【技术实现步骤摘要】
本技术属于表面分析技术和光谱
表面增强喇曼散射的巨大增强(增强因子可达106以上)。已受到人们的极大重视，并开始应用于表面分析技术及痕迹物质的检测等方面。表面增强喇曼散射分析装置中吸附衬底表面粗糙度是提高检测灵敏度的关键，当吸附衬底表面粗糙度合适时，就可得到喇曼散射的最大增强因子，从而得到最高的检测灵敏度。目前，大都采用电化学的氧化还原法来使吸附衬底表面粗糙，或作岛膜、凝胶等办法来观察表面增强喇曼散射，但这些方法均未给出衬底的最佳表面粗糙度，故得不到最高检测灵敏度。同时这些办法中有的设备复杂、价格昂贵有的性能不够稳定效果不好。已有的报导中，铜表面的最大增强也只有105。已有技术可参见Surface Enhanced Raman Scattering(Edited by R.K.Chang and T.E.Furtak)Plenum Press New York(1982)本技术的目的是提供一种用于表面增强喇曼散射测量所用装置的专用的新型吸附衬底，它具有很高的检测灵敏度，并且制作简单、价格低廉。表面增强喇曼散射测量装置及原理如附图1。图中(1)是圆形薄壁光学玻璃样品池，样品池中放入少量待分析的溶液，待测溶液的分子浓度范围一般在1×106克分子浓度至5×10－2克分子浓度(也可充入待分析的气体)，(3)为本技术吸附衬底靠溶液的表面张力贴在样品池管壁。激光束由(7)入射，测量喇曼散射时其配置为45°背散射式。来自吸附衬底表面上分子的散射光由会聚透镜(5)聚焦在双单色仪的狭缝(6)上。这种测量装置不需要加任何其它的电极和电压。操作简便。图2是衬底的图。图2a...
【技术保护点】
一种喇曼散射分析的测量装置的吸附衬底，其特征在于：铜质吸附衬底表面粗糙度为５００＊，和银质吸附衬底表面粗糙度为１０００＊。
【技术特征摘要】
1.一种喇曼散射分析的测量装置的吸附衬底，其特征在于铜质吸附衬...
【专利技术属性】
技术研发人员：莫育俊，李秀英，
申请(专利权)人：中国科学院物理研究所，
类型：实用新型
国别省市：11[中国|北京]
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