一种手机摄像头盖板镀膜方法技术

为克服现有手机摄像头盖板中存在耐磨损性能不足的问题，本发明专利技术提供了一种手机摄像头盖板镀膜方法，包括以下操作步骤：减反射层的制备：将基材置于真空条件下，通过蒸镀或溅射的方式在所述基材的表面形成多个高折射率层和多个低折射率层；抗指纹层的制备：将盖板前体置于真空条件下，通入氮气和氩气作为反应气氛，采用钛和聚四氟乙烯作为混合靶材，通过磁控溅射的方式在所述盖板前体上形成一层抗指纹层，所述混合靶材中，钛和聚四氟乙烯的摩尔比为0.1～0.3:1。本发明专利技术提供的手机摄像头盖板镀膜方法制备得到的手机摄像头盖板镀膜结构具有良好的耐摩擦性能，在持续摩擦作用下仍能保持其抗指纹特性。

【技术实现步骤摘要】
一种手机摄像头盖板镀膜方法
本专利技术属于真空镀膜工艺
，具体涉及一种手机摄像头盖板镀膜方法。
技术介绍
伴随着数字相机、行动电话、掌上型计算机(PDA)、甚至是电视游乐器等消费性电子产品的小型化与精密化，这类电子产品上通常设置有光学影像摄制组件，其内装设的光学影像摄制组件将要求具备更高的效能。在现有的电子产品设计中，为了对电子产品的摄像头进行保护，通常在摄像头的位置设置有透明盖板，透明盖板即能够保证摄像头的影像摄取，同时也起到了保护作用。为了保证透明盖板的透光性和抗油污性能，通常在透明盖板的表面设置有减反射层和抗指纹层，然而现有的减反射层和抗指纹层在经过一定时间的磨损后会失效，尤其是位于最外层的抗指纹层的磨损，会影响到摄像头的成像质量，如何提高其耐磨性能是亟需解决的问题。
技术实现思路
针对现有手机摄像头盖板中存在耐磨损性能不足的问题，本专利技术提供了一种手机摄像头盖板镀膜方法。本专利技术解决上述技术问题所采用的技术方案如下：本专利技术提供了一种手机摄像头盖板镀膜方法，包括以下操作步骤：减反射层的制备：将基材置于真空条件下，通过蒸镀或溅射的方式在所述基材的表面形成多个高折射率层和多个低折射率层，多个高折射率层和多个低折射率层相互交错层叠以形成减反射层，得到盖板前体；抗指纹层的制备：将盖板前体置于真空条件下，通入氮气和氩气作为反应气氛，采用钛和聚四氟乙烯作为混合靶材，通过磁控溅射的方式在所述盖板前体上形成一层抗指纹层，所述混合靶材中，钛和聚四氟乙烯的摩尔比为0.1～0.3:1。可选的，在“减反射层的制备”之前还包括：将所述基板置于丙酮中，超声波清洗5～15分钟；再将基板置于去离子水中，超声波清洗5～15分钟；将基板取出烘干去除表面水分。可选的，在“减反射层的制备”之前还包括：所述基板具有遮光区和用于摄像头露出的透光区，通过丝印在所述遮光区上进行油墨印刷以形成油墨层，所述透光区不进行油墨印刷，将印刷后的基板置于高温烤箱中固化。可选的，所述“减反射层的制备”中：所述高折射率层选自Nb2O5、TiO2、Ti3O5、ZrO、ZrO2中的一种或多种，所述低折射率层选自SiO2、MgF2、AlF3中的一种或多种。可选的，所述“减反射层的制备”中：所述高折射率层选自Ti3O5，所述低折射层选自SiO2，采用Ti靶材作为高折射率层的靶材，采用Si靶材作为低折射率层的靶材；将基材置于真空条件下，开启离子源轰击Ti靶材，同时通入氩气和氧气，在基材的表面溅镀形成第一Ti3O5层；持续通入氩气和氧气，开启离子源轰击Si靶材，在基材的表面溅镀形成第一SiO2层；关闭离子源，持续通入氧气，加热基材，使基材温度处于500℃～600℃，持续时间为20min；持续通入氩气和氧气，开启离子源轰击Ti靶材，在基材的表面溅镀形成第二Ti3O5层；持续通入氩气和氧气，开启离子源轰击Si靶材，在基材的表面溅镀形成第二SiO2层；关闭离子源，持续通入氧气，加热基材，使基材温度处于500℃～600℃，持续时间为20min；持续通入氩气和氧气，开启离子源轰击Ti靶材，在基材的表面溅镀形成第三Ti3O5层；持续通入氩气和氧气，开启离子源轰击Si靶材，在基材的表面溅镀形成第三SiO2层；关闭离子源，持续通入氧气，加热基材，使基材温度处于500℃～600℃，持续时间为20min。可选的，所述第一Ti3O5层的厚度为10～13nm，所述第一SiO2层的厚度为15～18nm，所述第二Ti3O5层的厚度为23～26nm，所述第二SiO2层的厚度为19～22nm，所述第三Ti3O5层的厚度为40～53nm，所述第三SiO2层的厚度为83～87nm。可选的，所述“抗指纹层的制备”中：将钛粉和聚四氟乙烯粉充分混合后压块，得到混合靶材。可选的，所述“减反射层的制备”之前，开启离子源对所述基材的表面进行轰击清洗，清洗时间为3～7min。可选的，所述抗指纹层的厚度为7～22nm。可选的，所述基板为玻璃或透明树脂。根据本专利技术提供的手机摄像头盖板镀膜方法，通过多个高折射率层和多个低折射率层交替层形成了减反射层，通过所述减反射层能够有效减少外部光线在基材表面的反射光；在进行抗指纹层的溅镀的时候，采用了钛和聚四氟乙烯作为混合靶材，同时采用了氮气和氩气作为反应气氛进行磁控溅射，进而在基材的表面形成氮化钛和聚四氟乙烯的混合溅镀层，该混合溅镀层具有较好的抗水抗油特性，能够有效避免指纹对盖板表面的污染，同时所述混合溅镀层具有良好的耐摩擦性能，在持续摩擦作用下仍能保持其抗指纹特性。具体实施方式为了使本专利技术所解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。本专利技术实施例提供了一种手机摄像头盖板镀膜结构，包括基板、减反射层和抗指纹层，所述基板具有用于摄像头露出的透光区，所述减反射层位于所述透光区的两侧表面，所述抗指纹层位于所述基板的一侧表面，且其中一个所述减反射层位于所述抗指纹层和所述基板之间，所述抗指纹层为氮化钛和聚四氟乙烯的混合溅镀层，所述抗指纹层中氮化钛和聚四氟乙烯的摩尔比为0.1～0.3：1。根据本专利技术提供的手机摄像头盖板镀膜结构，采用了氮化钛和聚四氟乙烯作为混合溅镀层，该混合溅镀层具有较好的抗水抗油特性，能够有效避免指纹对盖板表面的污染，同时所述混合溅镀层具有良好的耐摩擦性能，在持续摩擦作用下仍能保持其抗指纹特性。在一些实施例中，所述抗指纹层的厚度为7～22nm。专利技术人通过大量实验发现，当处于上述厚度下，所述抗指纹层具有较好的抗油污和耐磨损性能；若所述抗指纹层的厚度过低，则其耐磨损性能相应降低，且抗指纹层的厚度均匀性难以控制；若所述抗指纹层的厚度过高，则所述抗指纹层会对所述盖板的进光性能产生不利影响。在一些实施例中，所述基板为玻璃或透明树脂。在更优选的实施例中，所述基板选自耐高温玻璃。在一些实施例中，所述手机摄像头盖板镀膜结构还包括有油墨层，所述基板还包括有遮光区，所述遮光区环绕设置于所述透光区的外周，所述油墨层覆盖于所述遮光区的表面。在一些实施例中，所述油墨层为热固化黑色油墨。在一些实施例中，所述减反射层包括多个高折射率层和多个低折射率层，所述高折射率层的折射率大于1.9，所述低折射率层的折射率小于1.6，多个高折射率层和多个低折射率层相互交错层叠。在优选的实施例中，所述高折射率层选自Nb2O5、TiO2、Ti3O5、ZrO、ZrO2中的一种或多种，所述低折射率层选自SiO2、MgF2、AlF3中的一种或多种。在更优选的实施例中，所述高折射率层选自Ti3O5，所述低折射层选自SiO2，沿背离所述基板的方向，所述减反射层依次包括第一Ti3O5层、第一SiO2本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种手机摄像头盖板镀膜方法，其特征在于，包括以下操作步骤：/n减反射层的制备：将基材置于真空条件下，通过蒸镀或溅射的方式在所述基材的表面形成多个高折射率层和多个低折射率层，多个高折射率层和多个低折射率层相互交错层叠以形成减反射层，得到盖板前体；/n抗指纹层的制备：将盖板前体置于真空条件下，通入氮气和氩气作为反应气氛，采用钛和聚四氟乙烯作为混合靶材，通过磁控溅射的方式在所述盖板前体上形成一层抗指纹层，所述混合靶材中，钛和聚四氟乙烯的摩尔比为0.1～0.3:1。/n

