【技术实现步骤摘要】
可精确定位基片架的真空室
本技术涉及磁控溅射镀膜设备领域，特别是涉及可精确定位基片架的真空室。
技术介绍
真空室是磁控溅射真空镀膜系统的主要设备，真空室的两个侧壁均设置有翻板阀，内部设置有基片架、靶材以及输送基片架的轨道。镀膜前，基片架装载需要镀膜的基片从一侧翻板阀进入到真空室内部，为了让基片架准确停留在设定的位置上，基片架需要提前减速，避免基片架在轨道停止运动时由于惯性继续向前运动。镀膜完成后，基片架装卸镀膜后的基片从另一侧翻板阀离开真空室。基片架停留在真空室内时，基片架距离翻板阀的距离不大于10mm，如果停留位置不够精确，会导致翻板阀关闭时与基片架发生碰撞。现有真空室的基片架进口处和出口处各设置有一传感器，当进口处的传感器检测到基片架进入到真空室时，在适当延时后会减小基片架的行进速度，以保证基片能够稳定停下来，但减速后的基片架行进速度还是过快，无法保证精确停靠。
技术实现思路
本申请提供了一种可精确定位基片架的真空室，解决了传统镀膜设备因基片架定位不精确导致存在与翻板阀发生碰撞的风险。一种...
【技术保护点】
1.一种可精确定位基片架的真空室，所述真空室的内部设置有基片架和输送基片架的轨道，真空室相对的两侧分别设置有供基片架进出真空室的入口和出口，其特征在于，所述基片架的行进路径上设置有第一传感组件，所述基片架具有至少两个对应所述第一传感组件的感应位，在基片架行进过程中，当所述第一传感组件检测到某感应位时，基片架减小行进速度或完全停止。/n
【技术特征摘要】
1.一种可精确定位基片架的真空室，所述真空室的内部设置有基片架和输送基片架的轨道，真空室相对的两侧分别设置有供基片架进出真空室的入口和出口，其特征在于，所述基片架的行进路径上设置有第一传感组件，所述基片架具有至少两个对应所述第一传感组件的感应位，在基片架行进过程中，当所述第一传感组件检测到某感应位时，基片架减小行进速度或完全停止。
2.根据权利要求1所述的真空室，其特征在于，所述第一传感组件为光电传感器，光电传感器的两个组件位于轨道的两侧，所述基片架上设置有触发光电传感器的缺口。
3.根据权利要求2所述的真空室，其特征在于，所述缺口的数量为两个。
4.根据权利要求1所述的真...
【专利技术属性】
技术研发人员：娄国明，来华杭，顾子莺，谢斌斌，周海龙，俞峰，
申请(专利权)人：浙江上方电子装备有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33
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