一种显示基板的制作方法、显示基板和显示装置制造方法及图纸

技术编号:26176091 阅读:22 留言:0更新日期:2020-10-31 14:13
本发明专利技术提供一种显示基板的制作方法、显示基板和显示装置。显示基板包括感光晶体管、氧化物晶体管和多晶硅晶体管,显示基板的制作方法包括:提供一衬底基板;在所述衬底基板上通过一次构图工艺制作所述感光晶体管的栅极层和所述多晶硅晶体管的栅极层;制作绝缘层,所述绝缘层覆盖所述感光晶体管的栅极层和多晶硅晶体管的栅极层;在所述绝缘层上通过一次构图工艺制作感光晶体管的半导体层和氧化物晶体管的半导体层;在所述感光晶体管的半导体层和所述氧化物晶体管的半导体层上制作发光单元。本申请能够节约工艺步骤,避免额外使用掩膜版而导致的成本增加。

【技术实现步骤摘要】
一种显示基板的制作方法、显示基板和显示装置
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种显示基板的制作方法、显示基板和显示装置。
技术介绍
随着屏下指纹识别技术的发展,利用晶体管的半导体层的阈值电压会随着光照条件发射偏移这一特性制作屏下指纹识别模组成为一种选择,然而相关技术中,为了制作进行指纹识别的晶体管,需要额外增加较多的工艺步骤,导致生产成本显著增加。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种显示基板的制作方法、显示基板和显示装置,以解决相关技术中具有屏下指纹识别模组的显示装置成本较高的问题。第一方面,本专利技术实施例提供了一种显示基板的制作方法,所述显示基板包括感光晶体管、氧化物晶体管和多晶硅晶体管,所述显示基板的制作方法包括以下步骤:提供一衬底基板;在所述衬底基板上通过一次构图工艺制作所述感光晶体管的栅极层和所述多晶硅晶体管的栅极层;制作绝缘层,所述绝缘层覆盖所述感光晶体管的栅极层和多晶硅晶体管的栅极层;在所述绝缘层上通过一次构图工艺制作感光晶体管的半导体层和氧化物晶体管的半导体层;本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板的制作方法,其特征在于,所述显示基板包括感光晶体管、氧化物晶体管和多晶硅晶体管,所述显示基板的制作方法包括以下步骤:/n提供一衬底基板;/n在所述衬底基板上通过一次构图工艺制作所述感光晶体管的栅极层和所述多晶硅晶体管的栅极层;/n制作绝缘层,所述绝缘层覆盖所述感光晶体管的栅极层和多晶硅晶体管的栅极层;/n在所述绝缘层上通过一次构图工艺制作感光晶体管的半导体层和氧化物晶体管的半导体层;/n在所述感光晶体管的半导体层和所述氧化物晶体管的半导体层上制作发光单元。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制作方法,其特征在于,所述显示基板包括感光晶体管、氧化物晶体管和多晶硅晶体管,所述显示基板的制作方法包括以下步骤:
提供一衬底基板;
在所述衬底基板上通过一次构图工艺制作所述感光晶体管的栅极层和所述多晶硅晶体管的栅极层;
制作绝缘层,所述绝缘层覆盖所述感光晶体管的栅极层和多晶硅晶体管的栅极层;
在所述绝缘层上通过一次构图工艺制作感光晶体管的半导体层和氧化物晶体管的半导体层;
在所述感光晶体管的半导体层和所述氧化物晶体管的半导体层上制作发光单元。


2.如权利要求1所述的显示基板的制作方法,其特征在于,所述制作绝缘层之后,还包括:
对所述绝缘层进行掺杂,以使所述感光晶体管成为耗尽型晶体管。


3.如权利要求1所述的显示基板的制作方法,其特征在于,所述在所述衬底基板上通过一次构图工艺制作感光晶体管的栅极层和多晶硅晶体管的栅极层,包括:
在所述衬底基板上通过一次构图工艺制作感光晶体管的栅极层、氧化物晶体管的栅极层和多晶硅晶体管的栅极层;
所述在所述绝缘层上通过一次构图工艺制作感光晶体管的半导体层和氧化物晶体管的半导体层之后,还包括:
制作遮光层,所述遮光层在所述衬底基板上的正投影与所述氧化物晶体管的半导体层在所述衬底基板上的正投影至少部分重叠。


4.一种显示基板,其特征在于,包括衬底基板、位于所述衬底基板上...

【专利技术属性】
技术研发人员:冯靖伊张振华
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司成都京东方光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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