【技术特征摘要】
1.一种手机摄像头盖板镀膜方法，其特征在于，包括以下操作步骤：
减反射层的制备：将基材置于真空条件下，通过蒸镀或溅射的方式在所述基材的表面形成多个高折射率层和多个低折射率层，多个高折射率层和多个低折射率层相互交错层叠以形成减反射层，得到盖板前体；
抗指纹层的制备：将盖板前体置于真空条件下，通入氮气和氩气作为反应气氛，采用钛和聚四氟乙烯作为混合靶材，通过磁控溅射的方式在所述盖板前体上形成一层抗指纹层，所述混合靶材中，钛和聚四氟乙烯的摩尔比为0.1～0.3:1。


2.根据权利要求1所述的手机摄像头盖板镀膜方法，其特征在于，在“减反射层的制备”之前还包括：
将所述基板置于丙酮中，超声波清洗5～15分钟；
再将基板置于去离子水中，超声波清洗5～15分钟；
将基板取出烘干去除表面水分。


3.根据权利要求2所述的手机摄像头盖板镀膜方法，其特征在于，在“减反射层的制备”之前还包括：
所述基板具有遮光区和用于摄像头露出的透光区，通过丝印在所述遮光区上进行油墨印刷以形成油墨层，所述透光区不进行油墨印刷，将印刷后的基板置于高温烤箱中固化。


4.根据权利要求1所述的手机摄像头盖板镀膜方法，其特征在于，所述“减反射层的制备”中：
所述高折射率层选自Nb2O5、TiO2、Ti3O5、ZrO、ZrO2中的一种或多种，所述低折射率层选自SiO2、MgF2、AlF3中的一种或多种。


5.根据权利要求4所述的手机摄像头盖板镀膜方法，其特征在于，所述“减反射层的制备”中：所述高折射率层选自Ti3O5，所述低折射层选自SiO2，采用Ti靶材作为高折射率层的靶材，采用Si靶材作为低折射率层的靶材；
将基材置于真空条件下，开启离子源轰击Ti靶材，同时通入氩气和氧气，在基材的表面溅镀形成第一Ti3O5层；
持续通入氩...

【专利技术属性】
技术研发人员：沈福根，
申请(专利权)人：深圳市锐欧光学电子有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44