一种高利用率宽面矩形阴极靶及其提高利用率的方法技术

本发明专利技术提供了一种宽面高利用率矩形阴极靶，包括软铁底板及设置在软铁底板上的中心磁钢，包围中心磁钢的同向多道环形磁钢。环形磁钢的磁场面与软铁底板呈10‑15°的倾角；最外环形跑道磁钢与中心磁钢等高，且由外向内环形跑道磁钢按照每道3㎜的阶梯降低；环形跑道磁钢的宽度由外向内逐渐变小。本发明专利技术设计的宽面矩形阴极靶的磁场布置可使平面溅射靶材的利用率到50%以上。将上述宽面矩形阴极靶在初次溅射使用后，将未溅射区域和已溅射区域靶材切割分离，未溅射区域按上述宽面矩形阴极靶的结构拼接后可以再次用作磁控溅射靶材，使靶材的利用率提高到80%以上，不仅提高了镀膜效率，而且极大的节约了资源。

【技术实现步骤摘要】
一种高利用率宽面矩形阴极靶及其提高利用率的方法
本专利技术涉及一种用于磁控溅射和电弧离子镀膜的矩形阴极，尤其涉及一种的高利用率宽面矩形阴极，本专利技术同时还涉及该提高宽面矩形阴极高利用率的方法，属于真空镀膜领域。
技术介绍
随着能源和资源消耗的加剧，人们对于能源和资源的节约意识逐渐增加，新型的防腐和减磨耐磨技术不断出现，用来降低能源和资源的消耗和浪费。表面处理技术如电镀、微弧氧化、等离子喷涂等技术被广泛应用于材料的防腐保护和摩擦系数的降低。物理气相沉积技术，如电弧离子镀和磁控溅射等，相对于电镀和微弧氧化，作为一类本身就是无污染的绿色表面处理技术，受到越来越广泛的重视和大面积的应用。但是，传统的平面阴极靶材利用率只有30-40%，其余的材料被当做废品处理，造成了资源的损失。如何进一步提高平面阴极的利用率成为当前的技术挑战。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种宽面矩形阴极靶，以提高平面阴极靶的利用率。本专利技术的另一目的是提供一种提高上述宽面矩形阴极靶利用率的方法。一种宽面矩形阴极靶，包括软铁底板及本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种宽面矩形阴极靶，其特征在于：包括软铁底板及设置在软铁底板上的中心磁钢，包围中心磁钢的环形跑道磁钢，且中心磁钢与环形跑道磁钢为异向。/n

【技术特征摘要】
1.一种宽面矩形阴极靶，其特征在于：包括软铁底板及设置在软铁底板上的中心磁钢，包围中心磁钢的环形跑道磁钢，且中心磁钢与环形跑道磁钢为异向。


2.如权利要求1所述一种宽面矩形阴极靶，其特征在于：所述环形跑道磁钢的磁场面与软铁底板呈10-15°的倾角。


3.如权利要求1所述一种宽面矩形阴极靶，其特征在于：所述环形跑道磁钢有多道，且环形跑道磁钢均为同向。


4.如权利要求3所述一种宽面矩形阴极靶，其特征在于：最外环形跑道磁钢与中心磁钢等高，且由外向内环形跑道磁钢按照每道3mm的阶梯降低，且保持...

【专利技术属性】
技术研发人员：张斌，高凯雄，贾倩，张俊彦，强力，
申请(专利权)人：中国科学院兰州化学物理研究所，
类型：发明
国别省市：甘肃;62