【技术实现步骤摘要】
一种低辐射玻璃制备用真空磁控溅射镀膜机
本专利技术涉及一种镀膜机，具体涉及一种低辐射玻璃制备用真空磁控溅射镀膜机。
技术介绍
玻璃镀膜机在架体上部设有作为动力源的电机减速器，包括导轨、滚珠丝杠、滑座、滚轮及螺母，滚珠丝杠一端与电机减速器相连接，另一端插在架体底部的轴承座内，滑座通过螺母连接在滚珠丝杠上，滑座上设有滚轮，导轨固装在架体上，滚轮配合连接在导轨上，滑座上设有安装底座，其内部开有通孔，带有滚轮的滚轮支座插在安装底座通孔的一端，调整螺母螺纹连接在安装底座通孔的另一端，在滚轮支座与调整螺母之间设有弹性体，保险顶丝穿过调整螺母插在安装底座的通孔内。真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最...
【技术保护点】
1.一种低辐射玻璃制备用真空磁控溅射镀膜机，包括底座，底座上设有呈并排布置的氩离子辐射室与磁控溅射室，氩离子辐射室的前侧设有进料口，磁控溅射室的后侧设有出料口，氩离子辐射室与磁控溅射室之间设有输送口；/n其特征在于：底座的前部设有放卷机构，底座的后部设有收卷机构，所述放卷机构包括第一支撑架，第一支撑架安装在底座上，第一支撑架的顶部两侧均设有第一定位筒，第一定位筒之间设有第一安装轴，第一安装轴的外周面套装有放卷滚筒；所述收卷机构包括第二支撑架，第二支撑架安装在底座上，第二支撑架的顶部两侧均设有第二定位筒，第二定位筒之间设有第二安装轴，第二安装轴的外周面套装有收卷滚筒，收卷滚筒...
【技术特征摘要】
1.一种低辐射玻璃制备用真空磁控溅射镀膜机，包括底座，底座上设有呈并排布置的氩离子辐射室与磁控溅射室，氩离子辐射室的前侧设有进料口，磁控溅射室的后侧设有出料口，氩离子辐射室与磁控溅射室之间设有输送口；
其特征在于：底座的前部设有放卷机构，底座的后部设有收卷机构，所述放卷机构包括第一支撑架，第一支撑架安装在底座上，第一支撑架的顶部两侧均设有第一定位筒，第一定位筒之间设有第一安装轴，第一安装轴的外周面套装有放卷滚筒；所述收卷机构包括第二支撑架，第二支撑架安装在底座上，第二支撑架的顶部两侧均设有第二定位筒，第二定位筒之间设有第二安装轴，第二安装轴的外周面套装有收卷滚筒，收卷滚筒与放卷滚筒之间卷绕有输送皮带，输送皮带穿过进料口、出料口以及输送口；第二支撑架的中间位置外侧部位置设有电机座，电机座上设有驱动电机，驱动电机的前部设有驱动轴，驱动轴的前端与收卷滚筒的端部连接；
氩离子辐射室内安装有氩离子辐射机构，氩离子辐射机构包括氩离子激光器与水平移动架，水平移动架的底面设有一排氩离子枪，氩离子枪与氩离子激光器通过激光电缆线连接；氩离子枪安装在输送皮带的上方；
磁控溅射室的内部设有磁控溅射壳，磁控溅射壳的底面设有磁控溅射枪，磁控溅射枪安装在输送皮带的上方；磁控溅射室的顶部设有真空泵。
2.根据权利要求1所述的低辐射玻璃制备用真空磁控溅射镀膜机，其特征在于：氩离子辐射室的内部设有一对呈水平布置的导向轴，水平移动架的两侧套装在导向轴的外周面，氩离子辐射室的侧部位置设有呈水平布置的导向管，导向管内套装有推拉轴，推拉轴的外端为自由端，推拉轴的内端与水平移动架连接。
3.根据权利要求2所述的低辐射玻璃制备用真空磁控溅射镀膜机，其特征在于：推拉轴的内端与水平移动架之间设有弯曲部；推拉轴的外端设有推拉...
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