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玻璃微流控芯片的制备方法技术

技术编号:2621521 阅读:159 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
玻璃微流控芯片的制备方法,涉及一种微流控芯片。提供一种新的玻璃微流控芯片的制备方法。将在具有微凹槽结构的原始母版上的微结构转移至凝胶表面,浸于电解液中得凝胶模板;将凝胶模板置于电解池中,使具有微结构的部分暴露于液面上;在空白玻璃基片的抛光面依次溅射铬层和金层作为牺牲层,得具有金/铬牺牲层的玻璃基片,再置于凝胶模板表面,金/铬牺牲层作为工作电极,对金/铬牺牲层进行电化学刻蚀即得牺牲层上具有微通道图形的玻璃基片,再放入氢氟酸腐蚀液中湿法刻蚀,至所需深度,用王水、除铬液去除玻璃基片表面的金/铬牺牲层,得具有微凹槽结构的玻璃基片;将具有微凹槽结构的玻璃基片与另一玻璃盖片进行键合,即得玻璃微流控芯片。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
玻璃微流控芯片的制备方法,其特征在于包括以下步骤: 1)选用具有微凹槽结构的原始母版,将原始母版上的微结构转移至凝胶表面,再浸泡于电解液中,得存储有电解液的凝胶模板; 2)将存储有电解液的凝胶模板置于含有相同电解液的电解池中,使具有微结构的部分暴露于液面上; 3)在空白玻璃基片的抛光面依次溅射铬层和金层作为牺牲层,得具有金/铬牺牲层的玻璃基片,然后将具有金/铬牺牲层的玻璃基片置于凝胶模板表面,金/铬牺牲层作为工作电极,在恒定的刻蚀电压下对金/铬牺牲层进行电化学刻蚀,即得牺牲层上具有微通道图形的玻璃基片; 4)将牺牲层上具有微通道图形的玻璃基片放入氢氟酸腐蚀液中进行湿法刻蚀,刻蚀至所需深度后取出...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:叶嘉明庄金亮田昭武周勇亮汤儆
申请(专利权)人:厦门大学
类型:发明
国别省市:92[中国|厦门]

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