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本发明涉及一种低辐射玻璃制备用真空磁控溅射镀膜机，包括底座，底座上设有呈并排布置的氩离子辐射室与磁控溅射室，氩离子辐射室的前侧设有进料口，磁控溅射室的后侧设有出料口，氩离子辐射室与磁控溅射室之间设有输送口；底座的前部设有放卷机构，底座的后部...
该专利属于童玲所有，仅供学习研究参考，未经过童玲授权不得商用。

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