,将多余的焊片(2)撕掉或剥离,只留下焊料柱阵列(21);
s4、倒装焊接:
将载板(1)与需制作凸点面阵的焊盘(3)进行对准并进行倒装焊接,将焊料柱阵列(21)转移到需制作凸点面阵的焊盘(3)上;
s5、回流:
对带有焊料柱阵列(21)的焊盘(3)进行回流,使焊料柱阵列(21)熔化成球,形成规则的焊料凸点阵列(22)。


2.根据权利要求1所述的焊料微凸点阵列制备方法,其特征在于:在进行步骤s1贴焊片之前,需对原材料进行处理,即准备所需型号和厚度的焊片(2),裁切成所需尺寸,保证焊片平整,准备所需形状和尺寸的载板(1),对表面进行清洁处理。


3.根据权利要求1所述的焊料微凸点阵列制备方法,其特征在于:步骤s1中,在清洁的载板(1)上涂抹粘结剂,通过高速甩胶或刮平使其铺展充分和均匀,将平整的焊片(2)贴合在载板(1)上。


4.根据权利要求1所述的焊料微凸点阵列制备方法,其特征在于:步骤s2中,用紫外、或CO2、或皮秒激光加工设备按设计图形在焊片(2)上切割出设计尺寸的焊料柱阵列(21)。


5.根据权利要求1所述的焊料微凸点阵...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘建军胡海霖郭育华张孔王运龙
申请(专利权)人:中国电子科技集团公司第三十八研究所
类型:发明
国别省市:安徽;34

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